專利名稱：一種鋁箔電解腐蝕裝置的制作方法
技術(shù)領(lǐng)域：
本發(fā)明涉及一種鋁箔電解腐蝕裝置。
背景技術(shù)：
隨著電子工業(yè)的飛速發(fā)展，鋁電解電容器的應(yīng)用更加廣泛，性能要求也越 來越高。鋁電解電容器用腐蝕化成箔是電子信息產(chǎn)業(yè)基礎(chǔ)元器件類產(chǎn)品的電子 專用材料。
而現(xiàn)有的鋁箔電解腐蝕裝置，其包括盛載有腐蝕工作液的腐蝕槽體、浸漬 在腐蝕工作液中的一對相對設(shè)置的石墨電極(接通交流電源)、鋁箔傳輸機(jī)構(gòu)， 鋁箔傳輸機(jī)構(gòu)將需腐蝕的鋁箔片由下至上從一對石墨電極之間穿過，鋁箔片由 下至上在一對石墨電極之間穿行，但在由下至上的運(yùn)動(dòng)過程中，鋁箔片的橫向 上存在細(xì)微的晃動(dòng)，這個(gè)晃動(dòng)必定會(huì)導(dǎo)致鋁箔片上的腐蝕電流不穩(wěn)定，分布不 均勻。

發(fā)明內(nèi)容
為解決上述的技術(shù)問題，本發(fā)明提供了一種鋁箔電解腐蝕裝置，其包括盛 載有腐蝕工作液的腐蝕槽體、浸漬在所述腐蝕工作液中的一對相對設(shè)置的石墨 電極、鋁箔傳輸機(jī)構(gòu)，所述鋁箔傳輸機(jī)構(gòu)將需腐蝕的鋁箔片由下至上從所述一 對石墨電極之間穿過，其中，所述的一對石墨電極之間放置有懸浮于所述腐蝕 工作液上的浮動(dòng)框架，所述的浮動(dòng)框架中開設(shè)有上下貫通的、可以供所述鋁箔 片穿過的槽孔。
采用上述技術(shù)方案的鋁箔電解腐蝕裝置，石墨電極之間放置了懸浮于工作 液的浮動(dòng)框架，鋁箔傳輸機(jī)構(gòu)將需腐蝕的鋁箔片由下至上從浮動(dòng)框架中的上下 貫通的槽孔中穿過。浮動(dòng)框架可以稍微限制鋁箔片的橫向的晃動(dòng)，更重要的是 其可以跟隨鋁箔片的晃動(dòng)而移動(dòng)，從而可以使得腐蝕電流均勻地覆蓋到整個(gè)鋁 箔片的表面。
優(yōu)選的，橫向延伸的槽長比所述鋁箔片的寬度大lmm 10mm。采用這個(gè)槽寬， 橫向上，鋁箔片相對浮動(dòng)框架基本沒有相對運(yùn)動(dòng)，浮動(dòng)框架基本上能和鋁箔片 的運(yùn)動(dòng)一致，這樣能使得腐蝕電流能夠更均勻的覆蓋。


附圖1為本發(fā)明鋁箔電解腐蝕裝置的結(jié)構(gòu)示意圖； 附圖2為附圖1中A處的放大1、腐蝕槽體；2、鋁箔傳輸機(jī)構(gòu)；3、石墨電極；4、浮動(dòng)框架；41、槽孔。
具體實(shí)施例方式
以下結(jié)合附圖和實(shí)施例對本發(fā)明鋁箔電解腐蝕裝置進(jìn)行具體說明。
實(shí)施例1
附圖1為本發(fā)明鋁箔電解腐蝕裝置的結(jié)構(gòu)示意圖。 一種鋁箔電解腐蝕裝置， 其包括盛載有腐蝕工作液的腐蝕槽體1、浸漬在所述腐蝕工作液中的一對相對設(shè) 置的石墨電極3、鋁箔傳輸機(jī)構(gòu)2，所述鋁箔傳輸機(jī)構(gòu)2將需腐蝕的鋁箔片由下 至上從所述一對石墨電極3之間穿過，所述的一對石墨電極3之間放置有懸浮 于所述腐蝕工作液上的浮動(dòng)框架4，所述的浮動(dòng)框架4中開設(shè)有上下貫通的、可 以供所述鋁箔片穿過的槽孔41。
采用上述技術(shù)方案的鋁箔電解腐蝕裝置，石墨電極3之間放置了懸浮于工 作液的浮動(dòng)框架4,鋁箔傳輸機(jī)構(gòu)2將需腐蝕的鋁箔片由下至上從浮動(dòng)框架4中 的上下貫通的槽孔41中穿過。浮動(dòng)框架4可以稍微限制鋁箔片的左右晃動(dòng)，更 重要的是其可以跟隨鋁箔片的左右晃動(dòng)而移動(dòng)，從而可以使得腐蝕電流均勻地 覆蓋到整個(gè)鋁箔片的表面。
本實(shí)施例中鋁箔片橫向的寬度約為500m寬，橫向延伸的槽長比所述鋁箔片 的寬度大5mm。
本發(fā)明的鋁箔電解腐蝕裝置并不局限于上述的實(shí)施例，凡根據(jù)本發(fā)明的精 神實(shí)質(zhì)所作的等效變化或修飾，都應(yīng)涵蓋在本發(fā)明的保護(hù)范圍內(nèi)。
權(quán)利要求
1、一種鋁箔電解腐蝕裝置，其包括盛載有腐蝕工作液的腐蝕槽體(1)、浸漬在所述腐蝕工作液中的一對相對設(shè)置的石墨電極(3)、鋁箔傳輸機(jī)構(gòu)(2)，所述鋁箔傳輸機(jī)構(gòu)(2)將需腐蝕的鋁箔片由下至上從所述一對石墨電極(3)之間穿過，其特征在于所述的一對石墨電極(3)之間放置有懸浮于所述腐蝕工作液上的浮動(dòng)框架(4)，所述的浮動(dòng)框架(4)中開設(shè)有上下貫通的、可以供所述鋁箔片穿過的槽孔(41)。
2、 根據(jù)權(quán)利要求1所述的鋁箔電解腐蝕裝置，其特征在于所述的槽孔(4) 的橫向延伸的槽長比所述鋁箔片的寬度大lmm 20mm。
全文摘要
本發(fā)明公開了一種鋁箔電解腐蝕裝置，其包括盛載有腐蝕工作液的腐蝕槽體、浸漬在所述腐蝕工作液中的一對相對設(shè)置的石墨電極、鋁箔傳輸機(jī)構(gòu)，所述鋁箔傳輸機(jī)構(gòu)將需腐蝕的鋁箔片由下至上從所述一對石墨電極之間穿過，其中，所述的一對石墨電極之間放置有懸浮于所述腐蝕工作液上的浮動(dòng)框架，所述的浮動(dòng)框架中開設(shè)有上下貫通的、可以供所述鋁箔片穿過的槽孔。采用上述技術(shù)方案的鋁箔電解腐蝕裝置，浮動(dòng)框架可以稍微限制鋁箔片的橫向的晃動(dòng)，更重要的是其可以跟隨鋁箔片的晃動(dòng)而移動(dòng)，從而可以使得腐蝕電流均勻地覆蓋到整個(gè)鋁箔片的表面。
文檔編號C25F7/00GK101665975SQ20091011579
公開日2010年3月10日 申請日期2009年7月27日 優(yōu)先權(quán)日2009年7月27日
發(fā)明者鄭德良 申請人:吳江飛樂天和電子材料有限公司