專(zhuān)利名稱(chēng)：一種電鍍清洗工藝及其裝置的制作方法
技術(shù)領(lǐng)域：
本發(fā)明涉及一種電鍍后對(duì)電鍍件進(jìn)行清洗的工藝及其裝置，特別是涉及一種用微量水對(duì)電鍍件進(jìn)行水霧簾方式清洗的工藝及其裝置。
背景技術(shù)：
在電鍍生產(chǎn)過(guò)程中需對(duì)電鍍處理后的電鍍件表面進(jìn)行清洗，以達(dá)到洗凈零件表面殘留電鍍液的目的。目前采用的多道清洗法主要包括如下步驟(1)零件在電鍍槽進(jìn)行電鍍處理后置入一個(gè)盛有靜止水的清洗槽，零件在第一個(gè)清洗槽中洗去零件表面的大部分殘留電鍍液。根據(jù)清洗的情況可再增設(shè)備1-2個(gè)盛有靜止水的清洗槽進(jìn)行清洗；(2)經(jīng)過(guò)在靜止水的2-3次清洗后，零件進(jìn)入流動(dòng)水的清洗槽進(jìn)行清洗，經(jīng)過(guò)在1-2次的流動(dòng)水的清洗槽的清洗，可達(dá)到洗凈零件表面的殘留電鍍液。為減少在這種電鍍清洗工藝過(guò)程中的用水量和對(duì)環(huán)境污染，可采用將第一個(gè)盛靜止水的清洗槽的溶液通過(guò)蒸發(fā)濃縮處理后返回電鍍槽，以補(bǔ)充電鍍槽中應(yīng)電鍍處理時(shí)因蒸發(fā)而缺損的溶液量。這種利用第一個(gè)盛靜止水的清洗槽的溶液來(lái)補(bǔ)充電鍍槽水份蒸發(fā)而缺損的溶液量時(shí)，因電鍍槽處理時(shí)蒸發(fā)水份少，而第一個(gè)盛靜止水的清洗槽溶液量多，在不斷清洗的過(guò)程中第一個(gè)盛靜止水的清洗槽溶液的濃度越來(lái)越高，影響零件表面的清洗效果，增加了后道清洗的難度，只能用加大清水量和增加清洗槽數(shù)量來(lái)保證電鍍清洗要求。所以目前的多道法電鍍清洗工藝能耗大，資源消耗多，生產(chǎn)的成本高。

發(fā)明內(nèi)容
本發(fā)明的目的在于克服現(xiàn)有電鍍清洗工藝存在的不足，提供一種節(jié)能、環(huán)保、生產(chǎn)成本低的電鍍清洗工藝；本發(fā)明的另一個(gè)目的是提供一種實(shí)現(xiàn)該工藝的裝置。
本發(fā)明采取的技術(shù)方案一種電鍍清洗工藝，其特征在于如下步驟一、電鍍件從電鍍槽進(jìn)入清洗槽之前先經(jīng)過(guò)回收空槽，用微量霧化水噴射裝置對(duì)電鍍件噴射水霧簾進(jìn)行清洗，控制單位時(shí)間內(nèi)所述微量霧化水噴射裝置噴射水量與單位時(shí)間內(nèi)所述電鍍槽中電鍍液的蒸發(fā)量大體相同；二、將所述回收空槽中的回收液補(bǔ)充到所述電鍍槽中。
所述電鍍槽中電鍍液溫度大于或等于45℃，控制所述微量霧化水噴射裝置每米噴射水量為300～350ml。
所述微量霧化水噴射裝置以傾斜水平面30°的角度從上之下對(duì)電鍍件進(jìn)行噴射，控制水霧簾的高度為10cm。
一種實(shí)現(xiàn)上述電鍍清洗工藝的裝置，包括電鍍自動(dòng)線上的電鍍槽和多個(gè)清洗槽，其特征在于電鍍槽和清洗槽之間置有回收空槽，所述電鍍槽、清洗槽和回收空槽通過(guò)管線和泵相連接，所述回收空槽在槽口兩側(cè)置有至少一對(duì)微量霧化水噴射裝置。
本發(fā)明的有益效果在于，通過(guò)本發(fā)明所述電鍍清洗工藝可將電鍍件上大部分的帶出液以高濃度回收液形式回收利用，從而減少了后面的2～3道回收清洗工序由于此回收液濃度高、回收液的量與電鍍槽液蒸發(fā)消耗量基本相同，因此無(wú)需采用蒸發(fā)濃縮工序，可節(jié)約昂貴的濃縮設(shè)備和簡(jiǎn)化操作工序；由于大部分電鍍帶出液可直接回用，帶出液量大大減少，因此對(duì)排放的廢水濃度很低，減少了廢水處理費(fèi)用；本發(fā)明適用任何電鍍工藝，是一種節(jié)能、環(huán)保、生產(chǎn)成本低的電鍍清洗工藝。


圖1是電鍍清洗裝置整體結(jié)構(gòu)示意圖；圖2是回收空槽豎直平面剖視圖；具體實(shí)施方式
下面結(jié)合附圖，對(duì)本發(fā)明進(jìn)一步詳細(xì)描述如圖1所示，本發(fā)明是在電鍍自動(dòng)線的電鍍槽1后面，清洗槽3的前面先設(shè)置一個(gè)高效回收空槽2，所述回收空槽2中不灌清洗水，在回收空槽2槽口的雙側(cè)，安裝微量霧化水噴射裝置4，當(dāng)電鍍件從電鍍槽1中取出后進(jìn)入回收空槽2作下降動(dòng)作時(shí)，微量霧化噴裝置4用后面回收槽或清洗槽3中的水對(duì)著電鍍件表面以水霧簾的形式，傾斜水平面30°從下端至上端對(duì)電鍍件進(jìn)行噴射，水霧簾的高度為10cm，電鍍件的下降動(dòng)作由電鍍自動(dòng)線上的行車(chē)自動(dòng)執(zhí)行。通過(guò)這個(gè)步驟，此可將電鍍件上97％以上的帶出液以高濃度的回收液形式滴入空回收槽2的底部，此回收液可不需要蒸發(fā)濃縮而直接補(bǔ)充至前面的電鍍槽1中。當(dāng)電鍍槽液溫度在45℃以上，回收空槽2平均每1米噴霧水量為300～350ml，此用水量和電鍍槽液蒸發(fā)基本相同，此濃縮液可全部回用至電鍍槽。
如圖2所示，一種實(shí)現(xiàn)上述電鍍清洗工藝的裝置，包括電鍍自動(dòng)線上的電鍍槽1和若干清洗槽3，其特征在于電鍍槽1和清洗槽3之間置有回收空槽2，所述電鍍槽1、清洗槽3和回收空槽2通過(guò)管線和泵相連接，所述回收空槽2在槽口兩側(cè)置有微量霧化水噴射裝置4。
權(quán)利要求
1.一種電鍍清洗工藝，其特征在于如下步驟一、當(dāng)電鍍件從電鍍槽(1)進(jìn)入清洗槽(3)之前先經(jīng)過(guò)回收空槽(2)，用微量霧化水噴射裝置(4)對(duì)電鍍件噴射水霧簾進(jìn)行清洗，控制單位時(shí)間內(nèi)所述微量霧化水噴射裝置(2)噴射水量與單位時(shí)間內(nèi)所述電鍍槽(1)中電鍍液的蒸發(fā)量大體相同；二、將所述回收空槽(2)中的回收液補(bǔ)充到所述電鍍槽(1)中。
2.根據(jù)權(quán)利要求1所述的一種電鍍清洗工藝，其特征在于控制所述電鍍槽(1)中電鍍液溫度大于或等于45℃，控制所述微量霧化水噴射裝置(4)每米噴射水量為300～350ml。
3.根據(jù)權(quán)利要求1所述的一種電鍍清洗工藝，其特征在于控制所述微量霧化水噴射裝置(4)以傾斜水平面30°的角度從下端至上端對(duì)電鍍件進(jìn)行噴射，控制水霧簾的高度為10cm。
4.一種實(shí)現(xiàn)權(quán)利要求1所述電鍍清洗工藝的裝置，包括電鍍自動(dòng)線上的電鍍槽(1)和多個(gè)清洗槽(3)，其特征在于電鍍槽(1)和清洗槽(3)之間置有回收空槽(2)，所述電鍍槽(1)、清洗槽(3)和回收空槽(2)通過(guò)管線和泵相連接，所述回收空槽(2)在槽口兩側(cè)置有至少一對(duì)微量霧化水噴射裝置(4)。
全文摘要
本發(fā)明公開(kāi)了一種電鍍清洗工藝及其裝置，所述工藝包括如下步驟一、電鍍件從電鍍槽進(jìn)入清洗槽之前先經(jīng)過(guò)回收空槽，用微量霧化水噴射裝置對(duì)電鍍件噴射水霧簾進(jìn)行清洗，控制單位時(shí)間內(nèi)所述微量霧化水噴射裝置噴射水量與單位時(shí)間內(nèi)所述電鍍槽中電鍍液的蒸發(fā)量大體相同；二、將所述回收空槽中的回收液適時(shí)補(bǔ)充到所述電鍍槽中；所述裝置用于實(shí)現(xiàn)上述工藝，其特征在于電鍍槽和清洗槽之間置有回收空槽，所述電鍍槽、清洗槽和回收空槽之間通過(guò)管線和泵相連接，所述回收空槽在槽口兩側(cè)置有微量霧化水噴射裝置。本發(fā)明適用任何電鍍工藝，是一種節(jié)能、環(huán)保、生產(chǎn)成本低的電鍍清洗工藝。
文檔編號(hào)C25D21/08GK1580334SQ200410018420
公開(kāi)日2005年2月16日 申請(qǐng)日期2004年5月18日 優(yōu)先權(quán)日2004年5月18日
發(fā)明者余小東 申請(qǐng)人:上海應(yīng)用技術(shù)學(xué)院