本實(shí)用新型涉及一種改進(jìn)的燃?xì)鈾C(jī)氣缸蓋上的排氣閥閥座結(jié)構(gòu)。
背景技術(shù):
現(xiàn)有技術(shù)中,燃?xì)鈾C(jī)的氣缸蓋上的排氣閥座與氣缸蓋之間采用過(guò)盈配合,機(jī)器運(yùn)行時(shí),排氣閥座與爆炸室直接接觸,由于冷卻不均勻,長(zhǎng)期受持續(xù)高溫的影響,加之受到排氣閥的撞擊,且排氣閥座由于本身的材料性能限制,導(dǎo)致排氣閥座出現(xiàn)開(kāi)裂的現(xiàn)象,不僅縮短了其使用壽命,同時(shí)也影響機(jī)器的運(yùn)行性能。鑒于現(xiàn)有技術(shù)中存在的技術(shù)問(wèn)題,因此,迫切的需要對(duì)現(xiàn)有的排氣閥座結(jié)構(gòu)進(jìn)行優(yōu)化改進(jìn)來(lái)解決上述技術(shù)問(wèn)題。
技術(shù)實(shí)現(xiàn)要素:
本實(shí)用新型正是針對(duì)現(xiàn)有技術(shù)中存在的技術(shù)問(wèn)題,提供一種改進(jìn)的燃?xì)鈾C(jī)氣缸蓋排氣閥座,整體結(jié)構(gòu)設(shè)計(jì)巧妙,從結(jié)構(gòu)上避免了排氣閥座因高溫和排氣閥的撞擊而產(chǎn)生開(kāi)裂的現(xiàn)象,不僅延長(zhǎng)了排氣閥座的使用壽命,同時(shí)也保證了機(jī)器運(yùn)行的穩(wěn)定性。
為了實(shí)現(xiàn)上述目的,本實(shí)用新型采用的技術(shù)方案為,一種改進(jìn)的燃?xì)鈾C(jī)氣缸蓋排氣閥座,包括排氣閥座本體,在所述排氣閥座本體與氣缸蓋配合處設(shè)有冷卻水腔,在所述排氣閥座本體的上下配合位置內(nèi)側(cè)開(kāi)設(shè)有冷卻水槽,并在與所述冷卻水槽位置相對(duì)應(yīng)的所述排氣閥座本體外側(cè)開(kāi)設(shè)有密封槽,所述密封槽為矩形凹槽,所述密封槽上安裝有O型密封圈;所述排氣閥座本體的出口設(shè)置為圓臺(tái)狀。整個(gè)技術(shù)方案設(shè)計(jì)巧妙實(shí)用,有效避免了排氣閥座出現(xiàn)開(kāi)裂的現(xiàn)象,并也延長(zhǎng)了其使用壽命。
作為本實(shí)用新型的一種改進(jìn),所述排氣閥座本體下部的內(nèi)錐面傾斜角度為46度,所述圓臺(tái)狀閥座出口的高度為25~45毫米,上表面開(kāi)口直徑為75毫米,下表面開(kāi)口直徑為92.5毫米。
作為本實(shí)用新型的一種改進(jìn),所述O型密封圈采用氟橡膠制成。
作為本實(shí)用新型的一種改進(jìn), 所述密封槽設(shè)置在所述冷卻水槽的上端,且位于所述冷卻水腔的外側(cè),從而能夠有效的密封住冷卻水腔,防止?jié)B漏。
作為本實(shí)用新型的一種改進(jìn), 所述圓臺(tái)狀閥座出口的傾斜角度為60度。
相對(duì)于現(xiàn)有技術(shù),本實(shí)用新型在排氣閥座的上下配合位置內(nèi)側(cè)開(kāi)設(shè)了冷卻水槽,使得排氣閥座能夠得到快速均勻冷卻,并在外側(cè)增加了一道密封凹槽,凹槽中放置有O型密封圈將水槽上的水腔密封嚴(yán)實(shí),防止?jié)B漏,從而避免了排氣閥座因冷卻不均勻長(zhǎng)期受高溫和排氣閥的撞擊而產(chǎn)生開(kāi)裂的現(xiàn)象,不僅延長(zhǎng)了排氣閥座的使用壽命,也保證了機(jī)器運(yùn)行的穩(wěn)定性;另外,在排氣圓臺(tái)狀閥座出口處采取了斜面大傾角的結(jié)構(gòu),使得廢氣從排氣閥中排出的過(guò)程中,廢氣氣體的流動(dòng)更加平順無(wú)阻力,保證廢氣能量無(wú)較大衰減,進(jìn)而有利于對(duì)渦輪的做功。
附圖說(shuō)明
圖1為現(xiàn)有技術(shù)中排氣閥座的結(jié)構(gòu)示意圖。
圖2為含改進(jìn)后的排氣閥座的氣缸蓋部件結(jié)構(gòu)示意圖。
圖3為圖2的局部放大圖。
圖中:1-氣缸蓋,2-排氣閥,3-排氣閥座本體,4-密封槽,5-O型密封圈,6-冷卻水槽,7-圓臺(tái)狀閥座出口,8-爆炸室,9-排氣閥導(dǎo)管,10-進(jìn)氣閥導(dǎo)管,11-進(jìn)氣閥,12-進(jìn)氣閥座。
具體實(shí)施方式
為了加深對(duì)本實(shí)用新型的理解和認(rèn)識(shí),下面結(jié)合附圖對(duì)本實(shí)用新型作進(jìn)一步描述和介紹。
實(shí)施例1:如圖1—圖3,一種改進(jìn)的燃?xì)鈾C(jī)氣缸蓋排氣閥座,包括排氣閥座本體3,在所述排氣閥座本體3與氣缸蓋配合處設(shè)有冷卻水腔,在所述排氣閥座本體2的上下配合位置內(nèi)側(cè)開(kāi)設(shè)有冷卻水槽6,并在與所述冷卻水槽6位置相對(duì)應(yīng)的所述排氣閥座本體外側(cè)開(kāi)設(shè)有密封槽4,所述密封槽4為矩形凹槽,所述密封槽4上安裝有O型密封圈5;所述排氣閥座本體的出口設(shè)置為圓臺(tái)狀。
實(shí)施例2:如圖1—圖3,作為本實(shí)用新型的一種改進(jìn),所述排氣閥座本體下部的內(nèi)錐面傾斜角度為46度,所述圓臺(tái)狀閥座出口7的高度為25~45毫米,上表面開(kāi)口直徑為75毫米,下表面開(kāi)口直徑為92.5毫米。其余結(jié)構(gòu)和優(yōu)點(diǎn)與實(shí)施例1完全相同。
實(shí)施例3:如圖1—圖3,作為本實(shí)用新型的一種改進(jìn),所述O型密封圈5采用氟橡膠制成。其余結(jié)構(gòu)和優(yōu)點(diǎn)與實(shí)施例2完全相同。
實(shí)施例4:如圖1—圖3,作為本實(shí)用新型的一種改進(jìn),所述密封槽4設(shè)置在所述冷卻水槽6的上端,且位于所述冷卻水腔的外側(cè),從而能夠有效的密封住冷卻水腔,防止?jié)B漏。其余結(jié)構(gòu)和優(yōu)點(diǎn)與實(shí)施例3完全相同。
實(shí)施例5:如圖1—圖3,作為本實(shí)用新型的一種改進(jìn),所述圓臺(tái)狀閥座出口7的傾斜角度為60度。其余結(jié)構(gòu)和優(yōu)點(diǎn)與實(shí)施例4完全相同。
本實(shí)用新型還可以將實(shí)施例2、3、4、5所述技術(shù)特征中的至少一個(gè)與實(shí)施例1組合形成新的實(shí)施方式。
需要說(shuō)明的是上述實(shí)施例,并非用來(lái)限定本實(shí)用新型的保護(hù)范圍,在上述技術(shù)方案的基礎(chǔ)上所作出的等同變換或替代均落入本實(shí)用新型權(quán)利要求所保護(hù)的范圍。在權(quán)利要求中,不應(yīng)將位于括號(hào)之間的任何參考符號(hào)構(gòu)造成對(duì)權(quán)利要求的限制。單詞“包含”不排除存在未列在權(quán)利要求中的元件或步驟。