專利名稱：具有分流器閥的廢氣處理系統(tǒng)的制作方法
技術(shù)領(lǐng)域：
本發(fā)明涉及一種廢氣處理系統(tǒng)，更特別地涉及一種具有分流器閥的廢氣處理系 統(tǒng)。
背景技術(shù)：
包括柴油發(fā)動(dòng)機(jī)、汽油發(fā)動(dòng)機(jī)、氣體燃料發(fā)動(dòng)機(jī)、生物燃料發(fā)動(dòng)機(jī)和本領(lǐng)域已知的 其他發(fā)動(dòng)機(jī)的內(nèi)燃發(fā)動(dòng)機(jī)會(huì)排出空氣污染物的復(fù)雜混合物。這些氣體污染物包括氣體化合 物，例如氮氧化物(N0X)。由于環(huán)境意識(shí)增強(qiáng)，目前出臺(tái)了更嚴(yán)格的規(guī)章制度基于發(fā)動(dòng)機(jī)的 類型、尺寸和級(jí)別來限制N0X的排放。發(fā)動(dòng)機(jī)制造商可使用選擇性催化還原(SCR)來減少某些空氣污染物的排放等級(jí)。 通過在催化器上游的發(fā)動(dòng)機(jī)排出氣體中加入氣體或液體還原劑(通常是脲)來執(zhí)行SCR。 還原劑能夠在催化器上與N0X起反應(yīng)，形成H20和N2，由此降低N0X排放。盡管SCR能夠降低排放等級(jí)，但是還原劑存儲(chǔ)器可能在低溫或高溫是有問題的。 例如，脲通常在大約-10°C凍結(jié)，并且在高于大約60°C時(shí)降解。按照傳統(tǒng)方式，電加熱器可 用于解凍凍結(jié)的脲。為了防止過熱，可以將脲存儲(chǔ)器罐遠(yuǎn)離熱源(諸如發(fā)動(dòng)機(jī)缸體或廢氣 系統(tǒng))地設(shè)置。但是，需要溫度傳感器、處理器或其它控制機(jī)構(gòu)來將脲保持在適當(dāng)?shù)臏囟确?圍。在Hirata等人的于2007年4月26日公開的美國專利申請(qǐng)公開文獻(xiàn) No. 2007/0092413 (此后稱為“，413公開文獻(xiàn)”)中描述了一種設(shè)計(jì)成將還原劑溫度保持在 適當(dāng)范圍內(nèi)的系統(tǒng)?！?413公開文獻(xiàn)披露了一種還原劑加熱系統(tǒng)，其中還原劑被注射到廢氣 流中以減少N0X排放。該加熱系統(tǒng)使用發(fā)動(dòng)機(jī)冷卻劑流提供的熱量，并且熱交換機(jī)將熱量 從冷卻劑流體傳遞到容納還原劑的注射噴嘴或管道。與溫度傳感器相聯(lián)的處理器通過電子 閥控制冷卻劑流，從而將還原劑的溫度保持在適當(dāng)范圍內(nèi)。，413公開文獻(xiàn)的溫度控制系統(tǒng)很復(fù)雜并且昂貴。必須使注射噴嘴或管道變型以 適應(yīng)熱交換機(jī)，在多處位置都需要溫度傳感器，并且需要附加的計(jì)算處理以監(jiān)測溫度并通 過電子閥調(diào)節(jié)冷卻劑流。單個(gè)組成元件的失效就會(huì)使還原劑凍結(jié)或過熱。本發(fā)明旨在克服現(xiàn)有技術(shù)中的一種或多種缺陷。

發(fā)明內(nèi)容
本發(fā)明的一個(gè)方面涉及一種廢氣處理系統(tǒng)。該廢氣處理系統(tǒng)可包括能夠存儲(chǔ)還原 劑源的罐。該系統(tǒng)還可包括能夠加熱還原劑的熱源和能夠調(diào)節(jié)熱源的分流器閥。本發(fā)明的另一個(gè)方面涉及一種調(diào)節(jié)還原劑溫度的方法。該方法可包括提供還原劑 源。此外，該方法還包括使用分流器閥調(diào)節(jié)熱源，其中熱源能夠?qū)崃總鬟f到還原劑源并且 分流器閥能夠受溫度致動(dòng)。本發(fā)明的第三個(gè)方面涉及一種動(dòng)力系統(tǒng)。該動(dòng)力系統(tǒng)可包括發(fā)動(dòng)機(jī)和能夠接收來 自發(fā)動(dòng)機(jī)的廢氣流的廢氣系統(tǒng)。該動(dòng)力系統(tǒng)還可包括能夠存儲(chǔ)還原劑源的罐以及流體連接到所述罐并且能夠?qū)⑦€原劑注射到廢氣流中的注射器。而且，該動(dòng)力系統(tǒng)可包括能夠加熱 還原劑的熱源和能夠調(diào)節(jié)熱源的分流器閥。


結(jié)合入本說明書中并構(gòu)成本說明書的一部分的附圖示出了本發(fā)明的示例性實(shí)施 方式，并且和書面說明一起用于解釋本發(fā)明的系統(tǒng)的原理。圖1是根據(jù)示例性公開的實(shí)施方式的動(dòng)力系統(tǒng)的示意圖。圖2是根據(jù)示例性公開的實(shí)施方式的廢氣處理系統(tǒng)的示意圖。
具體實(shí)施例方式圖1示出了根據(jù)示例性公開的實(shí)施方式的動(dòng)力系統(tǒng)10。動(dòng)力系統(tǒng)10可包括能夠 產(chǎn)生機(jī)械動(dòng)力或電力的任何裝置或系統(tǒng)。例如，動(dòng)力系統(tǒng)10可被構(gòu)造成為公路用車輛、施 工設(shè)備或礦山設(shè)備、或者工廠或發(fā)電廠提供動(dòng)力。動(dòng)力系統(tǒng)10可以被構(gòu)造成與需要?jiǎng)恿Φ?任何合適的移動(dòng)或固定機(jī)器一起工作。如圖1所示，動(dòng)力系統(tǒng)10可包括動(dòng)力源12和廢氣系統(tǒng)13。動(dòng)力源12可包括柴油 發(fā)動(dòng)機(jī)、汽油發(fā)動(dòng)機(jī)、氣體燃料發(fā)動(dòng)機(jī)、生物燃料發(fā)動(dòng)機(jī)、或本領(lǐng)域已知的任何其它發(fā)動(dòng)機(jī)。 動(dòng)力源12還可包括多個(gè)燃燒室(未顯示)，其中每個(gè)燃燒室能夠燃燒燃料和空氣的混合物 以產(chǎn)生動(dòng)力。燃燒過程還產(chǎn)生廢氣。為了降低不期望的污染物的排放水平，可將這些廢氣與還 原劑混合。為了避免凍結(jié)或降解，還原劑的溫度應(yīng)當(dāng)保持在適當(dāng)范圍內(nèi)，在下面通過參照本 發(fā)明的系統(tǒng)和方法進(jìn)行描述。廢氣系統(tǒng)13可包括能夠接收動(dòng)力源12產(chǎn)生的廢氣的任何系統(tǒng)，例如一個(gè)或多個(gè) 廢氣通道14。廢氣通道14可包括流體連接到動(dòng)力源12的任何合適的導(dǎo)管并且能夠接收一 個(gè)或多個(gè)燃燒室產(chǎn)生的廢氣。為了減少廢氣排放，廢氣通道14可流體連接到一個(gè)或多個(gè)廢 氣處理系統(tǒng)16。廢氣處理系統(tǒng)16能夠至少部分地去除包含在廢氣中的多種燃燒產(chǎn)物。例如，廢氣 處理系統(tǒng)16可包括能夠處理動(dòng)力源12產(chǎn)生的廢氣流的一個(gè)或多個(gè)裝置。使用廢氣處理系 統(tǒng)16 (例如催化器18或過濾器20)可從廢氣至少部分地去除不期望的氣體或顆粒物質(zhì)。 在一些實(shí)施方式中，催化器18或顆粒物過濾器20可流體連接到廢氣通道14并設(shè)置在廢氣 流內(nèi)。盡管示出的廢氣處理系統(tǒng)16帶有單個(gè)催化器18和單個(gè)過濾器20，但是廢氣處理系 統(tǒng)16可包括僅一個(gè)催化器18或僅一個(gè)過濾器20，或多于一個(gè)催化器18或多于一個(gè)過濾器 20，或多于一個(gè)催化器18和多于一個(gè)過濾器20。催化器18可包括能夠?qū)U氣的一種或多種成分轉(zhuǎn)化成更能被環(huán)境接受的氣體或 化合物的任何合適的催化劑材料。有害的成分可通過任何合適的化學(xué)反應(yīng)(例如氧化或還 原反應(yīng))而被轉(zhuǎn)化。催化器18能夠方便多種反應(yīng)，例如選擇性催化還原(SCR)或氮氧化物 (N0X)的吸收。催化器18還可包括氧化催化器，例如柴油發(fā)動(dòng)機(jī)氧化催化器。氧化催化器 能夠?qū)⑻細(xì)浠衔铩⒁谎趸蓟騈0X轉(zhuǎn)化成不那么有害的產(chǎn)物。這種催化器可包含任何合 適的催化材料，例如鉬、鋁、鈀、銠、鋇、鈰、堿金屬、堿土金屬、稀土金屬、或其組合。過濾器20可包括能夠通過物理過濾方式捕獲顆粒物質(zhì)的多種設(shè)計(jì)、材料或結(jié)構(gòu)。例如，過濾器20可包括能夠保留動(dòng)力源12產(chǎn)生的各種固體燃燒產(chǎn)物(例如炭煙、煙灰、或未燃盡的碳?xì)浠衔?的任何類型的捕集器或類似裝置。過濾器20還可包括柴油發(fā)動(dòng)機(jī) 顆粒過濾器、或設(shè)計(jì)成捕集例如大約60%顆粒物質(zhì)的部分過濾器。過濾器20可包括能夠捕集廢氣中包含的顆粒物質(zhì)的過濾器介質(zhì)。過濾器介質(zhì)可 包括網(wǎng)狀材料、多孔陶瓷材料、纖維墊、或適合于捕集顆粒物質(zhì)的任何其它材料或構(gòu)造。顆 粒過濾器20可由多種材料制造，包括堇青石、碳化硅和其它高溫氧化物陶瓷。廢氣處理系統(tǒng)16還可包括涵蓋催化器18和過濾器20的特征的組合裝置(未顯 示)。例如，這種組合裝置可包括一個(gè)或多個(gè)催化顆粒過濾器，該催化顆粒過濾器可包括與 過濾器介質(zhì)集成的催化材料。具體地，催化器18可與過濾器20的介質(zhì)一起封裝、涂覆或以 其它方式相關(guān)聯(lián)，使得過濾器介質(zhì)可至少部分地由催化材料形成。廢氣處理系統(tǒng)16還可包括還原劑系統(tǒng)22。還原劑系統(tǒng)22能夠存儲(chǔ)任何合適的還 原劑，例如脲、氨、或Adblue 。還原劑系統(tǒng)22還能夠?qū)⑦€原劑注射到廢氣通道14。例如， 還原劑可被注射到催化器18或過濾器20的上游的廢氣通道14。在一個(gè)例子中，脲可被注 射到廢氣通道14中，以在催化器18上與NOx起反應(yīng)，從而降低NOx排放水平。還原劑系統(tǒng)22可包括能夠存儲(chǔ)還原劑源的一個(gè)或多個(gè)存儲(chǔ)罐24。還原劑系統(tǒng)22 還可包括能夠從罐24泵送還原劑的泵26，但是如果還原劑可通過壓力、重力、或其它方法 泵送，則泵26不是必須的。此外，還原劑系統(tǒng)22可包括能夠?qū)⑦€原劑注射到廢氣通道14 的注射器28。注射器28可流體連接到罐24或還原劑系統(tǒng)22的容納還原劑的任何組成元 件。注射器28可包括噴嘴、開口、或以其它方式構(gòu)造，以便將液體、蒸汽、或氣體形式的還原 劑與廢氣流混合。還原劑系統(tǒng)22還可包括用于保持、調(diào)節(jié)、引導(dǎo)還原劑并將還原劑注射到廢氣通道 14中的多個(gè)組成元件。例如，還原劑系統(tǒng)22可包括輔助存儲(chǔ)罐(未顯示)、傳感器(未顯 示)、或本領(lǐng)域技術(shù)人員已知的其它組成元件。一個(gè)或多個(gè)閥(未顯示)也可與還原劑系統(tǒng) 22相關(guān)聯(lián)，以調(diào)節(jié)還原劑流。還原劑系統(tǒng)22能夠承受低溫和高溫。例如，還原劑系統(tǒng)22可 被覆蓋有熱絕緣體，以輔助熱量保持。為降低排放水平，還原劑可以任何合適的流速、正時(shí)、或濃度注射到動(dòng)力源12產(chǎn) 生的廢氣流中。還原劑注射可通過控制器30來控制，該控制器30可控制還原劑系統(tǒng)22的 一個(gè)或多個(gè)組成元件的操作?？刂破?0可與廢氣處理系統(tǒng)16的一個(gè)或多個(gè)組成元件、或 動(dòng)力源12可操作地相關(guān)聯(lián)。具體地，控制器30可監(jiān)視動(dòng)力源12、監(jiān)視罐24中的還原劑的 一種或多種特性、控制泵26、監(jiān)視還原劑從罐24到注射器28的流動(dòng)、或控制注射器28?？刂破?0可具體體現(xiàn)為能夠控制一個(gè)或多個(gè)廢氣處理系統(tǒng)16的操作的單個(gè)微處 理器或多個(gè)微處理器。各種可從商業(yè)渠道獲得的微處理器可被構(gòu)造成執(zhí)行控制器30的功 能。這樣，控制器30可包括能夠控制多種機(jī)器或發(fā)動(dòng)機(jī)功能的通用機(jī)器微處理器或動(dòng)力單 元微處理器。控制器30可進(jìn)一步包括其它電氣元器件(未顯示)，例如存儲(chǔ)器、存儲(chǔ)裝置、 或處理器。其它各種已知的電路可與控制器30相關(guān)聯(lián)，包括電源電路、信號(hào)調(diào)節(jié)電路、螺線 管驅(qū)動(dòng)器電路、或通信電路?？赡苄枰芷谛缘倪€原劑加熱或冷卻來將還原劑保持在合適的溫度范圍內(nèi)。例 如，脲在低于大約-10°c的溫度會(huì)部分地凍結(jié)并且在高于大約60°C的溫度至少部分地降 解。其它還原劑也類似地要求存儲(chǔ)在合適的溫度范圍內(nèi)，以減少凍結(jié)或降解。
在一些實(shí)施方式中，熱源31可受到調(diào)節(jié)，以將還原劑保持在合適的溫度范圍內(nèi)。 熱源31可包括能夠產(chǎn)生熱量或吸收熱量的任何系統(tǒng)。例如，動(dòng)力源12能夠供熱。具體地， 動(dòng)力源12可與還原劑源22可操作地相關(guān)聯(lián)并能夠向還原劑源22提供能量。還原劑源22 還可通過電加熱、化學(xué)加熱、或本領(lǐng)域已知的任何其它方法來供熱。如圖1所示，動(dòng)力源12能夠向還原劑系統(tǒng)22提供流體流。特別地，加熱的流體可 借助一個(gè)或多個(gè)供應(yīng)管線32從動(dòng)力源12流到還原劑系統(tǒng)22的一個(gè)或多個(gè)組成元件。供 應(yīng)管線32可以是管狀的軟管或是能夠從中經(jīng)過流體的任何其它合適的管線。來自動(dòng)力源 12的加熱的流體流可借助供應(yīng)管線32流到罐24中，以加熱存儲(chǔ)在罐24中的還原劑源。來 自動(dòng)力源12或任何其它合適的源的流體流還可向泵26、注射器28、或還原劑系統(tǒng)22的任 何其它組成元件供熱。圖2示出了廢氣處理系統(tǒng)16的示例性公開的實(shí)施方式。廢氣處理系統(tǒng)16可與輸 入供應(yīng)管線32和輸出供應(yīng)管線32’相關(guān)聯(lián)。輸入供應(yīng)管線32能夠提供流體流向還原劑系 統(tǒng)22的輸入，輸出供應(yīng)管線32’能夠提供流體流從還原劑系統(tǒng)22的輸出。供應(yīng)管線32、 32’能夠從任何合適的能量源(例如動(dòng)力源12)接收任何流體流。在一些實(shí)施方式中，供應(yīng) 管線32、32’能夠從動(dòng)力源12接收發(fā)動(dòng)機(jī)冷卻劑流。如圖2所示，供應(yīng)管線32、32’可以部分地定位在罐24內(nèi)。在其它實(shí)施方式中，供 應(yīng)管線32、32’可圍繞罐24或在罐24附近流動(dòng)。供應(yīng)管線32、32’可使用各種構(gòu)造(例如 圖2中所示的螺旋構(gòu)造)將能量傳遞到罐24。此外，供應(yīng)管線32、32’可對(duì)輔助罐(未顯 示)、泵(未顯示)、注射器(未顯示)、或還原劑系統(tǒng)22的任何其它組成元件進(jìn)行加熱。罐24可包括能夠存儲(chǔ)還原劑(例如脲)源的區(qū)域34。區(qū)域34可以是取決于所需 還原劑的量的任何合適的容積。罐24還可包括提取管36，該提取管36能夠?qū)⑦€原劑從罐 24輸送到還原劑系統(tǒng)22的其它組成元件，例如注射器(未顯示)。罐24還可包括排放閥 38，該排放閥38被配置或定位成允許罐24周期性排放或重新填充。罐24還可包括分流器閥40。分流器閥40可包括能夠調(diào)節(jié)流體流的任何閥。例 如，分流器閥40可以至少部分地對(duì)流體流進(jìn)行分流，由此流體流可被分流入兩個(gè)或多個(gè)管 道。分流器閥40還可包括能夠?qū)膯蝹€(gè)輸入管線到單個(gè)輸出管線的流體流至少部分地減 少的斷流閥或類似裝置。分流器閥40可以是溫度致動(dòng)閥，其中分流器閥40可以基于溫度輸入而致動(dòng)。特 別地，分流器閥40可以接收熱能輸入并基于熱能輸入致動(dòng)輸出。這樣，分流器閥40可在沒 有任何電氣元器件(例如傳感器、控制器、或電閥)的條件下調(diào)節(jié)還原劑的溫度。在一些實(shí)施方式中，分流器閥40可在大致溫度或大致溫度范圍內(nèi)致動(dòng)。例如，分 流器閥40可在大約-10°C或大約60°C致動(dòng)。具體地，分流器閥40可在大約-10°C、大約 60°C、或在大約-10°C和大約60°C之間的任何溫度至少部分地打開或至少部分地閉合。在 一些實(shí)施方式中，分流器閥40可在大約-20°C或大約70°C致動(dòng)。分流器閥40還可根據(jù)存 儲(chǔ)在罐24中的還原劑而在任何合適的溫度或任何合適的溫度范圍內(nèi)致動(dòng)。分流器閥40可包括閥殼42、室44和頂桿46。閥殼42能夠接收來自還原劑、例如 區(qū)域34中還原劑源的能量。閥殼42還可包括能夠輔助還原劑源和閥殼42之間、或閥殼42 和室44之間的能量傳遞的導(dǎo)流板(未顯示)或其它組成元件。室44能夠接收來自閥殼42的能量。在一些實(shí)施方式中，室44包含蠟或類似的能夠經(jīng)歷相變的兩相材料。這種相變可操作用來在合適的溫度致動(dòng)分流器閥40。可選擇蠟或 類似材料以經(jīng)受相變，在合適的溫度或合適的溫度范圍內(nèi)膨脹或收縮。分流器閥40還可包括一個(gè)或多個(gè)頂桿46。頂桿46與室44可操作地相關(guān)聯(lián)，由此 室44的膨脹或收縮可使頂桿46移動(dòng)。如圖2所示，室44的膨脹可向下移動(dòng)頂桿46，而室 44的收縮可向上移動(dòng)頂桿46。頂桿46還可至少部分地調(diào)節(jié)流體流。例如，頂桿46可通過致動(dòng)閥座50內(nèi)的閥構(gòu) 件48來調(diào)節(jié)流體流。在一些實(shí)施方式中，頂桿46可物理地連接到閥構(gòu)件48。在其它實(shí)施 方式中，頂桿46通過機(jī)械系統(tǒng)或電氣系統(tǒng)(例如桿、滑輪、線、齒輪、電機(jī)、螺線管、或類似系 統(tǒng))與閥構(gòu)件48可操作地相關(guān)聯(lián)。分流器閥40還可包括與室44可操作地相關(guān)聯(lián)并能夠 調(diào)節(jié)流體流的其它組成元件。閥座50內(nèi)的閥構(gòu)件48的運(yùn)動(dòng)可與供應(yīng)管線32、32’ 一起調(diào)節(jié)流體流。如圖2所 示，閥構(gòu)件48可向上或向下運(yùn)動(dòng)，以減慢供應(yīng)管線32內(nèi)的流體流。閥構(gòu)件48還可運(yùn)動(dòng)到高 位置或低位置來接觸密封閥座50，由此阻止供應(yīng)管線32內(nèi)的流體流。閥構(gòu)件48、閥座50、 或供應(yīng)管線32、32’的其它構(gòu)造可容易地用于調(diào)節(jié)流體流。在其它實(shí)施方式中，室44可以是可膨脹的氣密室?？膳蛎浀臍饷苁?4可包括密 封室，該密封室容納能夠在不同溫度或溫度范圍膨脹或收縮的固體、液體或氣體。類似于上 述蠟閥的實(shí)施方式，可膨脹的氣密室44可與頂桿46可操作地相關(guān)聯(lián)，以致動(dòng)流體流。在另 外的實(shí)施方式中，還原劑系統(tǒng)22可包括能夠調(diào)節(jié)還原劑溫度的多個(gè)分流器閥40。工業(yè)實(shí)用性本發(fā)明提供了用于調(diào)節(jié)存儲(chǔ)在還原劑系統(tǒng)22內(nèi)的還原劑的溫度的系統(tǒng)和方法。 還原劑系統(tǒng)22可與各種動(dòng)力源12和廢氣系統(tǒng)13 —起操作，以提供用于減少還原劑凍結(jié)或 過熱的有效方法。還原劑系統(tǒng)22可包括分流器閥40，其中分流器閥40可在不同的溫度致 動(dòng)，以通常將還原劑保持在合適的溫度范圍內(nèi)。分流器閥40簡單且不那么昂貴，并且能夠 在沒有電氣元器件的條件下操作。在操作過程中，燃料和空氣可在動(dòng)力源12內(nèi)燃燒，以提供動(dòng)力和廢氣流。廢氣流 可包含空氣污染物的復(fù)雜混合物，包括N0X。隨著廢氣流流過廢氣通道14，廢氣中的N0x可 通過化學(xué)還原過程減少。具體地，還原劑可通過噴射器28噴入廢氣流中。之后廢氣和還原 劑的組合混合物流向下游到達(dá)催化器18，在催化器18處還原劑可將至少一部分N0X轉(zhuǎn)化成 N2和H20。之后還原的廢氣可通過過濾器20過濾并釋放到大氣中。還原劑系統(tǒng)22提供了用于調(diào)節(jié)還原劑溫度的改進(jìn)的系統(tǒng)和方法。傳統(tǒng)的還原劑 系統(tǒng)通常要求電加熱器、控制器、傳感器、或其它組成元件來控制還原劑的溫度。本發(fā)明提 供了不那么復(fù)雜并且不那么昂貴的系統(tǒng)來保持還原劑的溫度。在一些實(shí)施方式中，還原劑系統(tǒng)22可通常將脲的溫度保持在大約-10°C和大約 60°C之間。舉例而言，室44可包含在大約-10°C或大約60°C經(jīng)歷相變的蠟材料。初始時(shí)在 區(qū)域34中的脲可以是冷的并且需要加熱。閥40可允許加熱的流體流經(jīng)過罐24，由此對(duì)脲 進(jìn)行加熱。隨著脲的溫度升高，熱量可傳遞到室44。在大約60°C，分流器閥40可通過使閥 構(gòu)件48向下運(yùn)動(dòng)成與閥座50密封接觸來阻止加熱的流體流。閥構(gòu)件48的運(yùn)動(dòng)可通過室 44的膨脹來實(shí)現(xiàn)。室44中的蠟可由于從還原劑和閥殼42吸收熱量而膨脹。在分流器閥40在大約60°C致動(dòng)之后，供應(yīng)管線32、32’內(nèi)的加熱的流體流可減少。流體流減少導(dǎo)致傳遞到罐24中的還原劑的熱量減少。最終，罐24中的還原劑可冷卻到需 要另外加熱的時(shí)刻。在一些實(shí)施方式中，分流器閥40可在希望的溫度下逐漸增加流體流或分流器閥 40可致動(dòng)以增加流體流。例如，分流器閥40可隨著還原劑的溫度到達(dá)大約-10°C而逐漸打 開，或閥40可在大約-10°C致動(dòng)，開放加熱的流體流。在供應(yīng)管線32、32’內(nèi)的流體流恢復(fù) 之后會(huì)加熱還原劑，并且再次開始加熱罐24。這種獨(dú)立自足的反饋過程可確保還原劑保持 在適當(dāng)?shù)臏囟确秶鷥?nèi)。
本領(lǐng)域技術(shù)人員可理解的是，在不背離本發(fā)明的范圍的條件下，可對(duì)本發(fā)明的系 統(tǒng)和方法作出各種變型和改變。通過考慮此處公開的說明書和實(shí)施方式的實(shí)踐，本領(lǐng)域技 術(shù)人員可想到本發(fā)明的系統(tǒng)和方法的其它實(shí)施方式。旨在說明書和例子僅僅看做示例性 的，本發(fā)明的真正范圍由權(quán)利要求及其等價(jià)物表明。
權(quán)利要求
一種廢氣處理系統(tǒng)(16)，包括罐(24)，所述罐能夠儲(chǔ)存還原劑源；熱源(31)，所述熱源能夠?qū)€原劑進(jìn)行加熱；和分流器閥(40)，所述分流器閥能夠?qū)λ鰺嵩催M(jìn)行調(diào)節(jié)。
2.如權(quán)利要求1所述的廢氣處理系統(tǒng)，其中，所述分流器閥在處于大約-10°C和大約 60°C中的至少一個(gè)溫度時(shí)致動(dòng)。
3.如權(quán)利要求1所述的廢氣處理系統(tǒng)，其中，所述分流器閥是蠟閥。
4.如權(quán)利要求1所述的廢氣處理系統(tǒng)，其中，所述熱源能夠接收流體流。
5.如權(quán)利要求1所述的廢氣處理系統(tǒng)，還包括注射器(28)，所述注射器流體連接到所 述罐并且能夠?qū)⑺鲞€原劑注射到廢氣流中。
6.一種用于調(diào)節(jié)還原劑的溫度的方法，包括 提供還原劑源；和使用分流器閥(40)調(diào)節(jié)熱源(31)，其中所述熱源能夠?qū)崃總鬟f到所述還原劑源，并 且所述分流器閥受溫度致動(dòng)。
7.如權(quán)利要求6所述的方法，還包括在大約-10°C和大約60°C中的至少一個(gè)溫度時(shí)致 動(dòng)所述分流器閥。
8.如權(quán)利要求6所述的方法，其中，所述分流器閥是蠟閥。
9.如權(quán)利要求6所述的方法，其中，所述熱源能夠接收流體流。
10.如權(quán)利要求6所述的方法，還包括將所述還原劑注射到廢氣流中。
全文摘要
本發(fā)明提供一種廢氣處理系統(tǒng)(16)，所述廢氣處理系統(tǒng)具有能夠存儲(chǔ)還原劑源的罐(24)。所述廢氣處理系統(tǒng)還具有能夠?qū)€原劑進(jìn)行加熱的熱源(31)和能夠?qū)λ鰺嵩催M(jìn)行調(diào)節(jié)的分流器閥(40)。
文檔編號(hào)F01N9/00GK101878354SQ200880118197
公開日2010年11月3日 申請(qǐng)日期2008年11月27日 優(yōu)先權(quán)日2007年11月30日
發(fā)明者J·J·里德 申請(qǐng)人:珀金斯發(fā)動(dòng)機(jī)有限公司