專利名稱：一種兩段式氣流床氣化裝置的制作方法
技術(shù)領(lǐng)域：
本實(shí)用新型涉及ー種兩段式氣流床氣化裝置，屬于氣化反應(yīng)裝置技術(shù)領(lǐng)域。
背景技術(shù)：
煤氣化技術(shù)是發(fā)展煤基化學(xué)品、煤基液態(tài)燃料、聯(lián)合循環(huán)發(fā)電、制氫等過(guò)程エ業(yè)的基礎(chǔ)，是這些行業(yè)的關(guān)鍵技術(shù)和龍頭技木?，F(xiàn)有的可將煤、焦等含碳燃料氣化，在采用氣流床進(jìn)行氣化的技術(shù)中，有代表性的干煤粉氣化技術(shù)主要有我國(guó)華東理工大學(xué)等単位開發(fā)的多燒嘴對(duì)置式干煤粉氣化爐、Shell氣化爐，E-Gas氣化爐以及GSP氣化爐和國(guó)家電カ公司熱エ研究院的兩段式干煤粉氣化爐。目前氣流床氣化裝置設(shè)計(jì)存在幾個(gè)主要難題一是最優(yōu)化爐內(nèi)溫度分布和提高燃料利用效率；ニ是氣化產(chǎn)物的冷卻和高溫凈化過(guò)程；三是提高氣化裝置設(shè)備的整體使用壽命；四是提聞氣化裝置運(yùn)行穩(wěn)定性，提聞?wù)w開工率。從氣流床氣化爐燒嘴個(gè)數(shù)角度看，多燒嘴氣化爐易于大型化和大規(guī)模化推廣應(yīng)用，單燒嘴氣化爐受燒嘴本身的限制，在氣化負(fù)荷上受較大限制；從氣流床氣化爐本體設(shè)計(jì)角度看，兩段式或多段式氣化由于采用燃料分級(jí)燃燒或氧氣分級(jí)燃燒技術(shù)，相比單段式氣化爐，爐內(nèi)溫度分布更加合理，碳轉(zhuǎn)化率高，氣化爐出ロ溫度相對(duì)略低；從氣流床氣化產(chǎn)物流向角度看，合成氣上行式較適合于IGCC發(fā)電、煤制天然氣等產(chǎn)業(yè)，而合成氣下行較適合于化工生產(chǎn)，如合成氨、合成甲醇等產(chǎn)業(yè)；從氣流床氣化爐爐壁材料設(shè)計(jì)角度看，水冷壁設(shè)計(jì)相對(duì)造價(jià)較高，但相比于耐火磚等耐火村里式設(shè)計(jì)，水冷壁結(jié)構(gòu)氣化爐運(yùn)行穩(wěn)定，使用壽命長(zhǎng)，能夠承受較高溫度的氣化運(yùn)行，故提高了氣化爐的煤種適應(yīng)性。現(xiàn)有的合成氣上行式氣化爐主要缺陷是爐內(nèi)溫度分布和流場(chǎng)不合理，易造成液態(tài)排渣堵渣和碳轉(zhuǎn)化率低等問(wèn)題。

實(shí)用新型內(nèi)容本實(shí)用新型要解決的技術(shù)問(wèn)題是提供一種適合于大規(guī)模化應(yīng)用、運(yùn)行穩(wěn)定可靠、煤種適應(yīng)性廣泛、合成氣冷卻エ藝高效的兩段式多燒嘴進(jìn)料、分段式氣化的氣流床氣化裝置。為了解決上述技術(shù)問(wèn)題，本實(shí)用新型的技術(shù)方案是提供一種兩段式氣流床氣化裝置，其特征在于包括氣化爐上段氣化室，氣化爐上段氣化室上部設(shè)有合成氣出口 ；氣化爐下段氣化室通過(guò)氣化爐中部喉ロ段與氣化爐上段氣化室連接，氣化爐上段氣化室軸線和氣化爐下段氣化室軸線垂直相交；底部渣池通過(guò)氣化爐下部渣ロ與氣化爐下段氣化室連接，底部渣池下部設(shè)有渣池排渣ロ，其特征在干所述氣化爐上段氣化室四周設(shè)有至少ー層側(cè)面エ藝燒嘴室，至少兩個(gè)側(cè)面エ藝燒嘴對(duì)稱設(shè)于側(cè)面エ藝燒嘴室內(nèi)；所述氣化爐下段氣化室兩側(cè)同軸設(shè)有對(duì)置式エ藝燒嘴室，兩個(gè)對(duì)置式エ藝燒嘴同軸設(shè)于對(duì)置式エ藝燒嘴室內(nèi)。優(yōu)選地，所述氣化爐上段氣化室主體為內(nèi)壁面設(shè)有耐火襯里的垂直圓柱形殼體，所述氣化爐下段氣化室主體為內(nèi)壁面設(shè)有耐火襯里的水平圓柱形殼體。優(yōu)選地，所述耐火襯里為耐火磚襯里結(jié)構(gòu)或水冷壁村里結(jié)構(gòu)。優(yōu)選地，所述側(cè)面エ藝燒嘴室軸線與所述氣化爐上段氣化室徑向的夾角a為0 30° ;所述側(cè)面エ藝燒嘴室軸線與所述氣化爐上段氣化室軸向的夾角P為60 120°。優(yōu)選地，所述側(cè)面エ藝燒嘴軸線與所述側(cè)面エ藝燒嘴室在水平面上的夾角I為0 30° ,所述側(cè)面エ藝燒嘴軸線與所述側(cè)面エ藝燒嘴室在垂直面上夾角S為0 15°。優(yōu)選地，所述合成氣出口內(nèi)直徑為所述氣化爐上段氣化室主體內(nèi)直徑的5% 50%。優(yōu)選地，所述側(cè)面エ藝燒嘴室與合成氣出口的距離為1. 5 5倍氣化爐上段氣化室主體內(nèi)直徑，所述側(cè)面エ藝燒嘴室與對(duì)置式エ藝燒嘴室垂直中心距為0. 5 3倍氣化爐上段氣化室主體內(nèi)直徑。優(yōu)選地，所述氣化爐上段氣化室主體高度為1. 5 8倍氣化爐上段氣化室主體內(nèi)直徑，所述氣化爐下段氣化室主體內(nèi)直徑為0. 3 2倍氣化爐上段氣化室主體內(nèi)直徑，所述氣化爐下段氣化室主體單側(cè)長(zhǎng)度為I 3倍氣化爐下段氣化室主體內(nèi)直徑。本實(shí)用新型提供的一種兩段式氣流床氣化裝置通過(guò)氣化爐下段氣化室對(duì)置式エ藝燒嘴噴入燃料的氣化，在氣化爐下段氣化室發(fā)生氣化和燃燒反應(yīng)，產(chǎn)生的高溫熔融態(tài)灰渣向下進(jìn)入渣池，通過(guò)渣池排出；氣化和燃燒產(chǎn)生的高溫?zé)煔鈯A帶著少量細(xì)灰渣顆粒向上流動(dòng)進(jìn)入氣化爐上段氣化室，與從氣化爐上段氣化室側(cè)面エ藝燒嘴噴入的燃料相遇，氣化爐上段氣化室噴入的燃料通過(guò)吸收來(lái)自氣化爐下段氣化室的高溫?zé)煔怙@熱迅速發(fā)生熱解和脫揮發(fā)份，并與煙氣中的ニ氧化碳、殘留氧氣以及水蒸汽發(fā)生二次氣化反應(yīng)，且在向上流動(dòng)過(guò)程中溫度略有下降，即利用化學(xué)法吸收了氣化和燃燒產(chǎn)生的顯熱，使?fàn)t內(nèi)流場(chǎng)和溫度場(chǎng)更加合理，達(dá)到了部分顯熱回收和提高碳轉(zhuǎn)化率的效果。相比現(xiàn)有技術(shù)，本實(shí)用新型提供的一種兩段式氣流床氣化裝置具有如下有益效果(I)分兩段式通入含碳燃料，氣化爐下段氣化室主要為燃燒和氣化反應(yīng)區(qū)，氣化爐上段氣化室為氣化反應(yīng)區(qū)，實(shí)現(xiàn)燃料氣化分區(qū)，使?fàn)t內(nèi)溫度場(chǎng)分布更加合理，大大提高了氣化爐內(nèi)襯材料的使用壽命；(2)采用多級(jí)多燒嘴設(shè)計(jì)，在氣化爐大規(guī)模放大上具有明顯優(yōu)勢(shì)，氣化爐上段氣化室側(cè)面エ藝燒嘴層數(shù)和燒嘴數(shù)量更具可調(diào)性，氣化爐的整體氣化負(fù)荷的可控性較強(qiáng)；(3)適用于煤、石油焦、渣油、浙青生物質(zhì)和污泥等含碳物質(zhì)的氣化，可采用干粉或漿體燃料進(jìn)料方式，燃料適應(yīng)性廣；(4)采用下排渣式液態(tài)排渣方法，在氣化爐下段氣化室設(shè)計(jì)較高的操作溫度，有助于順利實(shí)現(xiàn)液態(tài)排渣，合成氣上行式設(shè)計(jì)減少了灰渣夾帶量，有助于后續(xù)合成氣凈化除塵。本實(shí)用新型提供的裝置克服了現(xiàn)有技術(shù)的不足，運(yùn)行穩(wěn)定可靠，合成氣冷卻エ藝高效，提高了碳轉(zhuǎn)化率，燃料適應(yīng)性廣，使用壽命長(zhǎng)，適合于大規(guī)模化應(yīng)用。

圖1為本實(shí)用新型提供的一種兩段式氣流床氣化裝置的軸向剖面示意圖；圖2為圖1中的局部放大圖；[0025]圖3為圖1中的A-A剖視圖；附圖標(biāo)記說(shuō)明1-氣化爐上段氣化室；2a_側(cè)面エ藝燒嘴室；2b_對(duì)置式エ藝燒嘴室；3a_側(cè)面エ藝燒嘴；3b-對(duì)置式エ藝燒嘴；4_氣化爐下段氣化室；5_合成氣出口 ；6_氣化爐中部喉ロ段；7-氣化爐下部渣ロ ；8_渣池；9-排渣ロ ； a-側(cè)面エ藝燒嘴室軸線與氣化爐上段氣化室徑向的夾角；P-側(cè)面エ藝燒嘴室軸線與氣化爐上段氣化室軸向的夾角；1-側(cè)面エ藝燒嘴軸線與側(cè)面エ藝燒嘴室在水平面上的夾角；S-側(cè)面エ藝燒嘴軸線與側(cè)面エ藝燒嘴室在垂直面上夾角！D1-氣化爐上段氣化室I主體內(nèi)直徑；D2-氣化爐下段氣化室主體內(nèi)直徑；H1-氣化爐上段氣化室I主體高度；H2-氣化爐下段氣化室主體單側(cè)長(zhǎng)度。
具體實(shí)施方式
為使本實(shí)用新型更明顯易懂，茲以一優(yōu)選實(shí)施例，并配合附圖作詳細(xì)說(shuō)明如下。圖1為本實(shí)用新型提供的一種兩段式氣流床氣化裝置的軸向剖面示意圖，所述的一種兩段式氣流床氣化裝置包括氣化爐上段氣化室I，氣化爐上段氣化室I上部開有合成氣出口 5 ;氣化爐下段氣化室4通過(guò)氣化爐中部喉ロ段6與氣化爐上段氣化室I連接，底部渣池8通過(guò)氣化爐下部渣ロ 7與氣化爐下段氣化室4連接，底部渣池8下部裝有渣池排渣P 9。氣化爐上段氣化室I主體為內(nèi)壁面裝有耐火磚襯里結(jié)構(gòu)或水冷壁襯里結(jié)構(gòu)的垂直圓柱形殼體，氣化爐下段氣化室4主體為內(nèi)壁面裝有耐火磚襯里結(jié)構(gòu)或水冷壁村里結(jié)構(gòu)的水平圓柱形殼體。氣化爐上段氣化室I軸線和氣化爐下段氣化室4軸線垂直相交。氣化爐上段氣化室I四周裝有至少ー層側(cè)面エ藝燒嘴室2a，至少兩個(gè)側(cè)面エ藝燒嘴3a對(duì)稱裝在側(cè)面エ藝燒嘴室2a內(nèi)。側(cè)面エ藝燒嘴室2a均勻地對(duì)稱布置于氣化爐上段氣化室I主體四周，用于輸入燃料及輸送載氣或霧化氣體。氣化爐下段氣化室4兩側(cè)同軸裝有對(duì)置式エ藝燒嘴室2b，兩個(gè)對(duì)置式エ藝燒嘴3b同軸裝在對(duì)置式エ藝燒嘴室2b內(nèi)，用于通入含碳燃料和氣化劑。結(jié)合圖2和圖3，側(cè)面エ藝燒嘴室2a軸線與氣化爐上段氣化室I徑向的夾角a為0 30° ;側(cè)面エ藝燒嘴室2a軸線與氣化爐上段氣化室I軸向的夾角P為60 120°。側(cè)面エ藝燒嘴3a軸線與側(cè)面エ藝燒嘴室2a在水平面上的夾角I為0 30°，側(cè)面エ藝燒嘴3a軸線與側(cè)面エ藝燒嘴室2a在垂直面上夾角5為0 15°。通過(guò)氣化爐上段氣化室側(cè)面エ藝燒嘴3a和側(cè)面エ藝燒嘴室2a、氣化爐下段氣化室對(duì)置式エ藝燒嘴室2b和對(duì)置式エ藝燒嘴3b角度的設(shè)置與匹配，可以在爐內(nèi)形成撞擊流或旋轉(zhuǎn)流來(lái)強(qiáng)化混合過(guò)程和提高燃料顆粒在爐內(nèi)的停留時(shí)間，從而達(dá)到良好的エ藝與工程效果，實(shí)現(xiàn)有效氣體成分高、碳轉(zhuǎn)化率高且爐壁耐火村里壽命長(zhǎng)。設(shè)氣化爐上段氣化室I主體內(nèi)直徑為D1，則合成氣出ロ 5內(nèi)直徑為0. 05 0. SD1 ；側(cè)面エ藝燒嘴室2a與氣化爐合成氣出ロ 5的距離為1. 5 OT1，側(cè)面エ藝燒嘴室2a與對(duì)置式エ藝燒嘴室2b垂直中心距離為0. 5 3Dlt)氣化爐上段氣化室I主體高度H1為1. 5 8D:;氣化爐下段氣化室4主體內(nèi)直徑為D2為0. 3 2Di ;氣化爐下段氣化室4主體單側(cè)長(zhǎng)度為H2為I 3D2。上述兩段式氣流床氣化裝置的氣化方法如下[0037]以氣化爐上段氣化室I設(shè)置ー層四個(gè)エ藝燒嘴的氣流床氣化爐為例，含碳燃料經(jīng)輸送系統(tǒng)，部分燃料與氣化劑從氣化爐下段氣化室4的兩個(gè)對(duì)置式エ藝燒嘴3b送入氣化爐，剰余燃料利用輸送氣通過(guò)氣化爐上段氣化室I的四個(gè)對(duì)稱布置在同一水平面的側(cè)面エ藝燒嘴3a噴入氣化爐。氣化爐上段氣化室的側(cè)面エ藝燒嘴3a采用同水平面小切圓布置。從氣化爐下段氣化室4對(duì)置式エ藝燒嘴3b送入的氣化劑占含碳燃料和氣化劑總氧量的80 100%，部分剩余氣體，包括剩余的0 20%氧氣和輔助氣化劑，如水蒸汽、ニ氧化碳等氣體可隨氣化爐上段氣化室4的輸送氣及含碳燃料一起送入氣化爐。根據(jù)エ藝要求和燃料性質(zhì)的不同，可選用干粉進(jìn)料或液態(tài)漿體進(jìn)料。在干粉進(jìn)料時(shí)，氣化劑可選用氧氣、水蒸汽、ニ氧化碳等氣體及其混合物，輸送氣可選用氮?dú)?、ニ氧化碳、水蒸汽或氬氣等ー種或其混合物。當(dāng)采用濕法進(jìn)料時(shí)，可選用含氧氣量大于21%的富氧空氣和ニ氧化碳等一種氣體或其混合物作為氣化劑，可選用水蒸汽、ニ氧化碳、氮?dú)饣驓鍤獾纫环N或其混合氣體作為液態(tài)燃料霧化的霧化氣體。氣化爐上段氣化室4的給料量可根據(jù)氣化爐上段氣化室4的爐內(nèi)溫度進(jìn)行調(diào)控，以達(dá)到合理的下渣ロ溫度范圍，確保實(shí)現(xiàn)液態(tài)排渣的順利實(shí)施。根據(jù)操作溫度對(duì)燃料的適應(yīng)性要求，可選擇水冷壁結(jié)構(gòu)或耐火磚結(jié)構(gòu)，當(dāng)要求處理灰熔點(diǎn)較高的燃料時(shí)，可選用水冷壁結(jié)構(gòu)，水冷壁形式可以為列管式、盤管式或其組合形式的膜式水冷壁；當(dāng)處理灰熔點(diǎn)較低的燃料時(shí)，可選用耐火村里結(jié)構(gòu)。含碳物質(zhì)在氣化爐內(nèi)的反應(yīng)過(guò)程主要分為以下幾個(gè)部分(I)部分燃料與大部分氧氣在氣化爐下段氣化室4發(fā)生以燃燒為主并伴隨有氣化的高溫反應(yīng)，反應(yīng)溫度達(dá)到1400°C及以上，確保了渣ロ溫度高于灰熔點(diǎn)并形成流動(dòng)態(tài)液態(tài)渣向底部渣池8排入，反應(yīng)產(chǎn)生高溫?zé)煔庀蛏狭鲃?dòng)進(jìn)入氣化爐上段氣化室I。(2)剩余燃料和剩余氧氣,輔助氣化劑以及輸送氣由氣化爐上段氣化室I的四個(gè)側(cè)面エ藝燒嘴3a送入氣化爐，并形成旋流流場(chǎng)，燃料顆粒隨氣流在爐內(nèi)形成旋流流場(chǎng)，堤高了其顆粒停留時(shí)間，燃料顆粒在氣化爐上段氣化室I發(fā)生以氣化為主的部分燃燒反應(yīng)后，未反應(yīng)徹底的大顆粒由于重力等的作用向下進(jìn)入氣化爐下段氣化室4進(jìn)行燃燒為主的氣化反應(yīng)，并將其所含殘?zhí)繌氐兹急M。控制操作溫度在1300°C左右。(3)由氣化爐下段氣化室4產(chǎn)生的高溫?zé)煔馀c氣化爐上段氣化室I的燃料充分混合反應(yīng)后，夾帶著少量細(xì)小飛灰顆粒的混合氣體繼續(xù)向上流動(dòng)，同時(shí)在氣化爐上部相對(duì)溫度較低空間發(fā)生少量氣化反應(yīng)和變換反應(yīng)，最終將是所有含碳顆?；救急M，合成氣由上部合成氣出口 5流出。由于采用兩段式進(jìn)料和氣化分區(qū)，并在氣化爐內(nèi)組合理組織了高溫燃燒和氣化兩種反應(yīng)，使氣化爐的整體碳轉(zhuǎn)化率、冷煤氣效率等大大提高，爐內(nèi)溫度分布得到合理優(yōu)化，并易于大型化放大設(shè)計(jì)。下面結(jié)合采用本實(shí)用新型提供的一種兩段式氣流床氣化裝置進(jìn)行氣化試驗(yàn)得到的結(jié)果對(duì)本實(shí)用新型作進(jìn)ー步說(shuō)明實(shí)施例1一臺(tái)日處理3000噸煤的兩段式氣流床干煤 粉氣化爐，氣化壓カ4. OMPa,內(nèi)壁面為水冷壁結(jié)構(gòu)，氣化爐上段氣化室I側(cè)面設(shè)置四個(gè)同平面小切圓側(cè)面エ藝燒嘴3a，切圓角度為4. 5°，氣化爐下段氣化室4設(shè)置ニ個(gè)對(duì)置式エ藝燒嘴3b。設(shè)氣化爐上段氣化室I主體內(nèi)直徑為D1，氣化爐主要尺寸參數(shù)見表I所示 表I氣化爐主要尺寸參數(shù)
參數(shù)數(shù)值參數(shù)數(shù)值
合成氣出口 5內(nèi)直徑0.320^111) a 4.5(° )
側(cè)面エ藝燒嘴室2a內(nèi)直徑0.4DX (m) I 0(。) 側(cè)面エ藝燒嘴室2a與合成氣出ロ 5間距2. 5DX (m) P 0(° )
側(cè)面エ藝燒嘴室2a與對(duì)置式エ藝燒嘴室2b中心距U1(In) 6 0(。)
氣化爐下段氣化室4主體內(nèi)徑UD1(In)
氣化爐下段氣化室4主體單側(cè)長(zhǎng)度2Di (m)
排渣ロ 9內(nèi)徑OjD1(In) '采用純氧氣體為氣化劑，氣化爐上段氣化室的側(cè)面エ藝燒嘴3a噴入適量水蒸汽，水蒸汽與總煤粉進(jìn)料量的比值控制為0. 15kg/kg，以隊(duì)為載氣加壓密相輸送煤粉，側(cè)面エ藝燒嘴3a噴入氧氣占總量的10%，所用煤種的煤質(zhì)分析數(shù)據(jù)如下表2 表5所示表2エ業(yè)分析表
名稱項(xiàng) I!符+9 攀位數(shù)Il
收到基全水分Mar%14
I---—--
空氣十燥.S水分Mad%8.49
收到+ 灰分Aar%Il
收到靈揮發(fā)分 Var %27.33
析------—
_到*_ 定讓 Far %61.6 表3兀素分析表
名稱項(xiàng) H 符位設(shè)i+卜煤種數(shù)值
收到基碳Car %60.3355.85
元.........................
收到基氫Har %3.623.44素 -----
收到基氣Nar %0.690.7
收到基硫St ar %0.410,31
柝—---------
收到基氧I Oar I % I 9.95 I 8.93[0058]表4熱值與灰熔點(diǎn)表
權(quán)利要求1.一種兩段式氣流床氣化裝置，包括氣化爐上段氣化室(I)，氣化爐上段氣化室(I)上部設(shè)有合成氣出口(5);氣化爐下段氣化室(4)通過(guò)氣化爐中部喉口段(6)與氣化爐上段氣化室(I)連接，氣化爐上段氣化室(I)軸線和氣化爐下段氣化室(4)軸線垂直相交；底部渣池(8)通過(guò)氣化爐下部渣口(7)與氣化爐下段氣化室(4)連接，底部渣池(8)下部設(shè)有渣池排渣口(9)，其特征在于所述氣化爐上段氣化室(I)四周設(shè)有至少一層側(cè)面工藝燒嘴室(2a)，至少兩個(gè)側(cè)面工藝燒嘴(3a)對(duì)稱設(shè)于側(cè)面工藝燒嘴室(2a)內(nèi)；所述氣化爐下段氣化室(4)兩側(cè)同軸設(shè)有對(duì)置式工藝燒嘴室(2b)，兩個(gè)對(duì)置式工藝燒嘴(3b)同軸設(shè)于對(duì)置式工藝燒嘴室(2b)內(nèi)。
2.如權(quán)利要求1所述的一種兩段式氣流床氣化裝置，其特征在于所述氣化爐上段氣化室(I)主體為內(nèi)壁面設(shè)有耐火襯里的垂直圓柱形殼體,所述氣化爐下段氣化室(4)主體為內(nèi)壁面設(shè)有耐火襯里的水平圓柱形殼體。
3.如權(quán)利要求2所述的一種兩段式氣流床氣化裝置，其特征在于所述耐火襯里為耐火磚襯里結(jié)構(gòu)或水冷壁襯里結(jié)構(gòu)。
4.如權(quán)利要求2所述的一種兩段式氣流床氣化裝置，其特征在于所述側(cè)面工藝燒嘴室(2a)軸線與所述氣化爐上段氣化室(I)徑向的夾角a為O 30° ;所述側(cè)面工藝燒嘴室(2a)軸線與所述氣化爐上段氣化室(I)軸向的夾角P為60 120°。
5.如權(quán)利要求2所述的一種兩段式氣流床氣化裝置，其特征在于所述側(cè)面工藝燒嘴(3a)軸線與所述側(cè)面工藝燒嘴室(2a)在水平面上的夾角€為0 30°， 所述側(cè)面工藝燒嘴(3a)軸線與所述側(cè)面工藝燒嘴室(2a)在垂直面上夾角S為0 15。。
6.如權(quán)利要求1所述的一種兩段式氣流床氣化裝置，其特征在于所述合成氣出口(5)內(nèi)直徑為所述氣化爐上段氣化室(I)主體內(nèi)直徑(Dl)的5% 50%。
7.如權(quán)利要求1所述的一種兩段式氣流床氣化裝置，其特征在于所述側(cè)面工藝燒嘴室(2a)與合成氣出口(5)的距離為1. 5 5倍氣化爐上段氣化室(I)主體內(nèi)直徑(Dl)，所述側(cè)面工藝燒嘴室(2a)與對(duì)置式工藝燒嘴室(2b)垂直中心距為0. 5 3倍氣化爐上段氣化室⑴主體內(nèi)直徑(Dl)。
8.如權(quán)利要求1所述的一種兩段式氣流床氣化裝置，其特征在于所述氣化爐上段氣化室(I)主體高度(Hl)為1. 5 8倍氣化爐上段氣化室(I)主體內(nèi)直徑(Dl)，所述氣化爐下段氣化室(4)主體內(nèi)直徑(D2)為0. 3 2倍氣化爐上段氣化室(I)主體內(nèi)直徑(Dl)，所述氣化爐下段氣化室(4)主體單側(cè)長(zhǎng)度(H2)為I 3倍氣化爐下段氣化室(4)主體內(nèi)直徑(D2)。
專利摘要本實(shí)用新型提供了一種兩段式氣流床氣化裝置，包括氣化爐上段氣化室和氣化爐下段氣化室，所述氣化爐上段氣化室四周設(shè)有至少一層側(cè)面工藝燒嘴室，至少兩個(gè)側(cè)面工藝燒嘴對(duì)稱設(shè)于側(cè)面工藝燒嘴室內(nèi)；所述氣化爐下段氣化室兩側(cè)同軸設(shè)有對(duì)置式工藝燒嘴室，兩個(gè)對(duì)置式工藝燒嘴同軸設(shè)于對(duì)置式工藝燒嘴室內(nèi)。本實(shí)用新型提供的裝置克服了現(xiàn)有技術(shù)的不足，運(yùn)行穩(wěn)定可靠，合成氣冷卻工藝高效，提高了碳轉(zhuǎn)化率，燃料適應(yīng)性廣，使用壽命長(zhǎng)，適合于大規(guī)模化應(yīng)用。
文檔編號(hào)C10J3/50GK202849351SQ20122051096
公開日2013年4月3日 申請(qǐng)日期2012年9月28日 優(yōu)先權(quán)日2012年9月28日
發(fā)明者倪建軍, 張建文, 池國(guó)鎮(zhèn), 程相宣 申請(qǐng)人:上海鍋爐廠有限公司