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下吸式氣化爐的制作方法

文檔序號:5108589閱讀:13006來源:國知局
專利名稱:下吸式氣化爐的制作方法
技術(shù)領(lǐng)域
本實用新型涉及一種具有燃?xì)膺^濾功能的下吸式氣化爐,屬氣化爐制造領(lǐng)域。
背景技術(shù)
授權(quán)公告號C擬677376Y、名稱“一種下吸式氣化爐”,包括一爐體,爐體由耐火泥 和保溫層構(gòu)成,爐體的上部具有一加料裝置,下部具有一排氣管,爐體內(nèi)設(shè)置有氣化介質(zhì)預(yù) 熱室、水蒸氣發(fā)生室和催化氣化室,其中氣化介質(zhì)預(yù)熱室設(shè)于爐體喉部的爐壁上,催化氣化 室設(shè)于爐體內(nèi)排氣管的上方,水蒸氣發(fā)生室設(shè)于氣化介質(zhì)預(yù)熱室和催化氣化室之間的爐壁 上。其不足之處一是爐腔設(shè)計不盡合理,直接影響產(chǎn)氣的效果;二是無法對所制燃?xì)膺M(jìn)行 有效地過濾處理,造成燃?xì)獠患儯淙紵兴a(chǎn)生的有害氣體直接污染環(huán)境,并且不利于使 用人員的身體健康。

實用新型內(nèi)容設(shè)計目的避免背景技術(shù)中的不足之處,設(shè)計一種具有燃?xì)膺^濾功能的下吸式氣 化爐。設(shè)計方案為了實現(xiàn)上述設(shè)計目的。1、從干燥區(qū)至氧化區(qū)采用口徑漸縮的錐形設(shè) 計,是本實用新型的技術(shù)特征之一。這樣做的目的在于研究表明傾角在7 10°之間適 合原料自動下料,故此氣化爐傾角定為9°。2、還原區(qū)為“兩頭小、中間大”的設(shè)計,是本實 用新型的技術(shù)特征之二。這樣做的目的在于利于熱量“包裹”于還原區(qū)中部,防止出現(xiàn)“還 原死角”,以提高氣化效率及焦油二次裂解。3、氧化區(qū)采用集中供風(fēng)技術(shù),是本實用新型的 技術(shù)特征之三。這樣做的目的在于物料在氧化區(qū)能集中燃燒,創(chuàng)造還原區(qū)高溫、缺氧環(huán)境, 利于氣化。4、燃?xì)膺^濾器的設(shè)計,是本實用新型的技術(shù)特征之四。這樣做的目的在于由于 氣化爐產(chǎn)出的燃?xì)馔ǔ:谢曳帧⑺?、焦油等雜質(zhì),因此本申請采用過濾器進(jìn)行過濾,不 僅去除了燃?xì)庵械碾s質(zhì),而凈化后的燃?xì)饽軡M足環(huán)保要求。技術(shù)方案下吸式氣化爐,它包括氣化爐,氣化爐上設(shè)有原料入口、除灰口、排污 口,所述氣化爐爐腔由上往下依次由干燥區(qū)、氧化區(qū)、還原區(qū)和除灰區(qū)構(gòu)成;所述干燥區(qū)腔 體呈上大下傾斜面腔;所述氧化區(qū)腔體呈圓筒腔;所述還原區(qū)呈中間大、兩頭上肚形腔;所 述除塵區(qū)呈上大、下小錐面腔。本實用新型與背景技術(shù)相比,一是高溫燃?xì)饨?jīng)過擋板的阻隔,一方面利于熱量傳 遞至干燥區(qū)加強(qiáng)原料干燥,另一方面部分水汽灰分等雜質(zhì)經(jīng)阻隔從燃?xì)庵蟹蛛x,達(dá)到初級 過濾作用;二是運行時排污口以悶蓋封閉,停爐時,便于打開清除積聚的污水。

圖1是下吸式氣化爐的結(jié)構(gòu)示意圖。
具體實施方式
實施例1 參照附圖1。一種下吸式氣化爐,它包括氣化爐,氣化爐上設(shè)有原料入口 1、除灰口 7、排污口 8,所述氣化爐爐腔由上往下依次由干燥區(qū)、氧化區(qū)、還原區(qū)和除灰區(qū)構(gòu) 成;所述干燥區(qū)腔體呈上大下傾斜面腔;所述氧化區(qū)腔體呈圓筒腔;所述還原區(qū)呈中間大、 兩頭上肚形腔;所述除塵區(qū)呈上大、下小錐面腔。所述氣化爐爐腔與爐壁9之間由上往下交 錯分布擋板3且構(gòu)成燃?xì)膺^濾器。所述干燥區(qū)和氧化區(qū)的交界區(qū)爐腔處設(shè)有集中供風(fēng)口 4 及氣化劑入口 5。所述爐壁9上部設(shè)有氣化爐燃?xì)獬隹?2。所述爐腔還原區(qū)設(shè)有粗燃?xì)獬?口 6且粗燃?xì)獬隹谖挥谌細(xì)膺^濾器過濾腔內(nèi)。需要理解到的是上述實施例雖然對本實用新型的設(shè)計思路作了比較詳細(xì)的文字 描述,但是這些文字描述,只是對本實用新型設(shè)計思路的簡單文字描述,而不是對本實用新 型設(shè)計思路的限制,任何不超出本實用新型設(shè)計思路的組合、增加或修改,均落入本實用新 型的保護(hù)范圍內(nèi)。
權(quán)利要求1.一種下吸式氣化爐,它包括氣化爐,氣化爐上設(shè)有原料入口、除灰口、排污口,其特征 是所述氣化爐爐腔由上往下依次由干燥區(qū)、氧化區(qū)、還原區(qū)和除灰區(qū)構(gòu)成;所述干燥區(qū)腔 體呈上大下傾斜面腔;所述氧化區(qū)腔體呈圓筒腔;所述還原區(qū)呈中間大、兩頭上肚形腔;所 述除塵區(qū)呈上大、下小錐面腔。
2.根據(jù)權(quán)利要求1所述的下吸式氣化爐,其特征是所述氣化爐爐腔與爐壁之間由上 往下交錯分布擋板且構(gòu)成燃?xì)膺^濾器。
3.根據(jù)權(quán)利要求1所述的下吸式氣化爐,其特征是所述干燥區(qū)和氧化區(qū)的交界區(qū)爐 腔處設(shè)有集中供風(fēng)口及氣化劑入口。
4.根據(jù)權(quán)利要求2所述的下吸式氣化爐,其特征是所述爐壁上部設(shè)有氣化爐燃?xì)獬?br> 5.根據(jù)權(quán)利要求1所述的下吸式氣化爐,其特征是所述爐腔還原區(qū)設(shè)有粗燃?xì)獬隹?且粗燃?xì)獬隹谖挥谌細(xì)膺^濾器過濾腔內(nèi)。
專利摘要本實用新型涉及一種具有燃?xì)膺^濾功能的下吸式氣化爐,它包括氣化爐,氣化爐上設(shè)有原料入口、除灰口、排污口,所述氣化爐爐腔由上往下依次由干燥區(qū)、氧化區(qū)、還原區(qū)和除灰區(qū)構(gòu)成;所述干燥區(qū)腔體呈上大下傾斜面腔;所述氧化區(qū)腔體呈圓筒腔;所述還原區(qū)呈中間大、兩頭上肚形腔;所述除塵區(qū)呈上大、下小錐面腔。優(yōu)點一是高溫燃?xì)饨?jīng)過擋板的阻隔,一方面利于熱量傳遞至干燥區(qū)加強(qiáng)原料干燥,另一方面部分水汽灰分等雜質(zhì)經(jīng)阻隔從燃?xì)庵蟹蛛x,達(dá)到初級過濾作用;二是運行時排污口以悶蓋封閉,停爐時,便于打開清除積聚的污水。
文檔編號C10J3/84GK201923988SQ20102061989
公開日2011年8月10日 申請日期2010年11月23日 優(yōu)先權(quán)日2010年11月23日
發(fā)明者王賢勇 申請人:杭州誠信生物科技有限公司
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