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一種二氧化硅高效提純裝置的制作方法

文檔序號(hào):11316227閱讀:473來源:國(guó)知局

本發(fā)明涉及二氧化硅提純?cè)O(shè)備技術(shù)領(lǐng)域,尤其涉及一種二氧化硅高效提純裝置。



背景技術(shù):

隨著國(guó)內(nèi)電子工業(yè)如集成電路、it產(chǎn)業(yè)如光導(dǎo)光纖以及家電、電光源、新型能源如太陽(yáng)能等對(duì)于石英玻璃需求用量的不斷增加,高純石英砂的市場(chǎng)需求量隨之增加。其年復(fù)合增長(zhǎng)率已過30%,遠(yuǎn)遠(yuǎn)高出一般工業(yè)品的增長(zhǎng)速度。這些領(lǐng)域?qū)υ细咔蠓浅?量?,允許的雜質(zhì)含量非常低,其二氧化硅含量要求高達(dá)99.995%以上,在用熔煉或冶煉方法生產(chǎn)這些專用材料時(shí),通常選用天然水晶為原料。然而天然水晶資源日趨枯竭,使得國(guó)內(nèi)外都在努力尋找替代品,其中最有希望的是用普通硅質(zhì)原料制備高純石英砂,以高純或超純石英砂替代水晶。由于研究開發(fā)力度不夠,我國(guó)高技術(shù)領(lǐng)域用高純石英砂長(zhǎng)期依賴從美國(guó)進(jìn)口,價(jià)格昂貴并且隨著需求量的增加還在不斷上漲。國(guó)產(chǎn)高純石英砂市場(chǎng)缺口很大,隨著相關(guān)高新產(chǎn)業(yè)快速發(fā)展,高純石英砂的市場(chǎng)需求量越來越大,市場(chǎng)前景十分看好。

高純石英砂的提純是多道工藝的結(jié)合,通常有煅燒、磁選、浮選、酸浸、高溫氯化等,其中磁選是去除石英砂雜質(zhì)效果最明顯,最容易實(shí)現(xiàn)的工藝,能輕易的將石英砂中磁性礦物分離開來,是一種非常有效的提純手段,是高純石英砂生產(chǎn)企業(yè)必備的工藝之一?,F(xiàn)有的磁選設(shè)備主要是干粉振動(dòng)式、筒式和輥式等類型,以上幾種類型的磁選機(jī)在清理吸附在磁鐵上的物質(zhì)比較麻煩,通常不是利用高壓水進(jìn)行沖洗就是需要通過卸鐵裝置來清理吸附在機(jī)器上的磁性物質(zhì),此種操作不僅費(fèi)時(shí)費(fèi)力還浪費(fèi)資源。



技術(shù)實(shí)現(xiàn)要素:

為了解決背景技術(shù)中存在的技術(shù)問題,本發(fā)明提出了一種二氧化硅高效提純裝置,能夠有效的清除石英砂內(nèi)所含磁性物質(zhì),提高石英砂的純度,工作效率高。

本發(fā)明提出的一種二氧化硅高效提純裝置,包括底座、外筒體、進(jìn)料管、分流裝置和收料箱,其中:

底座上設(shè)有出料口;

外筒體安裝在底座上,外筒體可相對(duì)于底座做轉(zhuǎn)動(dòng)運(yùn)動(dòng),外筒體采用雙層結(jié)構(gòu),外筒體的內(nèi)殼體與外殼體之間形成腔室,腔室內(nèi)設(shè)有環(huán)形電磁鐵,環(huán)形電磁鐵與外部電源連接;外筒體遠(yuǎn)離底座一端設(shè)有出氣口;

進(jìn)料管一端穿過外筒體伸入外筒體內(nèi);

分流裝置包括分流球體、進(jìn)氣管,分流球體位于進(jìn)料管出口下方,分流球體的直徑大于進(jìn)料管直徑,分流球體內(nèi)設(shè)有空腔,分流球體與外筒體中心軸線相垂直的直徑所在的圓周上分布有多個(gè)噴氣嘴,噴氣嘴的進(jìn)口與空腔接通,進(jìn)氣管與空腔接通;

收料箱位于出料口下方。

優(yōu)選的,還包括內(nèi)筒體,內(nèi)筒體設(shè)置在外筒體內(nèi),內(nèi)筒體通過連桿與外筒體連接,內(nèi)筒體上設(shè)有進(jìn)料口,進(jìn)料管與進(jìn)料口接通,內(nèi)筒體底部分布有通孔,通孔內(nèi)設(shè)有流量閥;分流球體位于內(nèi)筒體下方,分流球體的直徑大于內(nèi)筒體的直徑。

優(yōu)選的,還包括驅(qū)動(dòng)裝置,底座上設(shè)有環(huán)形滑槽,環(huán)形滑槽內(nèi)設(shè)有環(huán)形滑軌,外筒體底部與環(huán)形滑軌連接,外筒體遠(yuǎn)離底座一端與驅(qū)動(dòng)裝置連接。

優(yōu)選的,出料口處設(shè)有第一篩網(wǎng),第一篩網(wǎng)的篩孔大于二氧化硅的粒度。

優(yōu)選的,出氣口處設(shè)有第二篩網(wǎng),第二篩網(wǎng)的篩孔小于二氧化硅的粒度。

在本發(fā)明中,外筒體可相對(duì)于底座做轉(zhuǎn)動(dòng)運(yùn)動(dòng),外筒體采用雙層結(jié)構(gòu),外筒體的內(nèi)殼體與外殼體之間形成腔室,腔室內(nèi)設(shè)有環(huán)形電磁鐵,環(huán)形電磁鐵與外部電源連接;外筒體遠(yuǎn)離底座一端設(shè)有出氣口;進(jìn)料管穿過外筒體進(jìn)入外筒體內(nèi);分流裝置包括分流球體、進(jìn)氣管,分流球體位于進(jìn)料管出口下方,分流球體的直徑大于進(jìn)料管直徑,分流球體內(nèi)設(shè)有空腔,分流球體與外筒體中心軸線相垂直的直徑所在的圓周上分布有多個(gè)噴氣嘴,噴氣嘴的進(jìn)口與空腔接通,進(jìn)氣管與空腔接通;收料箱位于出料口下方。本發(fā)明工作時(shí),先向進(jìn)料管中加入適量待提純的二氧化硅,環(huán)形電磁鐵與外部電源接通,驅(qū)動(dòng)外筒體轉(zhuǎn)動(dòng),進(jìn)氣管向空腔內(nèi)導(dǎo)入空氣,進(jìn)料管內(nèi)的二氧化硅會(huì)落在分流球體上,沿著球面下滑,當(dāng)下滑至噴氣嘴處,噴氣嘴內(nèi)噴出的氣體將二氧化硅帶到外筒體的內(nèi)殼體上,使二氧化硅不斷跳動(dòng),磁性物質(zhì)就不會(huì)受到二氧化硅的阻擋就會(huì)吸附在內(nèi)殼體上,不含磁性物質(zhì)的二氧化硅則從出料口處進(jìn)入收料箱內(nèi);待二氧化硅提純完畢之后,移走收料箱,將環(huán)形電磁鐵與外部電源斷開,磁性物質(zhì)就會(huì)與內(nèi)殼體脫離,通過進(jìn)氣管向空腔內(nèi)導(dǎo)入空氣,噴氣嘴向內(nèi)殼體噴氣,驅(qū)動(dòng)外筒體轉(zhuǎn)動(dòng),氣體將內(nèi)殼體上的雜質(zhì)進(jìn)一步吹落并從出料口排出,方便下一次使用。本發(fā)明結(jié)構(gòu)簡(jiǎn)單,使用方便,能夠有效的清除二氧化硅內(nèi)所含的磁性物質(zhì),提高二氧化硅的純度,工作效率高。

附圖說明

圖1為本發(fā)明提出的一種二氧化硅高效提純裝置結(jié)構(gòu)示意圖。

具體實(shí)施方式

參照?qǐng)D1,本發(fā)明提出一種二氧化硅高效提純裝置,包括底座1、外筒體2、進(jìn)料管3、內(nèi)筒體4、分流裝置、收料箱7和驅(qū)動(dòng)裝置9,其中:

底座1上設(shè)有出料口11,出料口11處設(shè)有第一篩網(wǎng)12,第一篩網(wǎng)12的篩孔大于二氧化硅的粒度,可以進(jìn)一步篩選二氧化硅中其他雜質(zhì);底座1上設(shè)有環(huán)形滑槽13,環(huán)形滑槽13內(nèi)設(shè)有環(huán)形滑軌14。

外筒體2底部與環(huán)形滑軌14連接,外筒體2遠(yuǎn)離底座1一端與驅(qū)動(dòng)裝置9連接。外筒體2采用雙層結(jié)構(gòu),外筒體2的內(nèi)殼體21與外殼體22之間形成腔室23,腔室23內(nèi)設(shè)有環(huán)形電磁鐵6,環(huán)形電磁鐵6與外部電源連接;外筒體2遠(yuǎn)離底座一端設(shè)有出氣口24,出氣口24處設(shè)有第二篩網(wǎng)25,第二篩網(wǎng)25的篩孔小于二氧化硅的粒度,防止二氧化硅從出氣口24跑走,造成浪費(fèi)。

還包括內(nèi)筒體4,內(nèi)筒體4設(shè)置在外筒體2內(nèi),內(nèi)筒體4通過連桿8與外筒體2連接,內(nèi)筒體4上設(shè)有進(jìn)料口41,進(jìn)料管3一端穿過外筒體2伸入外筒體2內(nèi)與進(jìn)料口41接通,內(nèi)筒體4底部分布有通孔42,通孔42內(nèi)設(shè)有流量閥。

分流裝置包括分流球體51、進(jìn)氣管52,分流球體51位于內(nèi)筒體4下方,分流球體51的直徑大于內(nèi)筒體4的直徑,分流球體51內(nèi)設(shè)有空腔511,分流球體51與外筒體2中心軸線相垂直的直徑所在的圓周上分布有多個(gè)噴氣嘴512,噴氣嘴512的進(jìn)口與空腔511接通,進(jìn)氣管52與空腔512接通。

收料箱7位于出料口11下方。

本發(fā)明提出的一種二氧化硅高效提純裝置,工作時(shí),通過進(jìn)料管3向內(nèi)筒體4加入適量待提純的二氧化硅,將環(huán)形電磁鐵6與外部電源接通,驅(qū)動(dòng)裝置9驅(qū)動(dòng)外筒體2轉(zhuǎn)動(dòng),進(jìn)氣管52向空腔512內(nèi)導(dǎo)入空氣,內(nèi)筒體4內(nèi)的二氧化硅會(huì)從通孔42處落在分流球體51上,沿著球面下滑,當(dāng)下滑至噴氣嘴512處,噴氣嘴512內(nèi)噴出的氣體將二氧化硅帶到外筒體2的內(nèi)殼體21上,使二氧化硅不斷跳動(dòng),磁性物質(zhì)就不會(huì)受到二氧化硅的阻擋就會(huì)吸附在內(nèi)殼體21上,不含磁性物質(zhì)的二氧化硅則從出料口11處進(jìn)入收料箱7內(nèi);待二氧化硅提純完畢之后,移走收料箱7,將環(huán)形電磁鐵6與外部電源斷開,磁性物質(zhì)就會(huì)與內(nèi)殼體21脫離,通過進(jìn)氣管52向空腔511內(nèi)導(dǎo)入空氣,噴氣嘴512向內(nèi)殼體21噴氣,驅(qū)動(dòng)外筒體2轉(zhuǎn)動(dòng),氣體將內(nèi)殼體21上的雜質(zhì)進(jìn)一步吹落并從出料口11排出,方便下一次使用。本發(fā)明結(jié)構(gòu)簡(jiǎn)單,使用方便,能夠有效的清除二氧化硅內(nèi)所含的磁性物質(zhì),提高二氧化硅的純度,工作效率高。

以上所述,僅為本發(fā)明較佳的具體實(shí)施方式,但本發(fā)明的保護(hù)范圍并不局限于此,任何熟悉本技術(shù)領(lǐng)域的技術(shù)人員在本發(fā)明揭露的技術(shù)范圍內(nèi),根據(jù)本發(fā)明的技術(shù)方案及其發(fā)明構(gòu)思加以等同替換或改變,都應(yīng)涵蓋在本發(fā)明的保護(hù)范圍之內(nèi)。

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