鍍膜設(shè)備的制造方法
【專利摘要】本實(shí)用新型涉及溶液鍍膜技術(shù)領(lǐng)域，尤其涉及一種鍍膜設(shè)備，包括儲(chǔ)備池、工作池、過濾池、循環(huán)池和提拉機(jī)構(gòu)，儲(chǔ)備池與工作池相連通，工作池與過濾池相連通，過濾池與循環(huán)池相連通，循環(huán)池與工作池相連通，提拉機(jī)構(gòu)設(shè)置在工作池中，上下提拉進(jìn)行鍍膜作業(yè)，工作池中設(shè)置第二控制單元，第二控制單元包括第二溫度控制單元、第二黏度控制單元、第二導(dǎo)電率控制單元、第二配比控制單元。優(yōu)選地，所述第二黏度控制單元豎直設(shè)置，沿豎直方向按一定距離設(shè)置黏度傳感器。與現(xiàn)有技術(shù)相比，本實(shí)用新型的鍍膜設(shè)備可以及時(shí)檢測(cè)出鍍膜液的性質(zhì)變化，并且能及時(shí)改變鍍膜液的相關(guān)性質(zhì)，使鍍膜液的性質(zhì)保持在合格狀態(tài)進(jìn)行鍍膜，保證鍍膜質(zhì)量良好。
【專利說明】
鍍膜設(shè)備
【技術(shù)領(lǐng)域】
[0001 ]本實(shí)用新型涉及溶液鍍膜技術(shù)領(lǐng)域，尤其涉及一種鍍膜設(shè)備。
【【背景技術(shù)】】
[0002]溶液鍍膜是指在溶液中利用化學(xué)反應(yīng)或電化學(xué)等化學(xué)方法在基體表面沉積薄膜的技術(shù)。溶液鍍膜技術(shù)不需要真空條件，設(shè)備簡(jiǎn)單，可以在各種基體表面成膜，原料易得，在電子元器件、各種表面涂覆工藝與裝飾行業(yè)等方面廣泛應(yīng)用。溶液鍍膜技術(shù)主要包括溶膠凝膠技術(shù)、化學(xué)反應(yīng)沉積技術(shù)、陽極氧化技術(shù)、電鍍技術(shù)。其中溶膠凝膠技術(shù)因其易于控制薄膜組分，可在分子水平控制摻雜，工藝簡(jiǎn)單，可獲得理想厚度和組分。
[0003]涂膠方法是溶膠凝膠技術(shù)中的關(guān)鍵技術(shù)之一，主要方式為旋涂法與浸漬提拉法。旋涂法主要是采用電機(jī)驅(qū)動(dòng)水平放置的平面鍍膜件，將附著于水平鍍膜件表面的鍍膜液在離心力作用下平鋪于鍍膜件表面，隨著鍍膜液中溶劑揮發(fā)，在鍍膜件表面生長(zhǎng)一層凝膠膜，再進(jìn)行后期處理，便得到所需薄膜。提拉法是將鍍膜件浸漬于鍍膜液中，然后通過一定的速度，將鍍膜件從鍍膜液中向上提拉出鍍膜液，鍍膜液便在鍍膜件表面形成凝膠薄膜。
[0004]在鍍膜過程中，鍍膜液的各種性質(zhì)容易發(fā)生變化，當(dāng)鍍膜液的性質(zhì)變化超出一定范圍時(shí)，將會(huì)導(dǎo)致鍍膜質(zhì)量大打折扣。因此，為了保證鍍膜質(zhì)量良好，急需提供一種鍍膜設(shè)備，可以及時(shí)檢測(cè)出鍍膜液的性質(zhì)變化，并且能及時(shí)改變鍍膜液的相關(guān)性質(zhì)，使鍍膜液的性質(zhì)保持在合格狀態(tài)進(jìn)行鍍膜，保證鍍膜質(zhì)量良好。
【【實(shí)用新型內(nèi)容】】
[0005]為克服現(xiàn)有鍍膜設(shè)備難以實(shí)時(shí)監(jiān)測(cè)并保持鍍膜液性質(zhì)的缺點(diǎn)，本實(shí)用新型提供了一種可實(shí)時(shí)監(jiān)控并保持鍍膜液性質(zhì)的鍍膜設(shè)備。
[0006]本實(shí)用新型解決技術(shù)問題的方案是提供一種鍍膜設(shè)備，包括儲(chǔ)備池、工作池、過濾池、循環(huán)池和提拉機(jī)構(gòu)，儲(chǔ)備池與工作池相連通，工作池與過濾池相連通，過濾池與循環(huán)池相連通，循環(huán)池與工作池相連通，提拉機(jī)構(gòu)設(shè)置在工作池中，上下提拉進(jìn)行鍍膜作業(yè)，工作池中設(shè)置第二控制單元，第二控制單元包括第二溫度控制單元、第二黏度控制單元、第二導(dǎo)電率控制單元、第二配比控制單元。
[0007]優(yōu)選地，所述第二黏度控制單元豎直設(shè)置，沿豎直方向按一定距離設(shè)置黏度傳感器。
[0008]優(yōu)選地，所述儲(chǔ)備池包括第一控制單元，第一控制單元包括第一溫度控制單元、第一黏度控制單元、第一導(dǎo)電率控制單元、第一配比控制單元、第一攪拌器控制單元。
[0009]優(yōu)選地，所述循環(huán)池包括第三控制單元，第三控制單元包括第三溫度控制單元、第三黏度控制單元、第三導(dǎo)電率控制單元、第三配比控制單元、第三攪拌器控制單元和栗送速度控制單元。
[0010]優(yōu)選地，所述鍍膜設(shè)備包括豎直桿、水平支撐桿和鍍膜基體，豎直桿與水平支撐桿垂直相交，鍍膜基體設(shè)置在水平支撐桿上。[0011 ]優(yōu)選地，所述水平支撐桿沿豎直桿反復(fù)上下平動(dòng)。
[0012]優(yōu)選地，所述鍍膜設(shè)備進(jìn)一步包括滑輪和卷料鍍膜基體，卷料鍍膜基體依次繞著多個(gè)滑輪相切穿設(shè)。
[0013]優(yōu)選地，所述工作池內(nèi)設(shè)置一個(gè)或多個(gè)滑輪，多個(gè)滑輪在鍍膜液液面上下間隔設(shè)置。
[0014]優(yōu)選地，所述卷料鍍膜基體與相鄰兩個(gè)滑輪的相切位置不在同一側(cè)。
[0015]優(yōu)選地，所述鍍膜設(shè)備進(jìn)一步包括牽引裝置，牽引裝置與卷料鍍膜基體相連。
[0016]與現(xiàn)有技術(shù)相比，本實(shí)用新型提供的鍍膜設(shè)備，包括儲(chǔ)備池、工作池、過濾池、循環(huán)池和提拉機(jī)構(gòu)，用于將基體在鍍膜液中鍍膜，所述儲(chǔ)備池將鍍膜液流入工作池，工作池將不合格鍍膜液流入過濾池，過濾池將不合格的鍍膜液過濾后流入循環(huán)池，循環(huán)池將合格的鍍膜液栗送至工作池，提拉機(jī)構(gòu)設(shè)置在工作池中，上下提拉進(jìn)行鍍膜作業(yè)，工作池中設(shè)置有對(duì)溫度、黏度、電導(dǎo)率、配比、攪拌器、提拉速度和轉(zhuǎn)動(dòng)速度進(jìn)行監(jiān)控的控制單元。補(bǔ)料池對(duì)循環(huán)池中的鍍膜液進(jìn)行補(bǔ)料，儲(chǔ)備池中設(shè)置第一控制單元，工作池中設(shè)置第二控制單元，循環(huán)池中設(shè)置第三控制單元，第一控制單元、第二控制單元、第三控制單元分別包括溫度控制單元、黏度控制單元、電導(dǎo)率控制單元、配比控制單元和攪拌器控制單元，第二控制單元還包括提拉速度控制單元或轉(zhuǎn)動(dòng)速度控制單元，第三控制單元還包括栗送速度控制單元。其中，溫度控制單元將鍍膜液溫度控制在_40°C?40°C，黏度控制單元將鍍膜液的黏度控制在200cp?650cp，導(dǎo)電率控制單元將鍍膜液的導(dǎo)電率控制在Im S/cm?7m S/cm，配比控制單元將高分子材料、有機(jī)溶劑和電解液之間的比例控制在高分子材料:有機(jī)溶劑:電解液=(2%?12%):(30%?98%):(4%?20%)，對(duì)鍍膜液性質(zhì)的實(shí)時(shí)監(jiān)控使得鍍膜過程始終處于最適宜的環(huán)境與條件下進(jìn)行，有效地保證了鍍膜作業(yè)的質(zhì)量。該鍍膜設(shè)備結(jié)構(gòu)簡(jiǎn)潔，自動(dòng)化程度高，減少了大量的人力勞動(dòng)，節(jié)約成本。
【【附圖說明】】
[0017]圖1是本實(shí)用新型第一實(shí)施例中鍍膜設(shè)備模塊結(jié)構(gòu)圖；
[0018]圖2是本實(shí)用新型第一實(shí)施例中鍍膜設(shè)備的第一控制單元模塊組成圖；
[0019]圖3是本實(shí)用新型第一實(shí)施例中鍍膜設(shè)備的第二控制單元模塊組成圖；
[0020]圖4是本實(shí)用新型第一實(shí)施例中鍍膜設(shè)備的第三控制單元模塊組成圖；
[0021 ]圖5是本實(shí)用新型第二實(shí)施例中鍍膜設(shè)備模塊結(jié)構(gòu)圖；
[0022]圖6是本實(shí)用新型第二實(shí)施例中鍍膜設(shè)備的滑輪設(shè)置方式圖。
【【具體實(shí)施方式】】
[0023]為了使本實(shí)用新型的目、技術(shù)方案及優(yōu)點(diǎn)更加清楚明白，以下結(jié)合附圖及實(shí)施實(shí)例，對(duì)本實(shí)用新型進(jìn)行進(jìn)一步詳細(xì)說明。應(yīng)當(dāng)理解，此處所描述的具體實(shí)施例僅僅用以解釋本實(shí)用新型，并不用于限定本實(shí)用新型。
[0024]請(qǐng)參閱圖丨，本實(shí)用新型的第一實(shí)施例中，該鍍膜設(shè)備I包括儲(chǔ)備池11、工作池12、過濾池13、循環(huán)池14、補(bǔ)料池15、豎直桿16、水平支撐桿17、鍍膜基體18、栗機(jī)19、管道(圖未標(biāo))及閥門(圖未標(biāo))。工作池12是進(jìn)行鍍膜的主要場(chǎng)所。儲(chǔ)備池11設(shè)置在工作池12的側(cè)上方(在所有實(shí)施例中，上、下、左、右、內(nèi)、外等位置限定詞僅限于指定視圖上的相對(duì)位置，而非絕對(duì)位置)，用于配置并儲(chǔ)備合格的鍍膜液，儲(chǔ)備池11底部與工作池12的側(cè)壁上部通過管道相連通，管道上安裝閥門，控制鍍膜液的流通。儲(chǔ)備池11的底部高于工作池12的頂部，當(dāng)閥門開啟時(shí)，儲(chǔ)備池11內(nèi)的鍍膜液能夠在重力作用下流入工作池12。豎直桿16、水平支撐桿
17、鍍膜基體18構(gòu)成提拉機(jī)構(gòu)(圖未標(biāo))，提拉機(jī)構(gòu)設(shè)置于工作池12內(nèi)，進(jìn)行鍍膜作業(yè)。
[0025]工作池12的下方設(shè)置過濾池13，工作池12的底部與過濾池13的頂部通過管道相連通，管道上安裝閥門，當(dāng)閥門開啟時(shí)，工作池12內(nèi)的鍍膜液能夠在重力作用下流入過濾池13，過濾池13對(duì)鍍膜液的雜質(zhì)進(jìn)行過濾。過濾池13側(cè)下方設(shè)置循環(huán)池14，過濾池13的側(cè)壁底部與循環(huán)池14的頂部通過管道相連通，管道上安裝閥門，過濾池13的的底部高于循環(huán)池14的頂部，當(dāng)閥門開啟時(shí)，過濾池13內(nèi)的鍍膜液能夠在重力作用下流入循環(huán)池14。循環(huán)池14與工作池12的側(cè)壁上方通過管道相連通，管道上安裝閥門與栗機(jī)19。循環(huán)池14能夠?qū)⒔?jīng)過鍍膜過程的鍍膜液重新調(diào)配成合格的鍍膜液，再通過栗機(jī)19將合格的鍍膜液重新栗送至工作池12。循環(huán)池14的上方設(shè)置補(bǔ)料池15，補(bǔ)料池15內(nèi)儲(chǔ)存有鍍膜液所需各漿料組分，補(bǔ)料池15的底部與循環(huán)池14的頂部通過管道相連通，管道上安裝閥門，補(bǔ)料池15的底部高于循環(huán)池14的頂部，當(dāng)閥門開啟時(shí)，補(bǔ)料池15內(nèi)的漿料組分在重力作用下進(jìn)入循環(huán)池14，補(bǔ)充鍍膜液中缺乏的漿料組分。工作池12內(nèi)設(shè)置豎直桿16，豎直桿16從工作池12底部一直延伸到工作池12頂部以外，與豎直桿16垂直相交設(shè)置一水平支撐桿17，該水平支撐桿17沿著桿長(zhǎng)方向均勻吊設(shè)多個(gè)鍍膜基體18，水平支撐桿17可以沿著豎直桿16上下平動(dòng)，豎直桿16起到導(dǎo)軌的作用。
[0026]儲(chǔ)備池11中設(shè)置第一控制單元111和攪拌器(圖未標(biāo))，第一控制單元111可以檢測(cè)儲(chǔ)備池11內(nèi)的鍍膜液性質(zhì)，第一控制單元111也可以控制儲(chǔ)備池11中的攪拌器工作狀態(tài)，調(diào)整攪拌速率，以便達(dá)到最佳的攪拌效果。
[0027]工作池12中設(shè)置第二控制單元121和攪拌器，第二控制單元121可以檢測(cè)工作池12內(nèi)的鍍膜液性質(zhì)，也可以控制工作池12內(nèi)攪拌器的工作狀態(tài)，調(diào)整攪拌速率，以便達(dá)到最佳的攪拌效果。此外，第二控制單元121還可以控制水平支撐桿17上下平動(dòng)的速率，以滿足不同鍍膜液對(duì)鍍膜時(shí)間的要求。
[0028]循環(huán)池14中設(shè)置第三控制單元141和攪拌器，第三控制單元141可以檢測(cè)循環(huán)池14內(nèi)的鍍膜液性質(zhì)，控制循環(huán)池14內(nèi)攪拌器的工作狀態(tài)，調(diào)整攪拌速率，以達(dá)到最佳的攪拌效果。第三控制單元141還可以控制栗機(jī)19的栗送速度。
[0029]其中，儲(chǔ)備池11、工作池12、過濾池13、循環(huán)池14和補(bǔ)料池15相互之間獨(dú)立設(shè)置，彼此在空間上不存在依附關(guān)系，其相對(duì)位置也不受限制，只需在相互連通的管道上裝上栗機(jī)19，其相對(duì)位置可任意變化，可以實(shí)現(xiàn)鍍膜作業(yè)。另外，儲(chǔ)備池11、工作池12、過濾池13、循環(huán)池14和補(bǔ)料池15的形狀尺寸可任意變化，以適應(yīng)不同的使用場(chǎng)所、適應(yīng)不同的鍍膜作業(yè)規(guī)模。儲(chǔ)備池11、工作池12、過濾池13、循環(huán)池14和補(bǔ)料池15均設(shè)置有密封結(jié)構(gòu)(圖未示)，密封結(jié)構(gòu)可以使儲(chǔ)備池11、工作池12、過濾池13、循環(huán)池14和補(bǔ)料池15呈密封狀態(tài)，最大限度地減少易揮發(fā)物質(zhì)的損失，防止外界雜質(zhì)混入鍍膜液中，影響鍍膜質(zhì)量，同時(shí)也可以減少有害物質(zhì)對(duì)人體的直接傷害。
[0030]請(qǐng)參閱圖2，第一控制單元111包括第一溫度控制單元1111、第一黏度控制單元1112、第一電導(dǎo)率控制單元1113、第一配比控制單元1114和第一攪拌器控制單元1115。第一溫度控制單元1111可以對(duì)在儲(chǔ)備池11中新配制的鍍膜液溫度進(jìn)行檢測(cè)，使鍍膜液的溫度保持在一定范圍內(nèi)，適合鍍膜作業(yè)的進(jìn)行，該溫度范圍優(yōu)選為-40°C?40°C。第一黏度控制單元1112可以對(duì)儲(chǔ)備池11中新配制的鍍膜液黏度進(jìn)行檢測(cè)，使鍍膜液的黏度保持在一定范圍內(nèi)，保證鍍膜質(zhì)量，該黏度范圍優(yōu)選為200cp?650cp。第一電導(dǎo)率控制單元1113可以對(duì)儲(chǔ)備池11中新配制的鍍膜液電導(dǎo)率進(jìn)行檢測(cè)，使鍍膜液的電導(dǎo)率保持在一定范圍，提高鍍膜的成功率和鍍膜質(zhì)量，該電導(dǎo)率范圍優(yōu)選為Im S/cm?7m S/cm。第一配比控制單元1114可以對(duì)儲(chǔ)備池11中新配制的鍍膜液各組分比例進(jìn)行檢測(cè)，方便控制鍍膜液各組分比例保持在合格范圍。鍍膜液內(nèi)重要組分為高分子材料、有機(jī)溶劑和電解液，三組分的百分比例優(yōu)選為高分子材料:有機(jī)溶劑:電解液=(2%?12%):(30%?98%):(4%?20%)。其中，電解液為Imol的六氟磷酸鋰，碳酸乙烯酯:碳酸二甲酯:碳酸二乙酯= 1:1:1，也可以是Imol的雙三氟甲烷磺酰亞胺鋰，碳酸乙烯酯:I，4_丁內(nèi)酯:碳酸二乙酯= 1:1:3，或者其他電解液配方。儲(chǔ)備池11內(nèi)還設(shè)置有第一攪拌器控制單元1115，可以對(duì)儲(chǔ)備池11內(nèi)攪拌器的攪拌速度、攪拌時(shí)間進(jìn)行控制，確保攪拌質(zhì)量。
[0031]請(qǐng)參閱圖3，第二控制單元121包括第二溫度控制單元1211、第二黏度控制單元1212、第二電導(dǎo)率控制單元1213、第二配比控制單元1214和第二攪拌器控制單元1215。其中，第二溫度控制單元1211、第二黏度控制單元1212、第二電導(dǎo)率控制單元1213、第二配比控制單元1214和第二攪拌器控制單元1215分別與第一溫度控制單元1111、第一黏度控制單元1112、第一電導(dǎo)率控制單元1113、第一配比控制單元1114和第一攪拌器控制單元1115具有相同的控制功能。另外，第二控制單元121還包括提拉速度控制單元1216，該提拉速度控制單元1216對(duì)水平支撐桿17的上下平動(dòng)速度進(jìn)行控制，從而間接控制鍍膜基體18在工作池12中的鍍膜時(shí)間，在不影響鍍膜效率的前提下盡可能使得鍍膜基體18具有良好的浸潤(rùn)性，提高鍍膜的質(zhì)量。
[0032]請(qǐng)參閱圖4，第三控制單元141包括第三溫度控制單元1411、第三黏度控制單元1412、第三電導(dǎo)率控制單元1413、第三配比控制單元1414和第三攪拌器控制單元1415。其中，第三溫度控制單元1411、第三黏度控制單元1412、第三電導(dǎo)率控制單元1413、第三配比控制單元1414和第三攪拌器控制單元1415分別與第一溫度控制單元1111、第一黏度控制單元1112、第一電導(dǎo)率控制單元1113、第一配比控制單元1114和第一攪拌器控制單元1115具有相同的控制功能。另外，第三控制單元141還包括栗送速度控制單元1416，可以對(duì)循環(huán)池14與工作池12連接管道之間的栗機(jī)19起到控制作用，控制栗機(jī)19的栗送速度與栗送時(shí)間，使得循環(huán)池14與儲(chǔ)備池11相配合，共同保持工作池12內(nèi)鍍膜液供應(yīng)充足，確保鍍膜過程可以連續(xù)進(jìn)行。第一黏度控制單元1112、第二黏度控制單元1212、第三黏度控制單元1412均為豎直設(shè)置，且沿著豎直方向均設(shè)置有黏度傳感器(圖未示)，黏度傳感器在按一定距離分布，每個(gè)黏度傳感器可以檢測(cè)到其所在位置的鍍膜液黏度，所有的黏度傳感器檢測(cè)到的數(shù)據(jù)反映成一條曲線，如果曲線波動(dòng)很大表明豎直方向上黏度差異很大。
[0033]采用鍍膜設(shè)備I進(jìn)行鍍膜的方法，主要包括以下步驟:
[0034]步驟S1:將鍍膜基體18懸掛于水平支撐桿17上，在儲(chǔ)備池11中進(jìn)行鍍膜液的配制，啟動(dòng)儲(chǔ)備池11內(nèi)的攪拌器，將新配制的鍍膜液攪拌均勻。當(dāng)?shù)谝豢刂茊卧?11檢測(cè)所得該鍍膜液的溫度、黏度、導(dǎo)電率、組分配比均合格以后，關(guān)閉攪拌器，打開儲(chǔ)備池11與工作池12之間的閥門，鍍膜液從儲(chǔ)備池11進(jìn)入工作池12，準(zhǔn)備鍍膜。
[0035]步驟S2:通過工作池12中的提拉速度控制單元1216控制水平支撐桿17往下平動(dòng)，速度設(shè)置在0.0lmm/ S?1cm/ s，優(yōu)選為lmm/ s，在該速度范圍下降，使得鍍膜基體18不會(huì)對(duì)鍍膜液產(chǎn)生有害性擾動(dòng)(不利于鍍膜作業(yè)的擾動(dòng))，又能讓鍍膜作業(yè)保持一個(gè)較高的效率，并且鍍膜基體18中先進(jìn)入鍍膜液的部分與后進(jìn)入鍍膜液的部分鍍膜厚度不產(chǎn)生偏差。當(dāng)鍍膜基體18完全浸潤(rùn)鍍膜液后，保持1 s?30 s，使得鍍膜基體18充分鍍膜。充分鍍膜后，提拉速度控制單元1216控制水平支撐桿17往上平動(dòng)，當(dāng)鍍膜基體18完全離開鍍膜液后，鍍膜基體18表面覆蓋上一層厚度為1um?30um的薄膜。本實(shí)施例中，提拉速度控制單元1216可以控制水平支撐桿17上下反復(fù)平動(dòng)，從而實(shí)現(xiàn)鍍膜基體18多次浸潤(rùn)鍍膜液，其中，每?jī)纱谓?rùn)的時(shí)間間隔范圍優(yōu)選為5min?5h，具體時(shí)間間隔根據(jù)不同鍍膜液的性質(zhì)而定。
[0036]步驟S3:鍍膜過程中，工作池12中的第二控制單元121始終對(duì)鍍膜液的溫度、黏度、導(dǎo)電率、組分配比進(jìn)行實(shí)時(shí)檢測(cè)，當(dāng)溫度不合格時(shí)，第二溫度控制單元1211對(duì)鍍膜液進(jìn)行加熱或冷凝。當(dāng)黏度在豎直方向差異很大時(shí)，第二攪拌器控制單元1215控制攪拌器啟動(dòng)(此時(shí)鍍膜作業(yè)處于停止?fàn)顟B(tài))。
[0037]步驟S4:當(dāng)電導(dǎo)率、組分配比不合格時(shí)，不合格鍍膜液從工作池12進(jìn)入過濾池13，儲(chǔ)備池11和循環(huán)池14中的合格鍍膜液進(jìn)入工作池12，保證鍍膜液的供應(yīng)充足。過濾池13將鍍膜液中從鍍膜基體18上掉落的顆粒物質(zhì)或其他顆粒性雜質(zhì)過濾掉，進(jìn)入循環(huán)池14。
[0038]步驟S5:循環(huán)池14內(nèi)的鍍膜液為無雜質(zhì)鍍膜液，但其組分配比不合格，因此，補(bǔ)料池15可以對(duì)其進(jìn)行組分的補(bǔ)充。當(dāng)循環(huán)池14中的第三控制單元141檢測(cè)到其中的鍍膜液溫度、黏度、導(dǎo)電率、組分配比均合格時(shí)，由栗送速度控制單元1416控制栗機(jī)19將鍍膜液栗送至工作池12中。
[0039]請(qǐng)參閱圖5，在本實(shí)用新型的第二實(shí)施例中，該鍍膜設(shè)備2同樣包括儲(chǔ)備池21、工作池22、過濾池23、循環(huán)池24、補(bǔ)料池25、栗機(jī)29、管道(圖未標(biāo))及閥門(圖未標(biāo))，并且儲(chǔ)備池21、工作池22、循環(huán)池24中分別設(shè)置有第一控制單元211、第二控制單元221和第三控制單元241，與第一實(shí)施例中具有相同的功能。不同的是，第二實(shí)施例中的鍍膜設(shè)備2通過設(shè)置卷料鍍膜基體27、卷料固定桿26、多個(gè)滑輪28、和牽引裝置30來代替第一實(shí)施例中的鍍膜基體
18、豎直桿16和水平支撐桿17，第二控制單元221內(nèi)的轉(zhuǎn)動(dòng)速度控制單元(圖未示)代替第一實(shí)施例中的提拉速度控制單元1216，對(duì)滑輪28的轉(zhuǎn)動(dòng)進(jìn)行控制，該轉(zhuǎn)動(dòng)速度控制單元可以將滑輪28的轉(zhuǎn)動(dòng)速度控制在lr/min?3r/min，從而使得卷料鍍膜基體27的傳動(dòng)速度小于
0.2mm/s，有利于卷料鍍膜基體27充分浸潤(rùn)鍍膜液，充分鍍膜。卷料鍍膜基體27呈卷狀固定在卷料固定桿26上，卷料鍍膜基體27依次繞著多個(gè)滑輪28相切穿設(shè)，并且卷料鍍膜基體27與相鄰兩個(gè)滑輪的相切位置不在同一側(cè)，這樣有利于卷料鍍膜基體27在滑輪之間具有足夠的張力，可以充分展開，有利于鍍膜作業(yè)的進(jìn)行。牽引裝置30為卷料鍍膜基體27提供牽引力，使得卷料鍍膜基體27可以沿著滑輪連續(xù)移動(dòng)。多個(gè)滑輪28呈“V”字形設(shè)置，其中須有至少一個(gè)滑輪28設(shè)置在工作池22的鍍膜液液面以下，以保證卷料鍍膜基體27可以完全浸潤(rùn)在鍍膜液里，充分鍍膜。
[0040]請(qǐng)參閱圖6，當(dāng)工作池22內(nèi)設(shè)置一個(gè)滑輪28時(shí)，該卷料鍍膜基體27只一次經(jīng)過鍍膜液，圖中所示在工作池22內(nèi)設(shè)置三個(gè)滑輪28，兩個(gè)滑輪28在鍍膜液液面以下，一個(gè)滑輪28在鍍膜液液面以上，三個(gè)滑輪28呈三角形，如此設(shè)置可以使得該卷料鍍膜基體27兩次經(jīng)過鍍膜液，從而實(shí)現(xiàn)一次鍍膜過程鍍膜兩層，大大提高效率。當(dāng)設(shè)備占用空間允許時(shí)，工作池22內(nèi)可設(shè)置多于三個(gè)滑輪28，多個(gè)滑輪28在在鍍膜液液面上下間隔設(shè)置，實(shí)現(xiàn)一次鍍膜過程多層多次鍍膜。
[0041]與現(xiàn)有技術(shù)相比，本實(shí)用新型提供的鍍膜設(shè)備I，包括儲(chǔ)備池11、工作池12、過濾池13、循環(huán)池14和提拉機(jī)構(gòu)，用于將基體在鍍膜液中鍍膜，所述儲(chǔ)備池11將鍍膜液流入工作池12，工作池12將不合格鍍膜液流入過濾池13，過濾池13將不合格的鍍膜液過濾后流入循環(huán)池14，循環(huán)池14將合格的鍍膜液栗送至工作池12，提拉機(jī)構(gòu)設(shè)置在工作池12中，上下提拉進(jìn)行鍍膜作業(yè)，工作池12中設(shè)置有對(duì)溫度、黏度、電導(dǎo)率、配比、攪拌器、提拉速度和轉(zhuǎn)動(dòng)速度進(jìn)行監(jiān)控的控制單元。補(bǔ)料池15對(duì)循環(huán)池14中的鍍膜液進(jìn)行補(bǔ)料，儲(chǔ)備池11中設(shè)置第一控制單元111，工作池12中設(shè)置第二控制單元121，循環(huán)池14中設(shè)置第三控制單元141，第一控制單元111、第二控制單元121、第三控制單元141均包括溫度控制單元、黏度控制單元、電導(dǎo)率控制單元、配比控制單元和攪拌器控制單元，第二控制單元121還包括提拉速度控制單元1216或轉(zhuǎn)動(dòng)速度控制單元，第三控制單元141還包括栗送速度控制單元1416。其中，溫度控制單元將鍍膜液溫度控制在-40 °C?40 °C，黏度控制單元將鍍膜液的黏度控制在200cp?650cp，導(dǎo)電率控制單元將鍍膜液的導(dǎo)電率控制在lmS/cm?7mS/cm，配比控制單元將高分子材料、有機(jī)溶劑和電解液之間的比例控制在高分子材料:有機(jī)溶劑:電解液=(2%?12% ):(30%?98%): (4%?20%)，對(duì)鍍膜液性質(zhì)的實(shí)時(shí)監(jiān)控使得鍍膜過程始終處于最適宜的環(huán)境與條件下進(jìn)行，有效地保證了鍍膜作業(yè)的質(zhì)量。該鍍膜設(shè)備I結(jié)構(gòu)簡(jiǎn)潔，自動(dòng)化程度高，減少了大量的人力勞動(dòng)，節(jié)約成本。
[0042]以上所述僅為本實(shí)用新型的較佳實(shí)施例而已，并不用以限制本實(shí)用新型，凡在本實(shí)用新型的精神和原則之內(nèi)所作的任何修改、等同替換和改進(jìn)等，均應(yīng)包含在本實(shí)用新型的保護(hù)范圍之內(nèi)。
【主權(quán)項(xiàng)】
1.一種鍍膜設(shè)備，其特征在于:包括儲(chǔ)備池、工作池、過濾池、循環(huán)池和提拉機(jī)構(gòu)，儲(chǔ)備池與工作池相連通，工作池與過濾池相連通，過濾池與循環(huán)池相連通，循環(huán)池與工作池相連通，提拉機(jī)構(gòu)設(shè)置在工作池中，上下提拉進(jìn)行鍍膜作業(yè)，工作池中設(shè)置第二控制單元，第二控制單元包括第二溫度控制單元、第二黏度控制單元、第二導(dǎo)電率控制單元、第二配比控制單元。2.如權(quán)利要求1中所述的鍍膜設(shè)備，其特征在于:所述第二黏度控制單元豎直設(shè)置，沿豎直方向按一定距離設(shè)置黏度傳感器。3.如權(quán)利要求1中所述的鍍膜設(shè)備，其特征在于:所述儲(chǔ)備池包括第一控制單元，第一控制單元包括第一溫度控制單元、第一黏度控制單元、第一導(dǎo)電率控制單元、第一配比控制單元、第一攪拌器控制單元。4.如權(quán)利要求1中所述的鍍膜設(shè)備，其特征在于:所述循環(huán)池包括第三控制單元，第三控制單元包括第三溫度控制單元、第三黏度控制單元、第三導(dǎo)電率控制單元、第三配比控制單元、第三攪拌器控制單元和栗送速度控制單元。5.如權(quán)利要求1-4中任一項(xiàng)所述的鍍膜設(shè)備，其特征在于:所述鍍膜設(shè)備包括豎直桿、水平支撐桿和鍍膜基體，豎直桿與水平支撐桿垂直相交，鍍膜基體設(shè)置在水平支撐桿上。6.如權(quán)利要求5中所述的鍍膜設(shè)備，其特征在于:所述水平支撐桿沿豎直桿反復(fù)上下平動(dòng)。7.如權(quán)利要求1-4中任一項(xiàng)所述的鍍膜設(shè)備，其特征在于:所述鍍膜設(shè)備進(jìn)一步包括滑輪和卷料鍍膜基體，卷料鍍膜基體依次繞著多個(gè)滑輪相切穿設(shè)。8.如權(quán)利要求7中所述的鍍膜設(shè)備，其特征在于:所述工作池內(nèi)設(shè)置一個(gè)或多個(gè)滑輪，多個(gè)滑輪在鍍膜液液面上下間隔設(shè)置。9.如權(quán)利要求7中所述的鍍膜設(shè)備，其特征在于:所述卷料鍍膜基體與相鄰兩個(gè)滑輪的相切位置不在同一側(cè)。10.如權(quán)利要求7中所述的鍍膜設(shè)備，其特征在于:所述鍍膜設(shè)備進(jìn)一步包括牽引裝置，牽弓I裝置與卷料鍍膜基體相連。
【文檔編號(hào)】B05C11/10GK205628453SQ201620270529
【公開日】2016年10月12日
【申請(qǐng)日】2016年3月31日
【發(fā)明人】彭曉麗, 向勇, 牟成旭, 夏立, 蒲萬錦, 賀金味, 蘇興
【申請(qǐng)人】成都國(guó)珈星際固態(tài)鋰電科技有限公司