一種土壤調(diào)理劑物料粉碎機(jī)的制作方法
【專利摘要】本實(shí)用新型公開了一種土壤調(diào)理劑物料粉碎機(jī)，屬于粉碎機(jī)領(lǐng)域。本實(shí)用新型的一種土壤調(diào)理劑物料粉碎機(jī)，包括外殼，所述外殼內(nèi)設(shè)有研磨室和干燥室，所述研磨室與干燥室相連通過出料口相連，所述外殼頂部設(shè)有入料口，所述入料口與研磨室連通；所述干燥室底部設(shè)有物料收集裝置。本實(shí)用新型具有采用擠壓式粉碎，運(yùn)行過程中噪音小，減小粉塵污染，對碎脆性和柔性物料的粉碎效果均較好，粉碎細(xì)度均勻的特點(diǎn)。
【專利說明】
一種土壤調(diào)理劑物料粉碎機(jī)
技術(shù)領(lǐng)域
[0001]本實(shí)用新型涉及一種粉碎機(jī)，特別是一種土壤調(diào)理劑物料粉碎機(jī)。
【背景技術(shù)】
[0002]土壤調(diào)理劑能夠改善土壤環(huán)境，改善土壤質(zhì)量使得受到污染的土壤能夠再次適宜耕種。在土壤調(diào)理劑生產(chǎn)過程中，需要大量的物料粉碎作業(yè)，現(xiàn)有的物料粉碎機(jī)大多采用反擊錘式磨碎，轉(zhuǎn)子旋轉(zhuǎn)速度快，在運(yùn)行過程中噪音大，粉塵污染嚴(yán)重，雖然對碎脆性物料的粉碎效果較好，對有機(jī)物等柔性物料粉碎較差，同時(shí)對物料研磨的細(xì)度不夠，粉碎后的細(xì)度也不夠均勻。
【實(shí)用新型內(nèi)容】
[0003]本實(shí)用新型的發(fā)明目的在于:針對上述存在的問題，提供一種采用擠壓式粉碎，運(yùn)行過程中噪音小，減小粉塵污染，對碎脆性和柔性物料的粉碎效果均較好，粉碎細(xì)度均勻的土壤調(diào)理劑物料粉碎機(jī)。
[0004]本實(shí)用新型采用的技術(shù)方案如下:
[0005]本實(shí)用新型的一種土壤調(diào)理劑物料粉碎機(jī)，包括外殼，所述外殼內(nèi)設(shè)有研磨室和干燥室，所述研磨室與干燥室相連通過出料口相連，所述外殼頂部設(shè)有入料口，所述入料口與研磨室連通;所述干燥室底部設(shè)有物料收集裝置。
[0006]由于采用了上述技術(shù)方案，物料經(jīng)過入料口進(jìn)入研磨室，經(jīng)過研磨室研磨后再進(jìn)入干燥室進(jìn)行干燥。
[0007]本實(shí)用新型的一種土壤調(diào)理劑物料粉碎機(jī)，所述干燥室內(nèi)設(shè)有干燥裝置，所述干燥室側(cè)壁上設(shè)有若干風(fēng)機(jī)。
[0008]由于采用了上述技術(shù)方案，濕潤的物料經(jīng)過干燥室干燥后，變成細(xì)度達(dá)到生產(chǎn)要求的粉末，通過風(fēng)機(jī)與干燥裝置的配合使用能夠增加物料干燥的速度，增加工作效率。
[0009]本實(shí)用新型的一種土壤調(diào)理劑物料粉碎機(jī)，所述風(fēng)機(jī)為通風(fēng)機(jī)，所述風(fēng)機(jī)的轉(zhuǎn)速為400轉(zhuǎn)/分。
[0010]由于采用了上述技術(shù)方案，風(fēng)機(jī)的工作效率高，且造成的粉塵污染小。
[0011]本實(shí)用新型的一種土壤調(diào)理劑物料粉碎機(jī)，所述外殼內(nèi)設(shè)有儲(chǔ)水裝置，所述儲(chǔ)水裝置連有若干霧化噴水裝置，所以霧化噴水裝置能夠?qū)⑺F化后均勻噴灑至研磨室內(nèi)。
[0012]由于采用了上述技術(shù)方案，通過霧化水將物料濕潤，不僅能夠減小在研磨過程中產(chǎn)生的噪音，避免研磨過程中的粉塵污染，同時(shí)，濕潤后的物料能夠研磨的更加均勻，與擠盤、轉(zhuǎn)軸之間的摩擦力減小，降低對擠盤和轉(zhuǎn)軸的磨損，增加擠盤、轉(zhuǎn)軸的使用壽命。
[0013]本實(shí)用新型的一種土壤調(diào)理劑物料粉碎機(jī)，所述研磨室內(nèi)沿豎直方向設(shè)有轉(zhuǎn)軸，所述轉(zhuǎn)軸沿順時(shí)針或逆時(shí)針方向勻速轉(zhuǎn)動(dòng)，所述轉(zhuǎn)軸表面設(shè)有螺紋;所述研磨室包括上室和下室;所述上室設(shè)有第一擠盤和第二擠盤，所述第一擠盤通過第一升降機(jī)構(gòu)與研磨室頂部相連，所述第二擠盤與轉(zhuǎn)軸固定連接，隨轉(zhuǎn)軸勻速轉(zhuǎn)動(dòng);所述下室設(shè)有第三擠盤和第四擠盤，所述第三擠盤與轉(zhuǎn)軸固定連接，隨轉(zhuǎn)軸勻速轉(zhuǎn)動(dòng)，所述第四擠盤通過第二升降機(jī)構(gòu)與研磨室底部相連。
[0014]由于采用了上述技術(shù)方案，物料在研磨室中通過兩段式擠壓的方式進(jìn)行粉碎，轉(zhuǎn)軸上的螺紋與四個(gè)擠盤配合，在轉(zhuǎn)軸的轉(zhuǎn)動(dòng)過程中將物料擠碎，同時(shí)第一擠盤和第四擠盤通過升降機(jī)構(gòu)能夠在遇到較大顆粒物料時(shí)通過重力的作用將物料壓碎，保證物料粉碎的均勻度。物料經(jīng)過上室進(jìn)行粗粉碎，再經(jīng)下室進(jìn)行精粉碎。
[0015]本實(shí)用新型的一種土壤調(diào)理劑物料粉碎機(jī)，所述第一擠盤上表面呈光滑漏斗型，所述第二擠盤下表面與轉(zhuǎn)軸相接處設(shè)有若干篩料孔。
[0016]由于采用了上述技術(shù)方案，物料從入料口進(jìn)入研磨室后，落在第一擠盤上表面，由于重力的作用會(huì)自然滑入轉(zhuǎn)軸進(jìn)行擠壓粉碎，當(dāng)粉碎至合適的細(xì)度后物料經(jīng)過篩料孔的篩選進(jìn)入下室繼續(xù)研磨，若細(xì)度不夠則繼續(xù)留在上室研磨。
[0017]本實(shí)用新型的一種土壤調(diào)理劑物料粉碎機(jī)，所述第四擠盤下表面與轉(zhuǎn)軸相接處設(shè)有若干過料孔，所述研磨室底部設(shè)有出料口。
[0018]采用了上述技術(shù)方案，經(jīng)過下室粉碎后，若粉碎至符合細(xì)度要求后經(jīng)過過料孔的篩選進(jìn)入干燥室進(jìn)行干燥，若細(xì)度不夠則繼續(xù)留在下室研磨。
[0019]綜上所述，由于采用了上述技術(shù)方案，本實(shí)用新型的有益效果是:
[0020]1、對物料進(jìn)行濕潤處理，大大降低了物料與擠盤、轉(zhuǎn)軸之間的摩擦力，降低對擠盤和轉(zhuǎn)軸的磨損，增加擠盤、轉(zhuǎn)軸的使用壽命。
[0021]2、采用擠壓式粉碎代替現(xiàn)有的反擊錘式磨碎，在運(yùn)行過程中噪音小，減小粉塵污染，對碎脆性和柔性物料的粉碎效果均較好，粉碎細(xì)度均勻。
【附圖說明】
[0022]圖1是一種土壤調(diào)理劑物料粉碎機(jī)的結(jié)構(gòu)示意圖。
[0023]圖中標(biāo)記:I為外殼，2為研磨室，3為入料口，4為第一擠盤，5為第二擠盤，6為霧化噴水裝置。
【具體實(shí)施方式】
[0024]下面結(jié)合附圖，對本實(shí)用新型作詳細(xì)的說明。
[0025]為了使本實(shí)用新型的目的、技術(shù)方案及優(yōu)點(diǎn)更加清楚明白，以下結(jié)合附圖及實(shí)施例，對本實(shí)用新型進(jìn)行進(jìn)一步詳細(xì)說明。應(yīng)當(dāng)理解，此處所描述的具體實(shí)施例僅僅用以解釋本實(shí)用新型，并不用于限定本實(shí)用新型。
[0026]如圖1所示，一種土壤調(diào)理劑物料粉碎機(jī)，包括置于外殼I內(nèi)的研磨室2，外殼I內(nèi)設(shè)有研磨室2和干燥室，研磨室2的底部與外殼I間隔形成干燥室，研磨室2底部開有若干出料孔，出料孔連通研磨室與干燥室;外殼I頂部設(shè)有入料口 3，入料口 3與研磨室連通。
[0027]研磨室內(nèi)沿豎直方向設(shè)有轉(zhuǎn)軸，轉(zhuǎn)軸沿順時(shí)針或逆時(shí)針方向勻速轉(zhuǎn)動(dòng)，轉(zhuǎn)軸表面設(shè)有螺紋;研磨室包括上室和下室;上室設(shè)有第一擠盤4和第二擠盤5，第一擠盤4通過第一升降機(jī)構(gòu)與研磨室頂部相連，第二擠盤5與轉(zhuǎn)軸固定連接，隨轉(zhuǎn)軸勻速轉(zhuǎn)動(dòng)；下室設(shè)有第三擠盤和第四擠盤，第三擠盤與轉(zhuǎn)軸固定連接，隨轉(zhuǎn)軸勻速轉(zhuǎn)動(dòng)，第四擠盤通過第二升降機(jī)構(gòu)與研磨室底部相連。
[0028]第一擠盤4的下表面設(shè)有研磨層一，研磨層一包括顆粒狀研磨附件，第二擠盤5的上表面設(shè)有研磨層二，研磨層二包括顆粒狀研磨附件，研磨層一和研磨層二能配合將物料研磨至細(xì)度為50?200μπι。第三擠盤的下表面設(shè)有研磨層三，研磨層三包括顆粒狀研磨附件，第四擠盤的上表面設(shè)有研磨層四，研磨層四包括顆粒狀研磨附件，研磨層三和研磨層四能配合將物料研磨至細(xì)度為0.5?20μπι。
[0029]第一擠盤4上表面呈光滑漏斗型，第二擠盤5下表面與轉(zhuǎn)軸相接處設(shè)有若干篩料孔，篩料孔的孔徑為200μπι。第四擠盤下表面與轉(zhuǎn)軸相接處設(shè)有若干過料孔，過料孔的孔徑為20μπι，研磨室底部設(shè)有出料口。
[0030]研磨室內(nèi)頂部設(shè)有若干霧化噴水裝置6，霧化噴水裝置6的個(gè)數(shù)為4個(gè)，霧化噴水裝置6的噴頭能夠旋轉(zhuǎn)，霧化噴水裝置6能夠?qū)⑺F化后均勻噴灑至第一擠盤4表面，霧化噴水裝置6與儲(chǔ)水裝置相連。
[0031]研磨室2頂部與外殼I之間設(shè)有儲(chǔ)水裝置，外殼I頂部設(shè)有進(jìn)水口，進(jìn)水口與儲(chǔ)水裝置相連。
[0032]干燥室內(nèi)設(shè)有干燥裝置，所述干燥室側(cè)壁上設(shè)有若干風(fēng)機(jī)，風(fēng)機(jī)為通風(fēng)機(jī)，所述風(fēng)機(jī)的轉(zhuǎn)速為400轉(zhuǎn)/分，干燥室底部設(shè)有物料收集裝置。
[0033]以上所述僅為本實(shí)用新型的較佳實(shí)施例而已，并不用以限制本實(shí)用新型，凡在本實(shí)用新型的精神和原則之內(nèi)所作的任何修改、等同替換和改進(jìn)等，均應(yīng)包含在本實(shí)用新型的保護(hù)范圍之內(nèi)。
【主權(quán)項(xiàng)】
1.一種土壤調(diào)理劑物料粉碎機(jī)，其特征在于:包括外殼(I)，所述外殼(I)內(nèi)設(shè)有研磨室(2)和干燥室，所述研磨室與干燥室相連通過出料口相連，所述外殼(I)頂部設(shè)有入料口(3)，所述入料口(3)與研磨室連通;所述干燥室底部設(shè)有物料收集裝置。2.如權(quán)利要求1所述的一種土壤調(diào)理劑物料粉碎機(jī)，其特征在于:所述干燥室內(nèi)設(shè)有干燥裝置，所述干燥室側(cè)壁上設(shè)有若干風(fēng)機(jī)。3.如權(quán)利要求2所述的一種土壤調(diào)理劑物料粉碎機(jī)，其特征在于:所述風(fēng)機(jī)為通風(fēng)機(jī)，所述風(fēng)機(jī)的轉(zhuǎn)速為400轉(zhuǎn)/分。4.如權(quán)利要求1或2或3所述的一種土壤調(diào)理劑物料粉碎機(jī)，其特征在于:所述外殼(I)內(nèi)設(shè)有儲(chǔ)水裝置，所述儲(chǔ)水裝置連有若干霧化噴水裝置(6)，所以霧化噴水裝置(6)能夠?qū)⑺F化后均勻噴灑至研磨室內(nèi)。5.如權(quán)利要求4所述的一種土壤調(diào)理劑物料粉碎機(jī)，其特征在于:所述研磨室內(nèi)沿豎直方向設(shè)有轉(zhuǎn)軸，所述轉(zhuǎn)軸沿順時(shí)針或逆時(shí)針方向勻速轉(zhuǎn)動(dòng)，所述轉(zhuǎn)軸表面設(shè)有螺紋;所述研磨室包括上室和下室;所述上室設(shè)有第一擠盤(4)和第二擠盤(5)，所述第一擠盤(4)通過第一升降機(jī)構(gòu)與研磨室頂部相連，所述第二擠盤(5)與轉(zhuǎn)軸固定連接，隨轉(zhuǎn)軸勾速轉(zhuǎn)動(dòng);所述下室設(shè)有第三擠盤和第四擠盤，所述第三擠盤與轉(zhuǎn)軸固定連接，隨轉(zhuǎn)軸勻速轉(zhuǎn)動(dòng)，所述第四擠盤通過第二升降機(jī)構(gòu)與研磨室底部相連。6.如權(quán)利要求5所述的一種土壤調(diào)理劑物料粉碎機(jī)，其特征在于:所述第一擠盤(4)上表面呈光滑漏斗型，所述第二擠盤(5)下表面與轉(zhuǎn)軸相接處設(shè)有若干篩料孔。7.如權(quán)利要求6所述的一種土壤調(diào)理劑物料粉碎機(jī)，其特征在于:所述第四擠盤下表面與轉(zhuǎn)軸相接處設(shè)有若干過料孔，所述研磨室底部設(shè)有出料口。
【文檔編號】F26B21/00GK205462448SQ201620281503
【公開日】2016年8月17日
【申請日】2016年4月7日
【發(fā)明人】費(fèi)冰虹
【申請人】四川沃達(dá)豐生物科技有限公司