一種濕法脫硫后流量可調(diào)的高效渦旋除塵霧裝置的制造方法
【技術(shù)領(lǐng)域】
[0001]本實(shí)用新型涉及除塵裝置技術(shù)領(lǐng)域，尤其涉及一種濕法脫硫后流量可調(diào)的高效渦旋除塵霧裝置。
【背景技術(shù)】
[0002]目前絕大部分的脫硫裝置都存在石膏雨等問題，脫硫后的煙氣含塵霧量遠(yuǎn)高于國(guó)家標(biāo)準(zhǔn)規(guī)定的排放值，由于脫硫后的氣量都很大，而導(dǎo)致傳統(tǒng)的除塵裝置不能徹底除塵；目前很多脫硫后的煙氣凈化裝置沖洗下來的污水都回流到吸收塔內(nèi)部，很容易造成二次污染。為此，研制一種濕法脫硫后流量可調(diào)的高效渦旋除塵霧裝置。
【實(shí)用新型內(nèi)容】
[0003]本實(shí)用新型的目的是為了解決現(xiàn)有技術(shù)中存在的缺點(diǎn)，而提出的一種濕法脫硫后流量可調(diào)的尚效禍旋除塵霧裝置。
[0004]為了實(shí)現(xiàn)上述目的，本實(shí)用新型采用了如下技術(shù)方案:
[0005]—種濕法脫硫后流量可調(diào)的高效渦旋除塵霧裝置，包括外殼，外殼的頂面設(shè)有煙氣出口，外殼底面設(shè)有排污口，在外殼的側(cè)面安裝有與其內(nèi)部連通的連接口，連接口上套接進(jìn)口管道，且在進(jìn)口管道上設(shè)有閘板閥；在外殼內(nèi)通過固定裝置安裝一中心管，且中心管與外殼同軸設(shè)置;外殼內(nèi)設(shè)有若干個(gè)渦旋板;外殼內(nèi)靠近煙氣出口的一端通過固定裝置設(shè)有噴淋裝置，且在外殼內(nèi)靠近排污口的一端設(shè)有沖洗裝置。
[0006]優(yōu)選的，排污口內(nèi)設(shè)有方便灰塵滑落沖洗的斜板。
[0007]優(yōu)選的，渦旋板呈圓弧形，若干個(gè)渦旋板均與中心管同軸設(shè)置，且至中心管向外渦旋板的內(nèi)徑依次增大;兩個(gè)相鄰的渦旋板之間設(shè)有間隙。
[0008]優(yōu)選的，渦旋板開口與連接口相對(duì)。
[0009]優(yōu)選的，外殼的直徑為3_5m。
[0010]優(yōu)選的，進(jìn)口管道上設(shè)置有閘板閥。
[0011]本實(shí)用新型提出的一種濕法脫硫后流量可調(diào)的高效渦旋除塵霧裝置，在使用時(shí)，煙氣通過外殼下部的循環(huán)管道以切線方向高速進(jìn)去，外殼內(nèi)安裝若干塊渦旋板，高速進(jìn)來的氣流撞擊在渦旋板上在離心力的作用下含塵的顆粒被收集到渦旋板上，由于長(zhǎng)時(shí)間積累，在重力的作用下回流到外殼底部并被排出，外殼上部和底部分別設(shè)置有噴淋裝置和沖洗裝置以便及時(shí)沖洗渦旋板表面和底部沉積下來的塵粒。
【附圖說明】
[0012]圖1為本實(shí)用新型提出的一種濕法脫硫后流量可調(diào)的高效渦旋除塵霧裝置的結(jié)構(gòu)主視圖；
[0013]圖2為本實(shí)用新型提出的一種濕法脫硫后流量可調(diào)的高效渦旋除塵霧裝置的結(jié)構(gòu)俯視圖。
[0014]圖中:1、煙氣出口，2、噴淋裝置，3、中心管，4、渦旋板，5、連接口，6、沖洗裝置，7、排污口，8、閘板閥，9、進(jìn)口管道，10、外殼。
【具體實(shí)施方式】
[0015]下面將結(jié)合本實(shí)用新型實(shí)施例中的附圖，對(duì)本實(shí)用新型實(shí)施例中的技術(shù)方案進(jìn)行清楚、完整地描述，顯然，所描述的實(shí)施例僅僅是本實(shí)用新型一部分實(shí)施例，而不是全部的實(shí)施例。
[0016]參照?qǐng)D1-2，一種濕法脫硫后流量可調(diào)的高效渦旋除塵霧裝置，包括外殼10，外殼10的直徑為3-5m，外殼10的頂面設(shè)有煙氣出口 I，外殼10底面設(shè)有排污口7。
[0017]在外殼10的側(cè)面安裝有與其內(nèi)部連通的連接口5，連接口 5上套接一進(jìn)口管道9，且在進(jìn)口管道9上設(shè)有閘板閥8;在外殼10內(nèi)通過固定裝置安裝一中心管3，且中心管3與外殼10同軸設(shè)置。
[0018]外殼10內(nèi)設(shè)有若干個(gè)渦旋板4，渦旋板4開口與連接口5相對(duì)；如圖2所示，渦旋板4呈圓弧形，若干個(gè)渦旋板4均與中心管3同軸設(shè)置，且至中心管3向外渦旋板4的內(nèi)徑依次增大;兩個(gè)相鄰的渦旋板4之間設(shè)有間隙。
[0019]外殼10內(nèi)靠近煙氣出口I的一端通過固定裝置設(shè)有噴淋裝置2，且在外殼10內(nèi)靠近排污口 7的一端設(shè)有沖洗裝置6，外殼10底面設(shè)有方便灰塵滑落的斜板。
[0020]實(shí)際使用過程中，可以采用幾臺(tái)高效渦旋除塵裝置并聯(lián)的方式工作，在其中的一臺(tái)或兩臺(tái)氣體進(jìn)口處設(shè)置的閘板閥8，這樣在煙氣量發(fā)生變化時(shí)可以酌情考慮關(guān)閉一到兩臺(tái)閘板閥8以確保氣體進(jìn)口的氣流速度維持在20-25m/s左右，這樣可以確?？傮w效率保持不變。
[0021]在使用時(shí)，煙氣通過外殼10下部的進(jìn)口管道9以切線方向高速進(jìn)去，外殼10內(nèi)安裝若干塊渦旋板4，高速進(jìn)來的氣流撞擊在渦旋板4上在離心力的作用下含塵的顆粒被收集到渦旋板4上，由于長(zhǎng)時(shí)間積累，灰塵在重力的作用下回流到外殼10底部并被排出，外殼10上部和底部分別設(shè)置有噴淋裝置2和沖洗裝置6以便及時(shí)沖洗渦旋板表面和底部沉積下來的塵粒。
[0022]以上所述，僅為本實(shí)用新型較佳的【具體實(shí)施方式】，但本實(shí)用新型的保護(hù)范圍并不局限于此，任何熟悉本技術(shù)領(lǐng)域的技術(shù)人員在本實(shí)用新型揭露的技術(shù)范圍內(nèi)，根據(jù)本實(shí)用新型的技術(shù)方案及其實(shí)用新型構(gòu)思加以等同替換或改變，都應(yīng)涵蓋在本實(shí)用新型的保護(hù)范圍之內(nèi)。
【主權(quán)項(xiàng)】
1.一種濕法脫硫后流量可調(diào)的高效渦旋除塵霧裝置，包括外殼(10)，外殼(10)的頂面設(shè)有煙氣出口( I)，外殼(10)底面設(shè)有排污口(7)，其特征在于，在外殼(10)的側(cè)面安裝有與其內(nèi)部連通的連接口(5)，連接口(5)上套接進(jìn)口管道(9)，且在進(jìn)口管道(9)上設(shè)有閘板閥(8);在外殼(10)內(nèi)通過固定裝置安裝一中心管(3)，且中心管(3)與外殼(10)同軸設(shè)置;夕卜殼內(nèi)設(shè)有若干個(gè)渦旋板(4);外殼(10)內(nèi)靠近煙氣出口(I)的一端通過固定裝置設(shè)有噴淋裝置(2)，且在外殼(10)內(nèi)靠近排污口(7)的一端設(shè)有沖洗裝置(6)。2.根據(jù)權(quán)利要求1所述的一種濕法脫硫后流量可調(diào)的高效渦旋除塵霧裝置，其特征在于，外殼(1)底面設(shè)有方便灰塵滑落的斜板。3.根據(jù)權(quán)利要求1所述的一種濕法脫硫后流量可調(diào)的高效渦旋除塵霧裝置，其特征在于，渦旋板(4)呈圓弧形，若干個(gè)渦旋板(4)均與中心管(3)同軸設(shè)置，且至中心管(3)向外渦旋板(4)的內(nèi)徑依次增大;兩個(gè)相鄰的渦旋板(4)之間設(shè)有間隙。4.根據(jù)權(quán)利要求1或3所述的一種濕法脫硫后流量可調(diào)的高效渦旋除塵霧裝置，其特征在于，渦旋板(4)開口與連接口(5)相對(duì)。5.根據(jù)權(quán)利要求1所述的一種濕法脫硫后流量可調(diào)的高效渦旋除塵霧裝置，其特征在于，夕卜殼(10)的直徑為3_5m。
【專利摘要】本實(shí)用新型公開了一種濕法脫硫后流量可調(diào)的高效渦旋除塵霧裝置，包括外殼，外殼的頂面設(shè)有煙氣出口，外殼底面設(shè)有排污口，在外殼的側(cè)面安裝有與其內(nèi)部連通的連接口，連接口上套接一進(jìn)口管道，且在進(jìn)口管道上設(shè)有閘板閥；在外殼內(nèi)通過固定裝置安裝一中心管，且中心管與外殼同軸設(shè)置；外殼內(nèi)設(shè)有若干個(gè)渦旋板；外殼內(nèi)靠近煙氣出口的一端通過固定裝置設(shè)有噴淋裝置。本實(shí)用新型在使用時(shí)，高速進(jìn)來的氣流撞擊在渦旋板上，在離心力的作用下含塵的顆粒被收集到渦旋板上，由于長(zhǎng)時(shí)間積累，在重力的作用下回流到外殼底部并被排出，外殼上部和底部分別設(shè)置有噴淋裝置和沖洗裝置以便及時(shí)沖洗渦旋板表面和底部沉積下來的塵粒。
【IPC分類】B01D45/16
【公開號(hào)】CN205182375
【申請(qǐng)?zhí)枴緾N201521013444
【發(fā)明人】林祖涵
【申請(qǐng)人】林祖涵
【公開日】2016年4月27日
【申請(qǐng)日】2015年12月9日