一種節(jié)水噴淋頭的制作方法
【專利說明】
【技術(shù)領(lǐng)域】
[0001]本實用新型涉及衛(wèi)浴產(chǎn)品的技術(shù)領(lǐng)域，特別是噴淋頭的技術(shù)領(lǐng)域。
【【背景技術(shù)】】
[0002]淋浴噴頭屬于一種常見的衛(wèi)浴產(chǎn)品，一般安裝于淋浴房上方，用于開放冷熱混合水。淋浴噴頭的閥體多用黃銅制造，外表有鍍鉻、鍍金等鍍層，可防銹和防腐蝕。啟閉水流的方式有螺桿升降式、陶瓷閥芯式等。噴淋頭的噴射方式多為軟管花灑或嵌墻式花灑。
[0003]目前市場上的噴淋頭已具有多種智能功能，用戶體驗度大為提高，但是并沒有在節(jié)約水資源的角度進行提高，淋浴中的水資源浪費現(xiàn)象仍然較為普遍。
【【實用新型內(nèi)容】】
[0004]本實用新型的目的就是解決現(xiàn)有技術(shù)中的問題，提出一種節(jié)水噴淋頭，能夠使噴淋頭針對用戶的淋浴過程中的行為特征而進行實時調(diào)整水流量，節(jié)約水資源。
[0005]為實現(xiàn)上述目的，本實用新型提出了一種節(jié)水噴淋頭，包括外殼、電磁閥、管路倉、遮水板、一級噴射環(huán)、二級噴射環(huán)、三級噴射環(huán)、保護倉、紅外發(fā)射器；所述外殼呈錐形，所述管路倉設(shè)置在所述外殼內(nèi)部，所述外殼與所述管路倉之間設(shè)置有儲水倉；所述電磁閥設(shè)置在所述外殼上部；所述遮水板設(shè)置在所述外殼的下部，所述遮水板下部從內(nèi)到外依次設(shè)置有所述的一級噴射環(huán)、二級噴射環(huán)和三級噴射環(huán)，所述一級噴射環(huán)、二級噴射環(huán)和三級噴射環(huán)之間可轉(zhuǎn)動的相連接；所述遮水板下部還設(shè)置有一個保護倉，所述保護倉設(shè)置在所述一級噴射環(huán)中心處，所述噴射環(huán)內(nèi)部還設(shè)置有所述紅外發(fā)射器，所述紅外發(fā)射器下部還設(shè)置有位于所述保護倉上的透明的保護板。
[0006]作為優(yōu)選，所述一級噴射環(huán)、二級噴射環(huán)和三級噴射環(huán)上分別設(shè)置有一級撥片、二級撥片和三級撥片。
[0007]作為優(yōu)選，所述遮水板上設(shè)置有密布的通水槽。
[0008]作為優(yōu)選，所述一級噴射環(huán)、二級噴射環(huán)和三級噴射環(huán)上均設(shè)置有圓形分布的噴射口。
[0009]作為優(yōu)選，所述三級噴射環(huán)與所述外殼之間還設(shè)置有密封環(huán)。
[0010]本實用新型的有益效果:本實用新型通過在遮水板下部設(shè)置可轉(zhuǎn)動的噴射環(huán)，通過手動撥動撥片可以控制噴射環(huán)中流水的通斷，通過在一級噴射環(huán)中心處設(shè)置紅外發(fā)射器控制電磁閥，可以實現(xiàn)在無人淋浴時噴淋頭的斷水，保證了水的節(jié)約使用。
[0011]本實用新型的特征及優(yōu)點將通過實施例結(jié)合附圖進行詳細說明。
【【附圖說明】】
[0012]圖1是本實用新型一種節(jié)水噴淋頭的主視剖面圖；
[0013]圖2是圖1中A部的放大圖。
[0014]圖中:1-外殼、2-儲水倉、3-管路倉、4-遮水板、5-三級噴射環(huán)、6-二級噴射環(huán)、7-—級噴射環(huán)、8-保護倉、9-保護板、10-紅外發(fā)射器、11-密封環(huán)、12-噴射口、13-電磁閥、41-通水槽、51-三級撥片、61-二級撥片、71-—級撥片。
【【具體實施方式】】
[0015]參閱圖1和圖2，本實用新型，包括外殼1、電磁閥13、管路倉3、遮水板4、一級噴射環(huán)7、二級噴射環(huán)6、三級噴射環(huán)5、保護倉8、紅外發(fā)射器10 ;所述外殼I呈錐形，所述管路倉3設(shè)置在所述外殼I內(nèi)部，所述外殼I與所述管路倉3之間設(shè)置有儲水倉2 ;所述電磁閥13設(shè)置在所述外殼I上部；所述遮水板4設(shè)置在所述外殼I的下部，所述遮水板4下部從內(nèi)到外依次設(shè)置有所述的一級噴射環(huán)7、二級噴射環(huán)6和三級噴射環(huán)5，所述一級噴射環(huán)7、二級噴射環(huán)6和三級噴射環(huán)5之間可轉(zhuǎn)動的相連接；所述遮水板4下部還設(shè)置有一個保護倉8，所述保護倉8設(shè)置在所述一級噴射環(huán)7中心處，所述一級噴射環(huán)7內(nèi)部還設(shè)置有所述紅外發(fā)射器10，所述紅外發(fā)射器10下部還設(shè)置有位于所述保護倉8上的透明的保護板9。所述一級噴射環(huán)7、二級噴射環(huán)6和三級噴射環(huán)5上分別設(shè)置有一級撥片71、二級撥片61和三級撥片51。所述遮水板4上設(shè)置有密布的通水槽41。所述一級噴射環(huán)7、二級噴射環(huán)6和三級噴射環(huán)5上均設(shè)置有圓形分布的噴射口 12。所述三級噴射環(huán)5與所述外殼I之間還設(shè)置有密封環(huán)11。
[0016]本實用新型工作過程:
[0017]本實用新型一種節(jié)水噴淋頭在工作過程中，通過紅外發(fā)射器對噴淋頭下部進行檢測，通過是否有人淋浴對電磁閥進行控制，從而控制噴淋頭中水的通斷，通過手動撥動一級撥片、二級撥片和三級撥片，控制一級噴射環(huán)、二級噴射環(huán)和三級噴射環(huán)中水的通斷，從而控制噴水的流量大小。
[0018]本實用新型，通過在遮水板下部設(shè)置可轉(zhuǎn)動的噴射環(huán)，通過手動撥動撥片可以控制噴射環(huán)中流水的通斷，通過在一級噴射環(huán)中心處設(shè)置紅外發(fā)射器控制電磁閥，可以實現(xiàn)在無人淋浴時噴淋頭的斷水，保證了水的節(jié)約使用。
[0019]上述實施例是對本實用新型的說明，不是對本實用新型的限定，任何對本實用新型簡單變換后的方案均屬于本實用新型的保護范圍。
【主權(quán)項】
1.一種節(jié)水噴淋頭，其特征在于:包括外殼(1)、電磁閥(13)、管路倉(3)、遮水板(4)、一級噴射環(huán)(7)、二級噴射環(huán)(6)、三級噴射環(huán)(5)、保護倉(8)、紅外發(fā)射器(10);所述外殼(I)呈錐形，所述管路倉(3)設(shè)置在所述外殼(I)內(nèi)部，所述外殼(I)與所述管路倉(3)之間設(shè)置有儲水倉(2);所述電磁閥(13)設(shè)置在所述外殼(I)上部；所述遮水板(4)設(shè)置在所述外殼(I)的下部，所述遮水板(4)下部從內(nèi)到外依次設(shè)置有所述的一級噴射環(huán)(7)、二級噴射環(huán)(6)和三級噴射環(huán)(5)，所述一級噴射環(huán)(7)、二級噴射環(huán)(6)和三級噴射環(huán)(5)之間可轉(zhuǎn)動的相連接；所述遮水板(4)下部還設(shè)置有一個保護倉(8)，所述保護倉(8)設(shè)置在所述一級噴射環(huán)(7)中心處，所述一級噴射環(huán)(7)內(nèi)部還設(shè)置有所述紅外發(fā)射器(10)，所述紅外發(fā)射器(10)下部還設(shè)置有位于所述保護倉(8)上的透明的保護板(9)。2.如權(quán)利要求1所述的節(jié)水噴淋頭，其特征在于:所述一級噴射環(huán)(7)、二級噴射環(huán)(6)和三級噴射環(huán)(5)上分別設(shè)置有一級撥片(71)、二級撥片(61)和三級撥片(51)。3.如權(quán)利要求1所述的節(jié)水噴淋頭，其特征在于:所述遮水板(4)上設(shè)置有密布的通水槽(41)。4.如權(quán)利要求1所述的節(jié)水噴淋頭，其特征在于:所述一級噴射環(huán)(7)、二級噴射環(huán)(6)和三級噴射環(huán)(5)上均設(shè)置有圓形分布的噴射口(12)。5.如權(quán)利要求1所述的節(jié)水噴淋頭，其特征在于:所述三級噴射環(huán)(5)與所述外殼(I)之間還設(shè)置有密封環(huán)(11)。
【專利摘要】本實用新型公開了一種節(jié)水噴淋頭，包括外殼、電磁閥、管路倉、遮水板、一級噴射環(huán)、二級噴射環(huán)、三級噴射環(huán)、保護倉、紅外發(fā)射器；所述管路倉設(shè)置在所述外殼內(nèi)部，所述外殼與所述管路倉之間設(shè)置有儲水倉；所述電磁閥設(shè)置在所述外殼上部；所述遮水板設(shè)置在所述外殼的下部，所述遮水板下部從內(nèi)到外依次設(shè)置有所述的一級噴射環(huán)、二級噴射環(huán)和三級噴射環(huán)；所述遮水板下部還設(shè)置有一個保護倉，所述噴射環(huán)內(nèi)部還設(shè)置有所述紅外發(fā)射器，所述紅外發(fā)射器下部還設(shè)置有位于所述保護倉上的透明的保護板。本實用新型能夠使噴淋頭針對用戶的淋浴過程中的行為特征而進行實時調(diào)整水流量，節(jié)約水資源。
【IPC分類】B05B12/02, B05B1/18
【公開號】CN204892163
【申請?zhí)枴緾N201520415367
【發(fā)明人】任天翼
【申請人】任天翼
【公開日】2015年12月23日
【申請日】2015年6月16日