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光反應(yīng)設(shè)備的制造方法_3

文檔序號(hào):9982555閱讀:來源:國知局
的液滴可以沿著擋流板及內(nèi)壁流回反應(yīng)液中,使反應(yīng)更加完全,也便于容器清洗。由此,根據(jù)本實(shí)用新型實(shí)施例的光反應(yīng)設(shè)備可以進(jìn)一步具有簡便的操作、較強(qiáng)的可控性、較好的光照質(zhì)量以及較完全地保障光化學(xué)反應(yīng)的進(jìn)行。
[0053]參見圖8,根據(jù)本實(shí)用新型的一個(gè)實(shí)施例,反應(yīng)容器100為圓柱體,并且具有直徑為Rl的圓形橫截面;光源400的數(shù)目為N ;光源400的功率為W ;光源400與反應(yīng)容器100豎軸的平均距離為R2 ;擾流板的數(shù)目為L ;攪拌裝置的漿葉的數(shù)目為S ;其中,W、RU N、R2、L和S滿足下列條件:0.01 ^ W*R1*R2/(N*L*S) ^ 0.1。根據(jù)本實(shí)用新型的另一個(gè)實(shí)施例,所述攪拌裝置的攪拌速度為150r/min。發(fā)明人發(fā)現(xiàn),在反應(yīng)容器內(nèi)設(shè)置液面限位件,并限定W、R1、N、R2、L和S的關(guān)系,可以使反應(yīng)液能夠充分吸收光子,使反應(yīng)更加完全,W*R1*R2/(N*L*S)的值過大過小都將影響光照強(qiáng)度,進(jìn)而抑制光化學(xué)反應(yīng)的進(jìn)行。由此,根據(jù)本實(shí)用新型實(shí)施例的光反應(yīng)設(shè)備可以進(jìn)一步具有簡便的操作、較強(qiáng)的可控性、較好的光照質(zhì)量以及較完全地保障光化學(xué)反應(yīng)的進(jìn)行。
[0054]參見圖8,根據(jù)本實(shí)用新型的一個(gè)實(shí)施例,進(jìn)一步包括:液面限位件1000,該液面限位件1000設(shè)置在內(nèi)壁上,并且液面限位件1000距離反應(yīng)容器100底部的高度為H,光源400與反應(yīng)容器100豎軸的平均距離為R2,其中,H與R2滿足關(guān)系式:0.5 ^ H/R2 ^ 2。根據(jù)本實(shí)用新型的另一個(gè)實(shí)施例,光源400與反應(yīng)容器100底部的垂直距離為H1,其中,H與Hl滿足關(guān)系式0.15Η1/Η5 I。發(fā)明人發(fā)現(xiàn),在反應(yīng)容器內(nèi)設(shè)置液面限位件,并限定H與R2的關(guān)系,可以使反應(yīng)液能夠充分吸收光子,使反應(yīng)更加完全,0.5 ^ H/R2 ^ 2的值過大過小都將影響光照強(qiáng)度,進(jìn)而抑制光化學(xué)反應(yīng)的進(jìn)行。由此,根據(jù)本實(shí)用新型實(shí)施例的光反應(yīng)設(shè)備可以進(jìn)一步具有簡便的操作、較強(qiáng)的可控性、較好的光照質(zhì)量以及較完全地保障光化學(xué)反應(yīng)的進(jìn)行。
[0055]參見圖11,根據(jù)本實(shí)用新型的一個(gè)實(shí)施例,進(jìn)一步包括反射板1100,該反射板1100設(shè)置在光源400遠(yuǎn)離反應(yīng)容器100的一側(cè)。由此,可以將未進(jìn)入反應(yīng)容器的光反射回反應(yīng)器中,從而避免了光線對(duì)用戶的損害而引起不適,也能夠有效提高光利用率。由此,根據(jù)本實(shí)用新型實(shí)施例的光反應(yīng)設(shè)備可以進(jìn)一步具有簡便的操作、較強(qiáng)的可控性、較好的光照質(zhì)量以及較完全地保障光化學(xué)反應(yīng)的進(jìn)行。
[0056]在本實(shí)用新型的另一方面,本實(shí)用新型提出了一種用于制備化合物的系統(tǒng),參見圖12,該系統(tǒng)包括:光反應(yīng)設(shè)備10a ;以及純化設(shè)備100b,該純化設(shè)備10a與光反應(yīng)設(shè)備10b相連。
[0057]關(guān)于光反應(yīng)設(shè)備100a,在前面已經(jīng)進(jìn)行了詳細(xì)描述,在此不再贅述。
[0058]關(guān)于純化設(shè)備,本領(lǐng)域技術(shù)人員可以根據(jù)具體情況進(jìn)行選擇,根據(jù)本實(shí)用新型的實(shí)施例,純化設(shè)備可以選自離心機(jī)、層析柱、透析器以及旋蒸儀的至少之一。
[0059]關(guān)于化合物,本實(shí)用新型用于制備化合物的系統(tǒng)對(duì)于化合物不做嚴(yán)格的限制,凡是需要進(jìn)行光反應(yīng)的物質(zhì)都可以通過本實(shí)用新型的系統(tǒng)進(jìn)行制備。根據(jù)本實(shí)用新型的實(shí)施例,化合物為金絲桃素、2-溴-2-(2-氟苯基)-1_環(huán)丙基乙酮或者新型齊墩果酸衍生物。
[0060]綜上所述,本實(shí)用新型光反應(yīng)設(shè)備具有以下優(yōu)點(diǎn)的至少之一:
[0061]1、根據(jù)本實(shí)用新型的實(shí)施例,將光源放置于反應(yīng)容器的外部,通過透明材料制成的反應(yīng)容器可以使光源充分作用于反應(yīng)物質(zhì),促進(jìn)光化學(xué)反應(yīng)的發(fā)生。
[0062]2、根據(jù)本實(shí)用新型的實(shí)施例,將光源放置在支架上,并且可移動(dòng)地設(shè)置在支架的滑軌上,滑動(dòng)滑軌和光源即可實(shí)現(xiàn)光源從多個(gè)方向?qū)Ψ磻?yīng)容器進(jìn)行照射,操作簡便,同時(shí)增加了反應(yīng)面積,具有較強(qiáng)的可控性以及較好的光照質(zhì)量。
[0063]3、根據(jù)本實(shí)用新型的實(shí)施例,攪拌裝置的添加不僅起到了混合反應(yīng)物的作用,還使盡可能多物質(zhì)分子吸收光子,以充分發(fā)生光化學(xué)反應(yīng)。擾流板可以使攪拌的液體盡可能少的濺到反應(yīng)容器的內(nèi)壁上,易于清洗。
[0064]實(shí)施例1
[0065]在該實(shí)施例中,利用光反應(yīng)設(shè)備通過下列步驟合成金絲桃素:
[0066](I)在四頸瓶中加入大黃素840mg(3mmol)和冰乙酸50mL,N2保護(hù),攪拌下加入SnCl2.2Η20 2.84g(12.6mmol),升溫至回流后緩慢滴加48%氫溴酸5mL(間隔30min分4次滴加);加畢,繼續(xù)反應(yīng)2h(TLC跟蹤)。冷卻至室溫,抽濾,濾餅用水洗至中性,干燥得淡黃色粉末2672mg ;
[0067](2)在四頸瓶中依次加入步驟(I)得到的粉末2512mg (2mmol),吡啶10mL,F(xiàn)eSO4.7H20 820mg(0.295mmol),吡啶氮氧化物 1.25g(13.2mmol)以及吡啶 I mL,N2保護(hù)下避光加熱至回流(100°C)反應(yīng)1.5h(TLC跟蹤)。冷卻至室溫,蒸除有機(jī)溶劑后加入3%鹽酸200mL,充分?jǐn)嚢?0min。抽濾,濾餅用水洗至中性,干燥,經(jīng)柱[洗脫劑:V (三氯甲烷):V(甲醇)=3:2]分離干燥得紫黑色粉末狀固體;
[0068](3)將3253mg(0.5mmol)步驟⑵得到的粉末充分溶解于丙酮(400mL)中;用鹵素?zé)粲?00W照射26h (TLC跟蹤);濃縮反應(yīng)液烘箱干燥,得到黑色粉末。
[0069]光反應(yīng)設(shè)備的液面限位件距離反應(yīng)容器底部的高度為H,光源與反應(yīng)容器豎軸的平均距離為R2,其中,H與R2滿足關(guān)系式:H/R2為1.5 ;光源與反應(yīng)容器底部的垂直距離為H1,其中,H與Hl滿足關(guān)系式:H1/H為0.5。
[0070]反應(yīng)容器為圓柱體,并且具有直徑為Rl的圓形橫截面;光源的數(shù)目為N ;光源的功率為w ;光源與反應(yīng)容器豎軸的平均距離為R2 ;擾流板的數(shù)目為L ;攪拌裝置的漿葉的數(shù)目為S ;其中,W、R1、N、R2、L和S滿足下列條件:W*R1*R2/(N*L*S) = 0.5,攪拌裝置的攪拌速度為 150r/min。
[0071]實(shí)施例2
[0072]在該實(shí)施例中,利用光反應(yīng)設(shè)備通過下列步驟合成2-溴-2- (2-氟苯基)-1-環(huán)丙基乙酮:
[0073]裝有攪拌器和溫度計(jì)的250mL三口圓底燒瓶中,加入2-(2-氟苯基)_1_環(huán)丙基乙酮10.0g(56.1mmol)和二氯甲燒100mL、二溴海因(8.0g,28.0 mmol)、過氧化苯甲酰(0.5g),于室溫下,用15W的目光燈光照下反應(yīng)4h,然后冷卻,濃縮回收甲醇,殘余物溶于二氯甲烷,過濾,濾液水洗至中性,無水MgSO4干燥,減壓濃縮至恒重得到淺黃色油狀物。
[0074]光反應(yīng)設(shè)備的液面限位件距離反應(yīng)容器底部的高度為H,光源與反應(yīng)容器豎軸的平均距離為R2,其中,H與R2滿足關(guān)系式:H/R2為I ;光源與反應(yīng)容器底部的垂直距離為Hl,其中,H與Hl滿足關(guān)系式:H1/H為0.7。
[0075]反應(yīng)容器為圓柱體,并且具有直徑為Rl的圓形橫截面;光源的數(shù)目為N ;光源的功率為W ;光源與反應(yīng)容器豎軸的平均距離為R2 ;擾流板的數(shù)目為L ;攪
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