一種噴霧器及其基片處理系統(tǒng)的制作方法
【技術(shù)領(lǐng)域】
[0001]本實(shí)用新型涉及基片,更具體地涉及一種噴霧器及其基片處理系統(tǒng)。
【背景技術(shù)】
[0002]對(duì)于基片,例如半導(dǎo)體硅片,太陽(yáng)能電池片及平板顯示器,通常通過(guò)濕處理技術(shù)進(jìn)行清洗,即將基片浸入化學(xué)液槽體內(nèi)進(jìn)行?,F(xiàn)有技術(shù)中已知可以通過(guò)霧化液體來(lái)對(duì)基片進(jìn)行處理,但是霧化量往往比較低,如此導(dǎo)致效率低下。
【實(shí)用新型內(nèi)容】
[0003]為了解決上述現(xiàn)有技術(shù)存在的霧化量低的問(wèn)題,本實(shí)用新型旨在提供一種噴霧器及其基片處理系統(tǒng)。
[0004]本實(shí)用新型所述的噴霧器,包括:儲(chǔ)存有待霧化的液體的儲(chǔ)液腔體,所述儲(chǔ)液腔體的內(nèi)部設(shè)置有儲(chǔ)液腔體加熱管;通過(guò)輸液組件與所述儲(chǔ)液腔體連通的霧化腔體,所述霧化腔體具有底壁,所述輸液組件包括吸液管和調(diào)節(jié)桿,所述調(diào)節(jié)桿固定于所述底壁,所述調(diào)節(jié)桿的頂部具有中空的混合區(qū)域,所述待霧化的液體通過(guò)所述吸液管進(jìn)入所述混合區(qū)域;所述底壁具有氣體通道,氣體通過(guò)所述氣體通道進(jìn)入所述混合區(qū)域;在所述混合區(qū)域中,所述待霧化的液體在所述氣體的作用下發(fā)生霧化后進(jìn)入所述霧化腔體。
[0005]所述輸液組件還包括有支撐件,所述調(diào)節(jié)桿通過(guò)所述支撐件固定于所述底壁。
[0006]所述底壁具有底壁通孔,所述調(diào)節(jié)桿穿過(guò)所述底壁通孔延伸。
[0007]所述底壁通孔為臺(tái)階孔,所述支撐件容置于所述臺(tái)階孔中固定。
[0008]所述底壁具有回流孔,未霧化的液體通過(guò)所述回流孔從所述霧化腔體流回所述儲(chǔ)液腔體。
[0009]所述調(diào)節(jié)桿具有調(diào)節(jié)桿通孔,所述吸液管的頂端容置于所述調(diào)節(jié)桿通孔中。
[0010]所述噴霧器還包括有通過(guò)連接管與所述霧化腔體連通的延伸腔體,所述延伸腔體的內(nèi)部設(shè)置有延伸腔體加熱管。
[0011 ] 所述儲(chǔ)液腔體的側(cè)壁上設(shè)置有低液位傳感器和高液位傳感器。
[0012]本實(shí)用新型所述的基片處理系統(tǒng),包括至少一個(gè)上述的噴霧器。
[0013]該基片處理系統(tǒng)包括通過(guò)閥門(mén)連通的密閉處理槽和所述噴霧器,至少一塊基片容納于所述密閉處理槽中。
[0014]本實(shí)用新型通過(guò)設(shè)置于儲(chǔ)液腔體內(nèi)部的儲(chǔ)液腔體加熱管加熱待霧化的液體,使得液體分子的碰撞更為激烈,同時(shí)降低液體的粘度,便于后續(xù)的霧化,同時(shí),氣體從外部的儲(chǔ)氣器通過(guò)氣體通道進(jìn)入調(diào)節(jié)桿頂部的混合區(qū)域,產(chǎn)生局部真空,迫使待霧化的液體順利地通過(guò)吸液管進(jìn)入混合區(qū)域中,使得液體和氣體進(jìn)行劇烈碰撞形成霧狀液體,從而進(jìn)一步提高本噴霧器的霧化量。本實(shí)用新型提供的基片處理系統(tǒng)通過(guò)噴霧器的不同的氣體和液體的選擇對(duì)基片進(jìn)行不同的處理,具有極大的靈活性能。
【附圖說(shuō)明】
[0015]圖1是根據(jù)本實(shí)用新型的一個(gè)優(yōu)選實(shí)施例的噴霧器的爆炸圖;
[0016]圖2是根據(jù)本實(shí)用新型的一個(gè)優(yōu)選實(shí)施例的噴霧器的剖視圖;
[0017]圖3是圖2的區(qū)域A的放大圖;以及
[0018]圖4是根據(jù)本實(shí)用新型的一個(gè)優(yōu)選實(shí)施例的基片處理系統(tǒng)的示意圖。
【具體實(shí)施方式】
[0019]下面結(jié)合附圖,給出本實(shí)用新型的較佳實(shí)施例,并予以詳細(xì)描述。
[0020]如圖1所示,根據(jù)本實(shí)用新型的一個(gè)優(yōu)選實(shí)施例的噴霧器10包括儲(chǔ)液腔體1、輸液組件2、霧化腔體3、連接管4和延伸腔體5。
[0021]儲(chǔ)液腔體I內(nèi)儲(chǔ)存有待霧化的液體11,該待霧化的液體11從外部的儲(chǔ)液器通過(guò)液體入口接頭Ila(例如錐形螺紋接頭)進(jìn)入儲(chǔ)液腔體I內(nèi)部。儲(chǔ)液腔體I的內(nèi)部設(shè)置有儲(chǔ)液腔體加熱管12,該儲(chǔ)液腔體加熱管12示出為由熱氮?dú)膺M(jìn)行熱傳導(dǎo),氮?dú)馔ㄟ^(guò)氮?dú)馊肟?21進(jìn)入儲(chǔ)液腔體加熱管12,然后通過(guò)氮?dú)獬隹?122流出,從而通過(guò)熱氮?dú)鈱崃總鬟f給待霧化的液體11,使得液體分子的碰撞更為激烈,同時(shí)降低液體的粘度,便于后續(xù)的霧化,從而提高本噴霧器的霧化量。儲(chǔ)液腔體I的側(cè)壁上設(shè)置有低液位傳感器13和高液位傳感器14,當(dāng)待霧化的液體11的液面低于低液位傳感器13時(shí),系統(tǒng)控制從外部的儲(chǔ)液器通過(guò)液體入口接頭Ila向儲(chǔ)液腔體I內(nèi)部補(bǔ)充液體,當(dāng)待霧化的液體11的液面達(dá)到高液位傳感器14時(shí),系統(tǒng)控制停止從外部的儲(chǔ)液器向儲(chǔ)液腔體I內(nèi)部補(bǔ)充液體的動(dòng)作。
[0022]霧化腔體3的底部外壁示出為通過(guò)螺紋固定于儲(chǔ)液腔體I的頂部?jī)?nèi)壁,從而將霧化腔體3固定于儲(chǔ)液腔體I的上方。輸液組件2將儲(chǔ)液腔體I和霧化腔體3連通起來(lái)。其中,該輸液組件2包括吸液管21、調(diào)節(jié)桿22和支撐件23,該輸液組件2固定于霧化腔體3。如圖2和圖3所示,霧化腔體3具有底壁31,底壁31具有底壁通孔312,調(diào)節(jié)桿22穿過(guò)底壁通孔312延伸,從而通過(guò)支撐件23固定于底壁31。其中,該底壁通孔312為臺(tái)階孔,支撐件23容置于臺(tái)階孔的下段(直徑較大的孔段)中固定。在本實(shí)施例中,底壁31的臺(tái)階孔的直徑較大的孔段中具有內(nèi)螺紋,而支撐件23具有外螺紋,從而通過(guò)螺紋配合使得支撐件23固定于底壁31,同時(shí),調(diào)節(jié)桿22也通過(guò)螺紋配合固定于支撐件23,借此,調(diào)節(jié)桿22固定于霧化腔體3。調(diào)節(jié)桿22具有調(diào)節(jié)桿通孔221,吸液管21的頂端容置于調(diào)節(jié)桿通孔221中,例如該吸液管21的頂端通過(guò)螺紋配合固定于調(diào)節(jié)桿22的調(diào)節(jié)桿通孔221,實(shí)現(xiàn)吸液管21和調(diào)節(jié)桿22的相對(duì)固定。吸液管21的底端浸沒(méi)在儲(chǔ)液腔體I中的液體中,例如吸液管21的底端鄰近于儲(chǔ)液腔體I的底壁設(shè)置。調(diào)節(jié)桿22的頂部具有中空的混合區(qū)域22a,待霧化的液體11通過(guò)吸液管21進(jìn)入該混合區(qū)域22a中。另外,底壁31還具有氣體通道311,氣體32通過(guò)氣體通道311進(jìn)入混合區(qū)域22a中,從而在該混合區(qū)域22a中,待霧化的液體11在氣體32的作用下發(fā)生霧化后進(jìn)入霧化腔體3。在本實(shí)施例中,該氣體32例如為氮?dú)猓鋸耐獠康膬?chǔ)氣器通過(guò)氣體入口接頭32a(例如錐形螺紋接頭)進(jìn)入氣體通道311,從而進(jìn)入霧化腔體3內(nèi)部。該氣體32在進(jìn)入的過(guò)程中,在混合區(qū)域22a中產(chǎn)生局部真空,迫使待霧化的液體11順利地通過(guò)吸液管21進(jìn)入該混合區(qū)域22a中,使得液體11和氣體32進(jìn)行劇烈碰撞形