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扁平射流噴嘴以及扁平射流噴嘴的使用

文檔序號:10620415閱讀:582來源:國知局
扁平射流噴嘴以及扁平射流噴嘴的使用
【專利摘要】本發(fā)明涉及扁平射流噴嘴以及扁平射流噴嘴的使用。本發(fā)明涉及一種用于借助處于超過100巴的壓力范圍的高壓液體射流來去除材料或泥土的扁平射流噴嘴,所述扁平射流噴嘴具有噴嘴殼體,其中,射流導(dǎo)引器被設(shè)置在所述噴嘴殼體中,其中,所述噴嘴殼體形成具有離開口的流體管道,其中,一直到所述離開口的所述流體管道被配置為與所述噴嘴殼體的縱向中心軸線同心,并且其中,所述離開口具有細(xì)長的形狀,所述細(xì)長的形狀具有比較長的主軸和比較短的副軸,其中,比較長的主軸所在的并且設(shè)置為與比較短的副軸垂直的平面與所述縱向中心軸線相交,并且相對于所述縱向中心軸線圍成5°與75°之間的角,特別是10°至45°。
【專利說明】
扁平射流噴嘴以及扁平射流噴嘴的使用
技術(shù)領(lǐng)域
[0001]本發(fā)明涉及一種用于借助處于超過100巴的壓力范圍的高壓液體射流來去除材料或泥土的扁平射流噴嘴,所述扁平射流噴嘴具有噴嘴殼體,其中,噴嘴殼體形成具有離開口的流體管道,其中,一直到離開口的流體管道被配置為與噴嘴殼體的縱向中心軸線同心,并且其中,所述離開口具有細(xì)長的形狀,所述細(xì)長的形狀具有比較長的主軸和比較短的副軸。
【發(fā)明內(nèi)容】

[0002]借助于本發(fā)明,要提供一種扁平射流噴嘴,所述扁平射流噴嘴在其空間需求和其應(yīng)用目的方面將是更加靈活的。
[0003]為此,根據(jù)本發(fā)明,提供了一種具有權(quán)利要求1的特征的扁平射流噴嘴以及扁平射流噴嘴的具有權(quán)利要求6的特征的使用。
[0004]在根據(jù)本發(fā)明的用于借助處于超過100巴的壓力范圍的高壓液體射流來去除材料或泥土的扁平射流噴嘴中,所述扁平射流噴嘴具有噴嘴殼體,其中,所述噴嘴殼體形成具有離開口的流體管道,其中,一直到所述離開口的流體管道被配置為與噴嘴殼體的縱向中心軸線同心,并且其中,所述離開口具有細(xì)長的形狀,所述細(xì)長的形狀具有比較長的主軸和比較短的副軸,因此,根據(jù)本發(fā)明,提供的是,比較長的主軸所在的并且設(shè)置為與比較短的副軸垂直的平面與所述縱向中心軸線相交,并且相對于所述縱向中心軸線圍成5°與175°之間的角度,特別是5°至75°,特別是10°至45°。因此,細(xì)長的離開口被設(shè)置為相對于所述縱向中心軸線向下傾斜、垂直或向上傾斜,并且因此,扁平射流的因而位于輸送的扁平射流內(nèi)的大約中心的平面也被設(shè)置為相對所述縱向中心軸線傾斜或垂直,從而與所述縱向中心軸線相交。具有在5°與75°之間的角度的傾斜向下的布置對給輥乳機中的鋼部件除垢而言是優(yōu)選的。為了清潔的目的或為了使表面粗糙,可以選擇在5°與175°之間的角度。因此,輸送的扁平射流的平面不需要一定與所述比較長的主軸所在的并且設(shè)置為與所述比較短的副軸垂直的所述平面相對應(yīng)。扁平射流的實際離開平面不僅由離開口的布置確定,而且此外還由一直到離開口的流體管道的配置以及首先由所述流體管道的入射流(incident flow)來確定。根據(jù)本發(fā)明的噴嘴的實質(zhì)性優(yōu)點在于,提供了相對所述縱向中心軸線以傾斜的方式離開的扁平射流,并且一直到離開口的流體管道仍然被配置為與所述縱向中心軸線同心。因此,根據(jù)本發(fā)明的扁平射流噴嘴可以按照極為節(jié)省空間的方式被路由引導(dǎo)通過甚至很小的自由空間,例如,輥乳機中的傳動軸之間。令人驚訝地,此處,即使在根據(jù)本發(fā)明的離開口相對于縱向中心軸線的傾斜布置中,也產(chǎn)生了所述扁平射流對被噴射的表面具有扁平射流的重大沖擊或沉重的沖擊脈沖的非常積極的噴射形式。先前已假定,在高壓扁平射流噴嘴的情況下,需要以盡可能同心的方式來路由引導(dǎo)液體通過流體管道,并且還需要同心布置離開口,以便實現(xiàn)具有足夠沖擊的令人滿意的噴射形式。因此,以傾斜的方式噴射的常規(guī)扁平射流噴嘴被配置成使得流體管道實施為扭結(jié)的管線,使得具有配置為與離開口的縱向中心軸線同心的流體管道的重要部段在離開口的上游可獲得。令人驚訝地,根據(jù)本發(fā)明的噴嘴使得能夠以離開口相對于縱向中心軸線的在5°與75°之間、特別是在10°至45°的角度來實現(xiàn)在受沖擊的區(qū)域上具有非常好的沖擊的非常積極的噴射形式。在5°與175°之間的角度下也實現(xiàn)了良好的結(jié)果。如已闡述的,輸送的扁平射流的平面的角度此處不一定與離開口的平面或與所述比較長的主軸所在的并且設(shè)置為與所述比較短的副軸垂直的平面相對應(yīng)。但是,可以借助于計算或試驗來容易地計算和設(shè)定扁平射流的期望的離開角度。
[0005]在本發(fā)明的一個改進(jìn)方案中,離開口被設(shè)置在流體管道的具有球截形形狀的端部部分中。
[0006]例如,通過切削出流體管道的球截形形狀的端部部分來創(chuàng)建離開口。此處的切削可以理解為意指借助于銑刀來實際地切削噴嘴殼體;然而,它也可以理解為意指可以在幾何意義上使用切削,也就是說,噴嘴借助于其他方法來產(chǎn)生,例如,通過注射成型或燒結(jié)或鑄造。離開口布置在流體管道的具有球截形形狀的端部部分中具有顯著的優(yōu)點,即:可以相對于縱向中心軸線以不同的角度來設(shè)置離開口,而無需修改端部部分。
[0007]在本發(fā)明的一個改進(jìn)方案中,離開口具有橢圓形或接近橢圓形的形狀。
[0008]已證實在根據(jù)本發(fā)明的噴嘴中,在橢圓形或接近橢圓形的形狀的情況下,可以利用扁平射流的重大沖擊來實現(xiàn)輸送的扁平射流的非常積極的噴射形式。
[0009]根據(jù)本發(fā)明的扁平射流噴嘴被優(yōu)選地用于對金屬部分除垢。
[0010]在借助于水射流來對金屬部分除垢中,通常需要扁平射流以略微傾斜的方式?jīng)_擊待除垢的金屬表面。當(dāng)扁平射流噴嘴的殼體并且特別是噴嘴殼體的縱向中心軸線被設(shè)置為與待除垢的表面垂直時,這也可以在根據(jù)本發(fā)明的噴嘴的情況下實現(xiàn)。因此,根據(jù)本發(fā)明的扁平射流噴嘴可以按照極為節(jié)省空間的方式來設(shè)置。
[0011]在本發(fā)明的一個改進(jìn)方案中,在根據(jù)本發(fā)明的使用中,提供了所述扁平射流噴嘴圍繞第一旋轉(zhuǎn)軸線的第一旋轉(zhuǎn)移動,所述第一旋轉(zhuǎn)軸線被設(shè)置為與待除垢的金屬部分的表面垂直,并且設(shè)置為與噴嘴殼體的縱向中心軸線隔開。
[0012]可以借助于巧妙地選擇所述扁平射流噴嘴的旋轉(zhuǎn)移動來實現(xiàn)改進(jìn)的除垢。
[0013]在本發(fā)明的一個改進(jìn)方案中,提供了所述扁平射流噴嘴圍繞第二旋轉(zhuǎn)軸線的第二旋轉(zhuǎn)移動,其中,第二旋轉(zhuǎn)軸線被設(shè)置為與第一旋轉(zhuǎn)軸線隔開,并且設(shè)置為同樣與待除垢的金屬部分的表面垂直。
[0014]可以通過疊加扁平射流噴嘴的兩種旋轉(zhuǎn)移動來實現(xiàn)除垢的進(jìn)一步改進(jìn)。
[0015]在本發(fā)明的一個改進(jìn)方案中,第二旋轉(zhuǎn)軸線與噴嘴殼體的縱向中心軸線重合。
[0016]按照根據(jù)本發(fā)明的使用,所述扁平射流噴嘴因此關(guān)于自身旋轉(zhuǎn)一次,也就是說,圍繞其噴嘴殼體的縱向中心軸線旋轉(zhuǎn),并且此外,噴嘴殼體還圍繞旋轉(zhuǎn)軸線旋轉(zhuǎn),所述旋轉(zhuǎn)軸線被設(shè)置為與噴嘴殼體的縱向中心軸線隔開。因此,產(chǎn)生了疊加的旋轉(zhuǎn)移動。有利地,多個根據(jù)本發(fā)明的扁平射流噴嘴被設(shè)置在待除垢的表面之上,并且分別圍繞第一旋轉(zhuǎn)軸線和第二旋轉(zhuǎn)軸線以調(diào)諧的方式旋轉(zhuǎn),使得待除垢的表面通過所產(chǎn)生的扁平射流完全除垢。
[0017]在本發(fā)明的一個改進(jìn)方案中,待除垢的表面相對于扁平射流噴嘴沿與所述表面平行的分度方向移動,其中,第一旋轉(zhuǎn)移動和第二旋轉(zhuǎn)移動相互適應(yīng)(adapted),使得所述扁平射流噴嘴所產(chǎn)生的扁平射流總是相對分度方向以0°至±45°的恒定角度設(shè)置,特別是設(shè)置為與分度方向垂直。[〇〇18]因此,扁平射流噴嘴所產(chǎn)生的扁平射流或多個扁平射流噴嘴所產(chǎn)生的扁平射流總是沖擊待除垢的表面,使得扁平射流的比較大的橫向尺寸總是相對分度方向以恒定的角度設(shè)置,特別是設(shè)置為與分度方向垂直。扁平射流的沖擊區(qū)域是細(xì)長的,并且因此,其比較長的橫向尺寸例如被設(shè)置為與位移方向垂直,而比較短的橫向方向則被設(shè)置為與分度方向平行。因此,實現(xiàn)了表面的最大覆蓋。有利地,所產(chǎn)生的扁平射流而且還總是以預(yù)定的和恒定的角度沖擊待除垢的表面。因此,即使在所述扁平射流噴嘴或所述多個扁平射流噴嘴的旋轉(zhuǎn)期間,用于給表面除垢的最佳條件也總是繼續(xù)存在。
[0019]除了對金屬部分除垢之外,根據(jù)本發(fā)明的扁平射流噴嘴當(dāng)然一般還可以被用于借助于高壓液體射流來去除材料或泥土。【附圖說明】
[0020]結(jié)合附圖,由權(quán)利要求以及由本發(fā)明的優(yōu)選實施例的以下描述得出本發(fā)明的另外的特征和優(yōu)點。在附圖中:圖1示出了根據(jù)本發(fā)明的扁平射流噴嘴的剖視圖,噴嘴殼體的縱向中心軸線位于剖面中;圖2示出了圖1的扁平射流噴嘴的銜口(mouthpiece)的側(cè)視圖;圖3示出了圖2的銜口的平面圖;圖4示出了圖2中的剖面B-B的視圖;圖5示出了圖3中的剖面A-A的視圖;圖6以示意圖示出了處于待除垢的表面之上的多個根據(jù)本發(fā)明的扁平射流噴嘴的布置的平面圖;以及圖7示意性地并且部分地示出了根據(jù)本發(fā)明的扁平射流噴嘴的圖示,以便說明幾何狀〇【具體實施方式】[0021 ]圖1的圖示示出了根據(jù)本發(fā)明的扁平射流噴嘴10,所述扁平射流噴嘴10的殼體被設(shè)置在座架12中。通過座架12來供應(yīng)高壓液體,例如水。高壓液體借助于通向扁平射流噴嘴 10的流體管道16的供應(yīng)管道14來供應(yīng)。流體管道16被設(shè)置成與根據(jù)本發(fā)明的扁平射流噴嘴 10的縱向中心軸線18同心。如由圖1能夠得到的,一直到離開口( exit opening)20的流體管道延伸為與縱向中心軸線18同心。僅離開口 20被設(shè)置成相對縱向中心軸線傾斜,使得通過扁平射流噴嘴10產(chǎn)生的扁平射流22以相對縱向中心軸線18傾斜的方式離開。使用附圖標(biāo)記 24,利用點劃線來圖示圖1中的扁平射流22的離開平面(exit plane)。離開平面24相對于離開的扁平射流是位于中心的(centric),并且同樣被設(shè)置成相對縱向中心軸線18傾斜。離開平面24與縱向中心軸線18相交。
[0022]從供應(yīng)管道14的口部出發(fā),流體管道16最初沿其具有恒定直徑的總長度的大約一半延伸。射流導(dǎo)引器26沿所述流體管道16的總長度大約在中間設(shè)置在流體管道16中。射流導(dǎo)引器26具有多個流導(dǎo)引面,其以徑向于縱向中心軸線18的方式延伸,并且與所述縱向中心軸線平行地延伸。射流導(dǎo)引器26被實施為所謂的無芯射流導(dǎo)引器,使得圍繞縱向中心軸線18的區(qū)域因此保持無安裝(free of installat1ns)。射流導(dǎo)引器26壓配合在套管40中。 [〇〇23]由套管40形成的大約射流導(dǎo)引器26的相同長度和射流導(dǎo)引器26的相同直徑的圓筒形部分28在射流導(dǎo)引器26的下游緊接地鄰接射流導(dǎo)引器26。流體管道16的第一截錐形狀的直徑漸減部30緊接著圓筒形部分28。此流體管道的直徑漸減部30由圓筒形部分32緊接, 所述圓筒形部分32延續(xù)所述流體管道的存在于直徑漸減部28的端部處的直徑一直到流體管道16的端部部分,離開口 20隨后設(shè)置在所述端部部分中。在離開口 20之前設(shè)置了又一截錐形狀的直徑漸減部33。所述端部部分部分地通過第二直徑漸減部33來提供。離開口 20可以位于鄰接直徑漸減部33的球截形的區(qū)域中。[〇〇24]流體管道16被配置在噴嘴殼體34內(nèi),如已闡述的,所述噴嘴殼體34被緊固至座架 12并且具有設(shè)置在座架12中的基部36、設(shè)置在基部36上的管接罩(un1n hood)38、螺接到管接罩38中的套管40以及插入到管接罩38中的噴嘴銜口 42。套管40在流體管道的射流導(dǎo)引器26的區(qū)域中、圓筒形部分28的區(qū)域中、直徑漸減部30的區(qū)域中以及圓筒形部分32的一部分的區(qū)域中限定了流體管道16。噴嘴銜口 42延續(xù)流體管道的圓筒形部分32,并且限定了流體管道16的具有離開口 20的端部部分。管接罩38繼而借助于管接螺母41緊固至基部36。在套管40與噴嘴銜口 42之間提供密封。
[0025]能夠借助于圖1容易地識別的是,流體管道16延伸為與扁平射流噴嘴10的噴嘴殼體34的縱向中心軸線18完全同心。僅離開口 20被設(shè)置為相對縱向中心軸線18傾斜,使得扁平射流22也以相對縱向中心軸線18傾斜的方式離開。[〇〇26]圖7示意性地示出了設(shè)置在流體管道的端部部分35中的離開口 20的區(qū)域中的幾何狀態(tài)。在圖7的示意圖中,離開口 20具有橢圓形的形狀。在本發(fā)明的背景下,離開口 20可以具有任何細(xì)長的形狀,也就是說,例如,為橢圓形、接近橢圓形或卵形。此外,離開口 20可以具有不規(guī)則的細(xì)長形狀,例如,計算的自由形態(tài)的形狀。[〇〇27] 然而,離開口 20總是具有比較長的主軸(main axis)44和比較短的副軸 (subsidiary axis)46。如果離開口 20具有不規(guī)則的形狀,則主軸44與離開口的比較長的橫向尺寸相對應(yīng),并且副軸46與離開口 20的比較短的橫向尺寸相對應(yīng)。[〇〇28]現(xiàn)在,相對于縱向中心軸線18離開口 20被設(shè)置成使得比較長的主軸44所在的并且設(shè)置為與比較短的副軸46垂直的平面48與所述縱向中心軸線相交。在圖7的圖示中,平面48 和縱向中心軸線18在點50處互相相交。利用圖7中的虛線圖示的中心線52位于平面48中。中心線52延伸通過主軸44和副軸46的交點,并且隨后,還在點50處與縱向中心軸線18相交。在圖7的圖示中指示了扁平射流的一個假想的沖擊面54。該沖擊面54被平面48劃分成兩半。此處,應(yīng)當(dāng)記起的是,圖7的圖示僅是示意性的,并且沖擊面54實際上并沒有被平面48精確地劃分成兩半。這里,流體管道中的實際流動狀態(tài)發(fā)揮了作用。然而,平面48通過位于平面48 內(nèi)的主軸44以及通過位于所述平面上使得與所述平面垂直的副軸46限定。因此,平面48通過離開口20的布置來限定。如已經(jīng)闡述的,在圖7的圖示中,離開口20被設(shè)置成使得平面48 在點50處與縱向中心軸線18相交。
[0029]圖2的圖示將噴嘴銜口 42示出為相對于圖1被放大??梢匀菀椎刈R別在圖2中位于頂部上的離開口 20。利用虛線來指示噴嘴殼體的縱向中心軸線18。如由圖1能夠得到的,噴嘴銜口被推入配合到管接罩38中。噴嘴銜口42可以包括硬金屬(例如,燒結(jié)硬金屬),例如, 以便在超過100巴的高流體壓力的情況下實現(xiàn)良好的使用壽命,在所述超過100巴的高流體壓力下采用根據(jù)本發(fā)明的扁平射流噴嘴。
[0030]此處,管接罩38支承在噴嘴銜口 42的支承面60上。但是,離開的液體不與管接罩38接觸。
[0031]在圖3中的從上方的視圖中圖示了噴嘴銜口 4 2。可以再次識別出在圖3的視圖中具有在一側(cè)上已變平的橢圓的形狀的離開口 20。這是由圖3的視角造成;離開口 20實際上是橢圓形的。離開口 20被設(shè)置在可以在圖2和圖3中識別的切管62內(nèi)。離開口 20是通過使銑刀或磨盤以橫穿銜口 42的橫切(transverse)方式運行并且通過其切削后者來創(chuàng)建的。[〇〇32]圖4示出了圖2中的剖面B-B的視圖??梢宰R別出切管62以及離開口 20的周緣的一部分。此外,還可以識別出流體管道的端部部分35的形狀。[〇〇33]圖5示出了圖3中的剖面A-A的視圖。因此,縱向中心軸線18位于圖5的剖面內(nèi)。在圖 5的圖示中能夠識別離開口 20所在的流體管道的端部部分35具有球截形的形狀。如借助于圖7已闡述的,離開口 20又被設(shè)置為相對縱向中心軸線18傾斜,使得平面48相對于縱向中心軸線圍成角度a。該角度a可以在5°與75°之間。已使用在10°與45°之間的角度a實現(xiàn)了特別有利的結(jié)果。
[0034]因此,在根據(jù)本發(fā)明的扁平射流噴嘴中,沿流體管道16的整個長度路由引導(dǎo) (route)待噴射的并且具有超過100巴的壓力的高壓液體,以便與縱向中心軸線18同心,參見圖1。然后,液體僅在噴嘴銜口42的端部部分35中從縱向中心軸線18的方向向外偏離,參見圖5。這僅通過設(shè)置為相對縱向中心軸線18傾斜的離開口 20來執(zhí)行。令人驚訝地,盡管以與縱向中心軸線18同心的方式來路由引導(dǎo)高壓液體一直到緊接離開口 20之前,還是產(chǎn)生了具有在沖擊面上均勻分布的大沖擊脈沖(impact impulse)的輸送的扁平射流22的非常積極的噴射形式(spray pattern),即使在離開口20以相對縱向中心軸線18傾斜的方式設(shè)置的情況下。
[0035]圖6的圖示示意性地示出了多個根據(jù)本發(fā)明的扁平射流噴嘴10,其中,僅示意性地指示了相應(yīng)的縱向中心軸線18、離開口 20以及相應(yīng)地輸送的扁平射流22。扁平射流噴嘴10 被設(shè)置在待除垢的表面66之上,所述待除垢的表面66相對于扁平射流噴嘴10沿箭頭68的方向移動。當(dāng)用在輥乳機中時,扁平射流噴嘴10被設(shè)置在待除垢的一塊金屬之上和之下。圖6 中的觀察方向是從上方到表面66上。扁平射流噴嘴10的縱向中心軸線18在表面66上在每種情況下都與其垂直,使得表面66的分度移動(indexing movement)68與扁平射流噴嘴10的縱向中心軸線18垂直。因此,在每種情況下輸送的扁平射流22以略微傾斜的方式?jīng)_擊表面 66;因此,在圖6的圖示中的扁平射流22以傾斜向下的方式圖示,并且與分度方向(indexing directi〇n)68相反地被導(dǎo)引。扁平射流噴嘴10中的每一個圍繞縱向中心軸線18旋轉(zhuǎn),這在每種情況下借助于圓形箭頭來指示。此外,扁平射流噴嘴10中的每一個還圍繞旋轉(zhuǎn)軸線70 旋轉(zhuǎn),所述旋轉(zhuǎn)軸線70被設(shè)置為與扁平射流噴嘴10的縱向中心軸線18隔開。因此,扁平射流噴嘴10中的每一個執(zhí)行兩種旋轉(zhuǎn)移動。第一旋轉(zhuǎn)移動是圍繞設(shè)置為與扁平射流噴嘴10的縱向中心軸線18隔開的第一旋轉(zhuǎn)軸線70。此外,扁平射流噴嘴10還執(zhí)行第二旋轉(zhuǎn)移動,第二旋轉(zhuǎn)軸線與縱向中心軸線18重合。旋轉(zhuǎn)軸線70、18二者均被設(shè)置為與待除垢的表面66垂直。
[0036]圍繞旋轉(zhuǎn)軸線70和圍繞縱向中心軸線18的兩種旋轉(zhuǎn)移動在前者的角速度方面被互相調(diào)諧成使得不考慮扁平射流噴嘴10的位置扁平射流22總是相對分度方向68以恒定的角度設(shè)置,特別是設(shè)置為與分度方向68垂直。這圖示在圖6中。不考慮相應(yīng)的扁平射流噴嘴 10的旋轉(zhuǎn)位置,扁平射流22的相應(yīng)的沖擊面54總是相對待除垢的表面66的分度方向68以恒定的角度設(shè)置,特別是設(shè)置為與所述分度方向68垂直。[〇〇37]此處扁平射流噴嘴10被設(shè)置成并且此處圍繞旋轉(zhuǎn)軸線70的旋轉(zhuǎn)移動的直徑尺寸設(shè)定成使得扁平射流22對表面66完全除垢。為此,當(dāng)然,也相對應(yīng)地調(diào)諧分度68的量。因此, 扁平射流22總是以略微傾斜的方式并且以預(yù)定的角度沖擊表面66。因此,不管扁平射流噴嘴10的旋轉(zhuǎn)位置如何,總是實現(xiàn)針對對表面66進(jìn)行除垢的最佳條件。
[0038]圖6中所示的布置不僅可以用于對表面進(jìn)行除垢,而且一般而言還可用于從表面 66去除材料或泥土。例如,可以通過去除材料來使管路或孔洞的內(nèi)部變干凈或粗糙。在管狀開口中或在腔中采用一般也是可能的。當(dāng)然,還可以使外部面(例如,活塞的外部面)變干凈和粗糙。[〇〇39]除了圖6中所示的布置之外,多個根據(jù)本發(fā)明的噴嘴的其他布置也是可能的,例如,在與共同轉(zhuǎn)子的旋轉(zhuǎn)軸線的各種間隔處在共同的且同樣旋轉(zhuǎn)的轉(zhuǎn)子上布置多個旋轉(zhuǎn)噴嘴。
【主權(quán)項】
1.用于借助處于超過100巴的壓力范圍的高壓液體射流來去除材料或泥土的扁平射流 噴嘴,所述扁平射流噴嘴具有噴嘴殼體(34),其中,所述噴嘴殼體(34)形成具有離開口(20) 的流體管道(16),其中,一直到所述離開口(20)的所述流體管道(16)被配置為與所述流體 管道(16)的縱向中心軸線(18)同心,并且其中,所述離開口(20)具有細(xì)長的形狀,所述細(xì)長 的形狀具有比較長的主軸(44 )和比較短的副軸(46 ),其特征在于,所述比較長的主軸(44 ) 所在的并且設(shè)置為與所述比較短的副軸(46)垂直的平面與所述縱向中心軸線(18)相交,并 且相對于所述縱向中心軸線(18)圍成5°與175°之間的角度(c〇,其中,所述離開口(20)被成 形和布置成使得輸送的扁平射流(22)的因此位于輸送的扁平射流(22)內(nèi)的大約中心的平 面被設(shè)置為相對所述縱向中心軸線(18)傾斜或與之垂直,并且設(shè)置為截斷所述縱向中心軸 線(18)。2.根據(jù)權(quán)利要求1所述的扁平射流噴嘴,其特征在于,所述平面相對于所述縱向中心軸 線(18)圍成5°與75°之間的角度(a)。3.根據(jù)權(quán)利要求2所述的扁平射流噴嘴,其特征在于,所述平面相對于所述縱向中心軸 線(18)圍成10°與45°之間的角度(a)。4.根據(jù)前述權(quán)利要求中任一項所述的扁平射流噴嘴,其特征在于,所述離開口(20)被 設(shè)置在所述流體管道(16)的具有球截形形狀的端部部分(35)中。5.根據(jù)前述權(quán)利要求中任一項所述的扁平射流噴嘴,其特征在于,所述離開口(20)具 有橢圓形或接近橢圓形的形狀。6.對根據(jù)前述權(quán)利要求中任一項所述的扁平射流噴嘴的使用,所述使用用于對金屬部 分除垢。7.根據(jù)權(quán)利要求6所述的使用,其特征在于,所述扁平射流噴嘴圍繞第一旋轉(zhuǎn)軸線(70) 的第一旋轉(zhuǎn)移動,所述第一旋轉(zhuǎn)軸線(70)被設(shè)置為與待除垢的所述金屬部分的表面(66)垂 直,并且設(shè)置為與流體管道的縱向中心軸線(18)隔開。8.根據(jù)權(quán)利要求7所述的使用,其特征在于,所述扁平射流噴嘴圍繞第二旋轉(zhuǎn)軸線的第 二旋轉(zhuǎn)移動,其中,所述第二旋轉(zhuǎn)軸線被設(shè)置為與所述第一旋轉(zhuǎn)軸線(70)隔開,并且設(shè)置為 同樣與待除垢的所述金屬部分的表面(66)垂直。9.根據(jù)權(quán)利要求8所述的使用,其特征在于,所述第二旋轉(zhuǎn)軸線與所述流體管道的縱向 中心軸線(18)重合。10.根據(jù)權(quán)利要求7和權(quán)利要求8、特別是根據(jù)權(quán)利要求9所述的使用,其特征在于,待除 垢的所述表面(66)相對于所述扁平射流噴嘴(10)沿與所述表面(66)平行的分度方向(68) 移動,其中,所述第一旋轉(zhuǎn)移動和所述第二旋轉(zhuǎn)移動相互適應(yīng),使得所述扁平射流噴嘴(10) 所產(chǎn)生的扁平射流(22)總是相對所述分度方向(68)以0°至±45°的角度設(shè)置,特別是設(shè)置 為與所述分度方向(68)垂直。
【文檔編號】B05B13/02GK105983489SQ201610148663
【公開日】2016年10月5日
【申請日】2016年3月16日
【發(fā)明人】T.休伯
【申請人】萊希勒有限公司
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