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毫米級立方氮化硼大單晶的合成方法

文檔序號:9343075閱讀:1408來源:國知局
毫米級立方氮化硼大單晶的合成方法
【技術領域】
[0001]本發(fā)明屬于立方氮化硼合成技術領域,尤其涉及一種毫米級立方氮化硼大單晶的合成方法。
【背景技術】
[0002]立方氮化硼的硬度僅次于金剛石,具有很高的熱穩(wěn)定性、極強的化學穩(wěn)定性。工業(yè)合成立方氮化硼的方法通常是六方氮化硼為原料、堿金屬或堿土金屬L1、Mg、Ca等及其氮化物和硼氮化物為觸媒材料在高溫高壓條件下合成的,其合成是一種特殊的晶體生長過程,立方氮化硼晶體長粗較為困難,在達到一定生長時間(通常在30min以內)后再延長合成時間,對立方氮化硼晶體長大沒有效果。而粗粒度立方氮化硼是一種具有發(fā)展前景的新材料,除了用于磨具刀具材料外,其優(yōu)越的功能特性可使其作為寬帶隙半導體材料、熱沉材料、高溫半導體器件乃至特殊光學器件。發(fā)明專利CN100542949C《粗粒度立方氮化硼的合成方法》披露了一種合成30?60目的合成方法。目前30目以細的單晶立方氮化硼目前的合成工藝較為成熟,而更粗至18目完整晶型的立方氮化硼單晶較難合成。國外大多采用晶種法合成大顆粒立方氮化硼,工藝復雜,組裝成本高,生長緩慢,合成質量差,不能夠大規(guī)模推廣應用。

【發(fā)明內容】

[0003]本發(fā)明提供了一種生長迅速、粒度達到毫米級、晶型較完整的立方氮化硼單晶的合成方法。
[0004]本發(fā)明以三元氮硼化物Li3BN2S Mg 3B2N4或Ca 3B2N4和二元氮化物Li 3N以及單質金屬Mg或Al的混合物為觸媒,精制高純度HBN為原料,兩者以粉末狀均勻混合,按照本發(fā)明較低暫停壓力和合成壓力、保持時間并在保壓階段繼續(xù)均勻升壓的合成工藝合成出粒度達到毫米級的立方氮化硼單晶。
[0005]實現本發(fā)明所采取的技術方案是:一種毫米級立方氮化硼大單晶的合成方法,包括如下步驟:
第一步,將三元觸媒Li3BN2S Mg 3B2N4或Ca 3B2N4粉末和二元觸媒Li 3N粉末以及單質金屬Mg或Al粉末的混合物做為復合觸媒,并與含量為BN ^ 99.5%,B2O3^ 0.2%的高純度HBN原料,按三元觸媒=Li3N -Mg或Al:HBN=8?15:5?10:1?4:100的質量比例分別取料,均勻混合后壓制成圓柱;
第二步,將上述步驟中壓制的圓柱體裝入石墨加熱管中組裝成合成棒,再裝入葉臘石組裝塊中做成合成塊;
第三步,將合成塊裝入六面頂壓機的高壓腔中,加壓至35MPa開始加熱,到40?50MPa,溫度加熱至1300?1600°C,保持5?lOmin,控制立方氮化硼晶體成核,繼續(xù)升壓到合成壓力80MPa,保壓50?120min,在此保壓過程中由PLC控制壓力均勻緩升至100?105MPa,保壓結束后停止加熱,等待3min后卸壓; 第四步,將得到的高溫高壓合成物取出,經過破碎、注水浸泡、常規(guī)酸堿處理得到立方氮化硼晶體;
第五步,將得到的立方氮化硼晶體用篩機篩分,即可得到各個粒度的立方氮化硼成品。
[0006]三元氮硼化物Li3BN2、Mg3B2N4、Ca3B2N4和二元氮化物Li 3N以及單質金屬Mg或Al均可做為立方氮化硼合成的觸媒,其中三元氮硼化物Li3BN2、Mg3B2N4, 0&##4是反應體系中的熔劑,加入二元氮化物Li3N以及單質金屬Mg或Al可以增加體系的反應活性,促進立方氮化硼晶體生長。在高溫高壓合成中,采用較低的加溫壓力、較低的暫停保持壓力和較長的保持時間來控制晶體成核,到達合成壓力后繼續(xù)加壓保證持續(xù)生長的動力,保證晶體連續(xù)生長。
[0007]按照本發(fā)明方法合成出的立方氮化硼,晶體粒度達到了 18目,其中16?30目所占比例達到50?70%,晶型較完整,工藝穩(wěn)定具有生產價值。
【具體實施方式】
[0008]本發(fā)明的毫米級立方氮化硼大單晶合成方法采用三元氮硼化物Li3BN2S Mg 3B2N4或Ca3B2N4和二元氮化物Li3N以及單質金屬Mg或Al的混合物為觸媒,精制含量BN彡99.5%、B2O3S 0.2%的高純度HBN為原料,兩者以粉末狀均勻混合,按照本發(fā)明的工藝合成出粒度達到毫米級的立方氮化硼單晶。
[0009]實施例1:
將三元觸媒1^忑隊粉末和二元觸媒Li 3N粉末以及單質金屬Mg粉末和精制HBN為原料,按質量比=Li3BN2 = Li 3N:Mg:HBN=1:8:2:100的比例分別取料,均勻混合后壓制成圓柱,裝入石墨加熱管中制成合成棒,裝入六面頂壓機合成腔體中,加壓到35MPa,開始加熱,到42MPa,溫度達到1650°C保持8min,繼續(xù)升壓至80MPa,溫度達到1650°C保持60min,期間壓力由PLC控制均勻緩升lOOMPa,保壓結束后停止加熱,等待3min卸壓。取出合成物,經過破碎、注水浸泡、常規(guī)酸堿處理得到立方氮化硼晶體,用篩機篩分得到各個粒度的立方氮化硼晶體,晶體呈琥珀色、透明,其中16?20目所占比例可達24%,20?30目所占比例達32%,晶形較完整。
[0010]實施例2:
將三元觸媒1^忑隊粉末和二元觸媒Li 3N粉末以及單質金屬Al粉末和精制HBN為原料,按質量比=Li3BN2 = Li 3N:A1:HBN=1:8:2:100的比例分別取料,均勻混合后壓制成圓柱,裝入石墨加熱管中制成合成棒,裝入六面頂壓機合成腔體中,加壓到35MPa,開始加熱,到42MPa,溫度達到1600°C保持8min,繼續(xù)升壓至80MPa,溫度達到1650°C保持80min,期間壓力由PLC控制均勻緩升lOOMPa,保壓結束后停止加熱,等待3min卸壓。取出合成物,經過破碎、注水浸泡、常規(guī)酸堿處理得到立方氮化硼晶體,用篩機篩分得到各個粒度的立方氮化硼晶體,晶體呈琥珀色、透明,其中16?20目所占比例可達27%,20?30目所占比例達33%,晶形較完整。
[0011]實施例3:
將三元觸媒Mg3B2N4?末和二元觸媒Li 3N粉末以及單質金屬Mg粉末和精制HBN為原料,按質量比=Mg3B2N4=Li 3N:Mg:HBN= 12:8:2:100的比例分別取料,均勻混合后壓制成圓柱,裝入石墨加熱管中制成合成棒,裝入六面頂壓機合成腔體中,加壓到35MPa,開始加熱,到42MPa,溫度達到1550°C保持8min,繼續(xù)升壓至80MPa,溫度達到1600°C保持90min,期間壓力由PLC控制均勻緩升103MPa,保壓結束后停止加熱,等待3min卸壓。取出合成物,經過破碎、注水浸泡、常規(guī)酸堿處理得到立方氮化硼晶體,用篩機篩分得到各個粒度的立方氮化硼晶體,晶體呈黃色、半透明,其中16?20目所占比例可達29%,20?30目所占比例達35%,晶形較完整。
[0012]實施例4:
將三元觸媒Mg3B2N4?末和二元觸媒Li 3N粉末以及單質金屬Al粉末和精制HBN為原料,按質量比=Mg3B2N4=Li 3N:A1:HBN= 12:8:2:100的比例分別取料,均勻混合后壓制成圓柱,裝入石墨加熱管中制成合成棒,裝入六面頂壓機合成腔體中,加壓到35MPa,開始加熱,到42MPa,溫度達到1550°C保持8min,繼續(xù)升壓至80MPa,溫度達到1600°C保持90min,期間壓力由PLC控制均勻緩升103MPa,保壓結束后停止加熱,等待3min卸壓。取出合成物,經過破碎、注水浸泡、常規(guī)酸堿處理得到立方氮化硼晶體,用篩機篩分得到各個粒度的立方氮化硼晶體,晶體呈黃色、半透明,其中16?20目所占比例可達30%,20?30目所占比例達33%,晶形較完整。
[0013]實施例5:
將三元觸媒Ca3B2N4?末和二元觸媒Li 3N粉末以及單質金屬Mg粉末和精制HBN為原料,按質量比:Ca3B2N4:Li 3N:A1:HBN= 13:8:2:100的比例分別取料,均勻混合后壓制成圓柱,裝入石墨加熱管中制成合成棒,裝入六面頂壓機合成腔體中,加壓到35MPa,開始加熱,到42MPa,溫度達到1500°C保持8min,繼續(xù)升壓至80MPa,溫度達到1550°C保持IlOminJj^間壓力由PLC控制均勻緩升105MPa,保壓結束后停止加熱,等待3min卸壓。取出合成物,經過破碎、注水浸泡、常規(guī)酸堿處理得到立方氮化硼晶體,用篩機篩分得到各個粒度的立方氮化硼晶體,晶體呈黃色、透明,其中16?20目所占比例可達31%,20?30目所占比例達34%,晶形較完整。
[0014]實施例6:
將三元觸媒Ca3B2N4?末和二元觸媒Li 3N粉末以及單質金屬Al粉末和精制HBN為原料,按質量比:Ca3B2N4:Li 3N:A1:HBN= 13:8:2:100的比例分別取料,均勻混合后壓制成圓柱,裝入石墨加熱管中制成合成棒,裝入六面頂壓機合成腔體中,加壓到35MPa,開始加熱,到42MPa,溫度達到1500°C保持8min,繼續(xù)升壓至80MPa,溫度達到1550°C保持IlOminJj^間壓力由PLC控制均勻緩升105MPa,保壓結束后停止加熱,等待3min卸壓。取出合成物,經過破碎、注水浸泡、常規(guī)酸堿處理得到立方氮化硼晶體,用篩機篩分得到各個粒度的立方氮化硼晶體,晶體呈黃色、透明,其中16?20目所占比例可達33%,20?30目所占比例達32%,晶形較完整。
【主權項】
1.一種毫米級立方氮化硼大單晶的合成方法,其特征在于:包括如下步驟: 第一步,將三元觸媒Li3BN2S Mg 3B2N4或Ca 3B2N4粉末和二元觸媒Li 3N粉末以及單質金屬Mg或Al粉末的混合物做為復合觸媒,并與含量為BN ^ 99.5%,B2O3^ 0.2%的高純度HBN原料,按三元觸媒=Li3N -Mg或Al:HBN=8?15:5?10:1?4:100的質量比例分別取料,均勻混合后壓制成圓柱; 第二步,將上述步驟中壓制的圓柱體裝入石墨加熱管中組裝成合成棒,再裝入葉臘石組裝塊中做成合成塊; 第三步,將合成塊裝入六面頂壓機的高壓腔中,加壓至35MPa開始加熱,到40?50MPa,溫度加熱至1300?1600°C,保持5?lOmin,控制立方氮化硼晶體成核,繼續(xù)升壓到合成壓力80MPa,保壓50?120min,在此保壓過程中由PLC控制壓力均勻緩升至100?105MPa,保壓結束后停止加熱,等待3min后卸壓; 第四步,將得到的高溫高壓合成物取出,經過破碎、注水浸泡、常規(guī)酸堿處理得到立方氮化硼晶體; 第五步,將得到的立方氮化硼晶體用篩機篩分,即可得到各個粒度的立方氮化硼成品。
【專利摘要】本發(fā)明屬于立方氮化硼合成技術領域,尤其涉及一種毫米級立方氮化硼大單晶的合成方法。其主要特點是:選擇含量為BN≥99.5%、B2O3≤0.2%的高純度HBN原料,并與三元觸媒Li3BN2或Mg3B2N4或Ca3B2N4粉末和二元觸媒Li3N粉末以及單質金屬Mg或Al粉末的混合,并按照所述的工藝方法合成出毫米級立方氮化硼大單晶。按照本發(fā)明方法合成出的立方氮化硼,晶體粒度達到了18目,其中16~30目所占比例達到50~70%,晶型較完整,工藝穩(wěn)定具有生產價值。
【IPC分類】C30B1/12, C30B29/40, B01J3/06
【公開號】CN105080429
【申請?zhí)枴緾N201510495464
【發(fā)明人】張相法, 賈攀, 張奎, 位星, 劉紅偉
【申請人】鄭州中南杰特超硬材料有限公司
【公開日】2015年11月25日
【申請日】2015年8月13日
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