專利名稱:射流管法動態(tài)配氣的自動控制方法和設(shè)備的制作方法
技術(shù)領(lǐng)域:
本發(fā)明屬于標(biāo)準(zhǔn)氣體配制技術(shù)領(lǐng)域,具體地說,它涉及射流法動態(tài)配氣的自動控制方法和設(shè)備。
常用的配氣方法有兩種一種是靜態(tài)配氣,另一種是動態(tài)配氣。靜態(tài)配氣與動態(tài)配氣相比存在許多公知的缺點和不足。現(xiàn)用的動態(tài)配氣方法有很多種,如高速抽氣式動態(tài)配氣、滲透式動態(tài)配氣、擴(kuò)散法動態(tài)配氣等,這些動態(tài)配氣方法所需裝置復(fù)雜、操作條件苛刻,影響配氣準(zhǔn)確性的因素較多,欲配制組份的配制總量和濃度水平難以控制,配氣過程中氣流量與配氣濃度難以協(xié)調(diào),也無法準(zhǔn)確配制痕量濃度水平的氣體。上述這些動態(tài)配氣方法,自動化程度低,不具備整機(jī)裝配條件,一般實驗室根本無法用來配制標(biāo)準(zhǔn)氣體。中國科學(xué)院蘭州化學(xué)物理研究所于1992年第二期《分析儀器》介紹的一種利用射流原理配制標(biāo)準(zhǔn)氣體的模擬裝置,克服了上述這些動態(tài)配氣方法的許多缺點和不足。但這一裝置未設(shè)計自動控制部分,所以也就無法實現(xiàn)對配氣總量和配氣濃度水平的準(zhǔn)確自動控制。
本發(fā)明的目的是提供一種能自動控制標(biāo)準(zhǔn)氣配制總量和配制濃度水平的方法,以及實現(xiàn)這一方法所采用的設(shè)備。
為了實現(xiàn)上述目的,本發(fā)明采用的技術(shù)方案是在文獻(xiàn)所提供的射流管法配氣流程中還設(shè)置了兩只能用時間控制電路準(zhǔn)確控制的電磁閥。一只設(shè)置于該裝置的主氣流端,用于控制配氣總量,另一只設(shè)置于兩只稀釋容器之間,并還要求在回流支路之后,主要用于控制配氣濃度水平。從文獻(xiàn)所給出的數(shù)學(xué)模型進(jìn)行推導(dǎo)可知,時間t時刻所配出的氣體濃度C(t)與時間t之間是指數(shù)函數(shù)關(guān)系,因此,在確定主流量和回流流量之后,可以根據(jù)所需配制的氣體濃度和配制總量來計算所需的配氣時間,并將所需時間設(shè)置給時間控制電路,此時間控制電路具有定時時間予置功能,并在配氣開始和結(jié)束時均能輸出控制信號。本發(fā)明就是利用時間控制電路這些功能,通過同步控制裝置流程中兩只電磁閥的開閉時間來實現(xiàn)本發(fā)明的目的。
本發(fā)明通過上述技術(shù)解決方案,將對配氣濃度和總量的準(zhǔn)確控制轉(zhuǎn)為對配氣時間的準(zhǔn)確控制,從而大大提高了配氣的自動化程度。本發(fā)明能有效實現(xiàn)任何濃度水平和總量的自動配氣控制,尤其適合低濃度氣體的長時間配氣,減少了人為因素造成的誤差,提高了配氣的精度。
下面將結(jié)合附圖詳細(xì)描述本發(fā)明的最佳實施方案。
圖1為本發(fā)明的裝置流程圖,圖中1和4所示是電磁閥1和電磁閥4所設(shè)置的位置,它們均由時間控制電路控制其開閉狀態(tài),當(dāng)配氣開始時,時間控制電路5使電磁閥1和電磁閥4同時處于開啟狀態(tài),主氣流量通過設(shè)流管2產(chǎn)生一定的負(fù)壓,將稀釋容器9中的氣體抽出于射流管2后設(shè)置一分流支路,與容器9及射流管2之間形成一定流量的回流。從進(jìn)樣器6注進(jìn)的欲配組份,由回流帶進(jìn)容器9中,稀釋后再與射流管中的主氣流充分混合,混合后的氣體經(jīng)電磁閥4流入容器10中。當(dāng)裝置運(yùn)行到予置的配氣時間時,時間控制電路將使電磁閥1和電磁閥4同步閉合,結(jié)束配氣。這時電磁閥1將關(guān)閉主氣流完成配氣總量的控制,此時射流管也不產(chǎn)生負(fù)壓,回流停止,與此同時,電磁閥4將切斷由于容器9和容器10之間壓力差而產(chǎn)生的氣體逆流,電磁閥4和電磁閥1共同完成配氣濃度水平的控制。
權(quán)利要求
1.一種射流管法動態(tài)配氣的自動控制方法,其特征是在主流量、回流量和稀釋容器容積確定以后,通過對配氣裝置配氣時間的自動控制來實現(xiàn)對配氣總量和配氣濃度的自動控制。
2.一種用于權(quán)利要求1方法的自動控制設(shè)備,包括電磁閥(1)和電磁閥(4)以及用來控制電磁閥(1)和電磁閥(4)的時間控制電路(5),其特征在于電磁閥(1)安裝于射流管(2)的主氣流前方,用于控制配氣總量,電磁閥(4)安裝于稀釋容器(9)和稀釋容器(10)之間,還被要求在回流支路之后,主要用于控制配氣濃度。
3.根據(jù)權(quán)利要求2所述的自動控制設(shè)備,其特征在于時間控制電路(5)具有配氣時間予置功能,當(dāng)裝置運(yùn)行到予置的配氣時間時,時間控制電路(5)能輸出控制信號來控制電磁閥(1)和電磁閥(4)的工作狀態(tài)。
4.根據(jù)權(quán)利要求3所述的電磁閥(1)和電磁閥(4),其特征在于電磁閥(1)和電磁閥(4)具有兩種工作狀態(tài),配氣開始時,電磁閥(1)和電磁閥(4)同步開啟,配氣結(jié)束時,電磁閥(1)和電磁閥(4)同步閉合。
全文摘要
本發(fā)明公開了一種射流管法動態(tài)配氣的自動控制方法和實現(xiàn)這一方法的設(shè)備。射流管法配氣已經(jīng)給定配氣濃度與配氣時間的函數(shù)關(guān)系,因此可以通過對配氣時間的準(zhǔn)確控制方法來實現(xiàn)對配氣總量和配氣濃度的自動控制。用一種能進(jìn)行配氣時間預(yù)置設(shè)定的時間控制電路(5)來控制電磁閥(1)和電磁閥(4)的開閉狀態(tài)就可實現(xiàn)上述方法,其中電磁閥(1)安裝于射流管(4)前方用于控制配氣總量,電磁閥(4)安裝于稀釋容器(9)和稀釋容器(10)之間,并要求在回流支路之后,主要用于控制配氣濃度。
文檔編號B01F3/00GK1130100SQ9510835
公開日1996年9月4日 申請日期1995年7月3日 優(yōu)先權(quán)日1995年7月3日
發(fā)明者陳義龍, 胡道華 申請人:中國石化安慶石油化工總廠