本技術(shù)屬于涂布機，尤其涉及一種預防氣泡光學膠生產(chǎn)用均勻涂布機。

背景技術(shù)：

1、光學膠是一種與光學零件的光學性能相近,?并具有優(yōu)良膠接性能的高分子物質(zhì)。它可以把兩個或多個光學零件膠合為能滿足光路設(shè)計要求的光學組件;?或利用它來實現(xiàn)對高精度光學標尺、濾光器等保護玻璃的膠合。

2、在對將光學膠涂布在基板上時，為避免基板在涂布板推動作用下移動，需對其進行固定，傳統(tǒng)的固定方式是通過若干豎直的限位板對其進行限位，然而限位時，限位板會和基板的上側(cè)邊沿接觸，在限位板的組當下，光學膠可能會在基板的上側(cè)邊沿堆積，造成涂布不均勻的現(xiàn)象，為解決上述問題，現(xiàn)提供一種預防氣泡光學膠生產(chǎn)用均勻涂布機。

3、需要說明的是，上述內(nèi)容屬于發(fā)明人的技術(shù)認知范疇，并不必然構(gòu)成現(xiàn)有技術(shù)。

技術(shù)實現(xiàn)思路

1、為了解決上述問題，本實用新型的目的是提供一種預防氣泡光學膠生產(chǎn)用均勻涂布機，通過設(shè)置傾斜的限位板，使得在對基板進行限位時，限位板與基板的底邊接觸，能夠避免限位板與基板的上邊沿接觸，避免光學膠在基板的邊沿堆積。

2、為實現(xiàn)上述目的，本實用新型提出了一種預防氣泡光學膠生產(chǎn)用均勻涂布機，用于對基板進行涂布，涂布機包括用于放置基板的涂布平臺，所述涂布平臺上安裝有用于對基板進行限位的限位組件。

3、所述涂布平臺上開設(shè)有對稱分布的貫穿孔，限位組件包括兩個豎直的第一氣缸，第一氣缸固定在涂布平臺的底部，第一氣缸的輸出軸上固定有l(wèi)形連接桿，l形連接桿的豎桿上固定有傾斜的限位板，限位板的上端向遠離涂布平臺中心一側(cè)傾斜，限位板從貫穿孔內(nèi)穿出。

4、進一步的，所述涂布平臺的一端固定有l(wèi)形支撐板，l形支撐板的頂板上固定有用于存放光學膠的熱熔箱。

5、進一步的，所述熱熔箱的內(nèi)部設(shè)置有水平的篩網(wǎng)，熱熔箱的一端固定有第二氣缸，第二氣缸的輸出軸穿入熱熔箱的內(nèi)部垂直固定有水平的第一連接條，第一連接條的下方固定有刷條，刷條的下方與篩網(wǎng)接觸，刷條與第一連接條之間固定連接有陣列分布的攪拌棒。

6、進一步的，所述熱熔箱上連接有噴淋組件，噴淋組件包括條形的噴頭，噴頭的兩端均固定有第一支撐桿，熱熔箱上安裝有抽液泵，抽液泵上的出液口與噴頭之間連接有軟管。

7、進一步的，所述涂布機還包括涂布組件，涂布組件包括第二連接條，第二連接條的下方固定有涂布板，第二連接條的兩端均固定有第二支撐桿；

8、進一步的，所述l形支撐板的頂板一側(cè)固定有對稱分布的l形支架，l形支架上開設(shè)有至少兩個開槽。

9、進一步的，所述涂布平臺上滑動設(shè)有用于控制噴淋組件和涂布組件移動的移動組件。

10、進一步的，所述涂布平臺開設(shè)有兩個平行分布的導軌，基板放置在兩個導軌之間，移動組件包括兩個電動的滑塊，滑塊的上方固定豎直的第三氣缸，第三氣缸的輸出軸上垂直固定有第四氣缸，第四氣缸垂直于導軌，第四氣缸的輸出軸上固定有用于安裝第二支撐桿或第一支撐桿的安裝套，兩個安裝套相對應(yīng)。

11、進一步的，所述涂布平臺的下方設(shè)有對稱分布的回收箱，回收箱正對貫穿孔。

12、通過本實用新型提出的一種預防氣泡光學膠生產(chǎn)用均勻涂布機能夠帶來如下有益效果：

13、1、本實用新型涂布機通過設(shè)置傾斜的限位板，使得在對基板進行限位時，限位板與基板的底邊接觸，能夠避免限位板與基板的上邊沿接觸，避免光學膠在基板的邊沿堆積；

14、2、本實用新型涂布機通過第二氣缸控制攪拌棒和刷條移動對光學膠進行攪拌，使其受熱均勻，同時刷條對篩網(wǎng)進行掛刷，避免篩網(wǎng)的網(wǎng)孔堵塞，通過設(shè)置篩網(wǎng)能夠濾除光學膠內(nèi)的氣泡和固體雜質(zhì)，達到防氣泡效果。

技術(shù)特征：

1.一種預防氣泡光學膠生產(chǎn)用均勻涂布機，用于對基板（10）進行涂布，涂布機包括用于放置基板（10）的涂布平臺（1），其特征在于，所述涂布平臺（1）上安裝有用于對基板（10）進行限位的限位組件（2）；

2.根據(jù)權(quán)利要求1所述的一種預防氣泡光學膠生產(chǎn)用均勻涂布機，其特征在于，所述涂布平臺（1）的一端固定有l(wèi)形支撐板（3），l形支撐板（3）的頂板上固定有用于存放光學膠的熱熔箱（4）。

3.根據(jù)權(quán)利要求2所述的一種預防氣泡光學膠生產(chǎn)用均勻涂布機，其特征在于，所述熱熔箱（4）的內(nèi)部設(shè)置有水平的篩網(wǎng)（41），熱熔箱（4）的一端固定有第二氣缸（42），第二氣缸（42）的輸出軸穿入熱熔箱（4）的內(nèi)部垂直固定有水平的第一連接條（43），第一連接條（43）的下方固定有刷條（44），刷條（44）的下方與篩網(wǎng)（41）接觸，刷條（44）與第一連接條（43）之間固定連接有陣列分布的攪拌棒（45）。

4.根據(jù)權(quán)利要求3所述的一種預防氣泡光學膠生產(chǎn)用均勻涂布機，其特征在于，所述熱熔箱（4）上連接有噴淋組件（5），噴淋組件（5）包括條形的噴頭（51），噴頭（51）的兩端均固定有第一支撐桿（52），熱熔箱（4）上安裝有抽液泵（53），抽液泵（53）上的出液口與噴頭（51）之間連接有軟管（54）。

5.根據(jù)權(quán)利要求4所述的一種預防氣泡光學膠生產(chǎn)用均勻涂布機，其特征在于，所述涂布機還包括涂布組件（6），涂布組件（6）包括第二連接條（61），第二連接條（61）的下方固定有涂布板（63），第二連接條（61）的兩端均固定有第二支撐桿（62）。

6.根據(jù)權(quán)利要求5所述的一種預防氣泡光學膠生產(chǎn)用均勻涂布機，其特征在于，所述l形支撐板（3）的頂板一側(cè)固定有對稱分布的l形支架（31），l形支架（31）上開設(shè)有至少兩個開槽（32）。

7.根據(jù)權(quán)利要求6所述的一種預防氣泡光學膠生產(chǎn)用均勻涂布機，其特征在于，所述涂布平臺（1）上滑動設(shè)有用于控制噴淋組件（5）和涂布組件（6）移動的移動組件（7）。

8.根據(jù)權(quán)利要求7所述的一種預防氣泡光學膠生產(chǎn)用均勻涂布機，其特征在于，所述涂布平臺（1）開設(shè)有兩個平行分布的導軌（12），基板（10）放置在兩個導軌（12）之間，移動組件（7）包括兩個電動的滑塊（71），滑塊（71）的上方固定豎直的第三氣缸（72），第三氣缸（72）的輸出軸上垂直固定有第四氣缸（73），第四氣缸（73）垂直于導軌（12），第四氣缸（73）的輸出軸上固定有用于安裝第二支撐桿（62）或第一支撐桿（52）的安裝套（74），兩個安裝套（74）相對應(yīng)。

9.根據(jù)權(quán)利要求8所述的一種預防氣泡光學膠生產(chǎn)用均勻涂布機，其特征在于，所述涂布平臺（1）的下方設(shè)有對稱分布的回收箱，回收箱正對貫穿孔（11）。

技術(shù)總結(jié)
本技術(shù)公開了一種預防氣泡光學膠生產(chǎn)用均勻涂布機，屬于涂布機技術(shù)領(lǐng)域，用于對基板進行涂布，涂布機包括用于放置基板的涂布平臺，涂布平臺上安裝有用于對基板進行限位的限位組件，涂布平臺上開設(shè)有對稱分布的貫穿孔，限位組件包括兩個豎直的第一氣缸，第一氣缸固定在涂布平臺的底部，第一氣缸的輸出軸上固定有L形連接桿，L形連接桿的豎桿上固定有傾斜的限位板，限位板的上端向遠離涂布平臺中心一側(cè)傾斜。本技術(shù)涂布機通過設(shè)置傾斜的限位板，使得在對基板進行限位時，限位板與基板的底邊接觸，能夠避免限位板與基板的上邊沿接觸，避免光學膠在基板的邊沿堆積；通過第二氣缸控制攪拌棒和刷條移動對光學膠進行攪拌，使其受熱均勻。

技術(shù)研發(fā)人員：陳夢君,陳友軒,蔣瑩
受保護的技術(shù)使用者：安徽春雨光學材料有限公司
技術(shù)研發(fā)日：20240424
技術(shù)公布日：2024/12/19