本申請(qǐng)涉及煙氣處理，具體為一種高溫?zé)煔馓幚硐到y(tǒng)。

背景技術(shù)：

1、在化工、石油、冶金、建材、生物熱解領(lǐng)域經(jīng)常會(huì)產(chǎn)生高溫含塵氣體，這些粉塵懸浮在空氣中會(huì)對(duì)工作人員的健康造成了嚴(yán)重的影響。所以，工業(yè)中需要對(duì)高溫?zé)煔膺M(jìn)行降溫和除塵操作。傳統(tǒng)的做法為采用除塵器處理煙氣，但由于高溫?zé)煔庵械姆蹓m含量和水分含量較高導(dǎo)致傳統(tǒng)除塵器的管路及設(shè)備容易堵塞，并且高溫?zé)煔庠诿荛]的除塵器中存在粉塵爆炸的風(fēng)險(xiǎn)。

2、cn114956160a公開(kāi)了一種硒化鋅分解裝置及工藝，硒化鋅分解裝置包括控制系統(tǒng)及與所述控制系統(tǒng)電連接的破碎機(jī)、卸料閥、沉淀室、旋轉(zhuǎn)煅燒窯、煙塵處理塔、噴淋塔，所述沉淀室、所述煙塵處理塔及所述噴淋塔依次管道連接，所述破碎機(jī)通過(guò)所述卸料閥連接所述旋轉(zhuǎn)煅燒窯的進(jìn)料口，所述旋轉(zhuǎn)煅燒窯的排氣口連接所述沉淀室的進(jìn)氣口。上述專利通過(guò)在沉淀室后依次連接煙塵處理塔及所述噴淋塔，整個(gè)生產(chǎn)過(guò)程中煙塵處理塔、噴淋塔持續(xù)開(kāi)啟，保證旋轉(zhuǎn)煅燒窯、沉淀室內(nèi)的尾氣持續(xù)進(jìn)入煙塵處理塔與噴淋塔處理，從而防止尾氣溢出污染車間環(huán)境，同時(shí)持續(xù)抽風(fēng)使旋轉(zhuǎn)煅燒窯內(nèi)持續(xù)進(jìn)入空氣，并通過(guò)不斷通入氮?dú)膺_(dá)到快速冷卻和防止粉塵爆炸的目的。

3、上述專利能夠防止尾氣溢出污染車間環(huán)境，但是，在窯爐的生產(chǎn)過(guò)程中，盡管大部分的煙氣及其攜帶的粉塵會(huì)進(jìn)入沉淀室內(nèi)被處理，但無(wú)可避免地還有部分粉塵會(huì)從窯爐的進(jìn)料口、出料口的縫隙逸散出系統(tǒng)之外而無(wú)法被收集處理。此外，上述專利的整個(gè)裝置為封閉式，所以為了防止粉塵爆炸，其工作過(guò)程中需要不斷通入氮?dú)鈦?lái)提高冷卻速率和降低氧氣含量。這種方式不但提高了生產(chǎn)成本，而且實(shí)際應(yīng)用也較為困難，需要精確地控制氮?dú)獾耐ㄈ肓亢蜕a(chǎn)量的關(guān)系。

4、基于此，本案解決的技術(shù)問(wèn)題是：如何進(jìn)一步解決粉塵逸散到工作環(huán)境中造成污染的問(wèn)題。

技術(shù)實(shí)現(xiàn)思路

1、為解決上述技術(shù)問(wèn)題，本申請(qǐng)?zhí)峁┝艘环N高溫?zé)煔馓幚硐到y(tǒng)，本系統(tǒng)能夠最大程度地降低煙氣及其攜帶的粉塵逸散到工作環(huán)境的風(fēng)險(xiǎn)，避免煙氣及其攜帶的粉塵外泄而污染工作環(huán)境。

2、本申請(qǐng)的技術(shù)方案是：

3、一種高溫?zé)煔馓幚硐到y(tǒng)，包括依次管道連通的窯爐、沉淀室、塵降罐、噴淋塔、風(fēng)機(jī)，所述塵降罐設(shè)有與外界連通的抽風(fēng)口；所述抽風(fēng)口在風(fēng)機(jī)的作用下保持負(fù)壓并用于抽取窯爐逸散的煙塵。

4、當(dāng)煙氣經(jīng)過(guò)沉淀室時(shí)，大量的煙氣及其攜帶的粉塵被冷卻形成粉末而落入沉淀室內(nèi)，其余的煙氣經(jīng)塵降罐處理后，僅殘留少量的污染物，同時(shí)在風(fēng)機(jī)的作用下，窯爐逸散的微細(xì)粉塵由抽風(fēng)口不斷抽取進(jìn)入塵降罐中并且與污染物一并送入噴淋塔二次處理，從而達(dá)到環(huán)保排放標(biāo)準(zhǔn)。

5、在上述的一種高溫?zé)煔馓幚硐到y(tǒng)中，所述塵降罐為水浴式除塵器；所述沉淀室與塵降罐通過(guò)一尾氣管連通；所述尾氣管延伸到塵降罐內(nèi)；所述抽風(fēng)口設(shè)置在塵降罐的頂部。

6、在上述的一種高溫?zé)煔馓幚硐到y(tǒng)中，所述高溫?zé)煔馓幚硐到y(tǒng)還包括用于冷卻沉淀室內(nèi)高溫?zé)煔獾睦鋮s裝置；所述冷卻裝置包括套設(shè)在沉淀室上的水套、與水套連通的冷水機(jī)組。

7、在上述的一種高溫?zé)煔馓幚硐到y(tǒng)中，所述沉淀室由多個(gè)依次首尾連通的冷卻室組成；所述冷水機(jī)組設(shè)有多條與冷卻室一一對(duì)應(yīng)的循環(huán)水路。

8、在上述的一種高溫?zé)煔馓幚硐到y(tǒng)中，所述冷卻室內(nèi)設(shè)有隔板。

9、在上述的一種高溫?zé)煔馓幚硐到y(tǒng)中，多個(gè)所述冷卻室的容量逐漸減少。

10、在上述的一種高溫?zé)煔馓幚硐到y(tǒng)中，所述窯爐與沉淀室之間通過(guò)一進(jìn)氣管連通；所述進(jìn)氣管的外周設(shè)有保溫套。

11、在上述的一種高溫?zé)煔馓幚硐到y(tǒng)中，所述保溫套設(shè)有用于保持進(jìn)氣管溫度恒定的熱電偶和溫度檢測(cè)模塊。

12、在上述的一種高溫?zé)煔馓幚硐到y(tǒng)中，所述冷卻室均設(shè)有清灰口。

13、本申請(qǐng)上述技術(shù)方案中的一個(gè)技術(shù)方案至少具有如下優(yōu)點(diǎn)或有益效果之一：

14、本申請(qǐng)系統(tǒng)中的煙氣先通過(guò)沉淀室冷卻回收大部分粉塵，達(dá)到降低損耗的效果，而煙氣中剩余的少量粉塵則先通過(guò)塵降罐混合去除，減少噴淋塔的處理量，提高尾氣處理效率；同時(shí)為了能夠收集并處理到逸散出外界的煙氣及其攜帶的粉塵，塵降罐在風(fēng)機(jī)的作用下與外界形成一定的壓力差，從而使得窯爐逸散的煙氣及其攜帶的煙塵得到處理，能夠最大程度地降低煙氣及其攜帶的粉塵逸散到工作環(huán)境的風(fēng)險(xiǎn)，避免煙氣及其攜帶的粉塵外泄而污染工作環(huán)境，最后經(jīng)過(guò)噴淋塔二次處理系統(tǒng)內(nèi)殘留的污染物和窯爐逸散的微細(xì)粉塵，使系統(tǒng)的尾氣達(dá)到環(huán)保排放標(biāo)準(zhǔn)。

技術(shù)特征：

1.一種高溫?zé)煔馓幚硐到y(tǒng)，包括依次管道連通的窯爐、沉淀室、塵降罐、噴淋塔、風(fēng)機(jī)，其特征在于，所述塵降罐設(shè)有與外界連通的抽風(fēng)口；所述抽風(fēng)口在風(fēng)機(jī)的作用下保持負(fù)壓并用于抽取窯爐逸散的煙塵。

2.根據(jù)權(quán)利要求1所述的一種高溫?zé)煔馓幚硐到y(tǒng)，其特征在于，所述塵降罐為水浴式除塵器；所述沉淀室與塵降罐通過(guò)一尾氣管連通；所述尾氣管延伸到塵降罐內(nèi)；所述抽風(fēng)口設(shè)置在塵降罐的頂部。

3.根據(jù)權(quán)利要求1所述的一種高溫?zé)煔馓幚硐到y(tǒng)，其特征在于，所述高溫?zé)煔馓幚硐到y(tǒng)還包括用于冷卻沉淀室內(nèi)高溫?zé)煔獾睦鋮s裝置；所述冷卻裝置包括套設(shè)在沉淀室上的水套、與水套連通的冷水機(jī)組。

4.根據(jù)權(quán)利要求3所述的一種高溫?zé)煔馓幚硐到y(tǒng)，其特征在于，所述沉淀室由多個(gè)依次首尾連通的冷卻室組成；所述冷水機(jī)組設(shè)有多條與冷卻室一一對(duì)應(yīng)的循環(huán)水路。

5.根據(jù)權(quán)利要求4所述的一種高溫?zé)煔馓幚硐到y(tǒng)，其特征在于，所述冷卻室內(nèi)設(shè)有隔板。

6.根據(jù)權(quán)利要求4所述的一種高溫?zé)煔馓幚硐到y(tǒng)，其特征在于，多個(gè)所述冷卻室的容量逐漸減少。

7.根據(jù)權(quán)利要求1所述的一種高溫?zé)煔馓幚硐到y(tǒng)，其特征在于，所述窯爐與沉淀室之間通過(guò)一進(jìn)氣管連通；所述進(jìn)氣管的外周設(shè)有保溫套。

8.根據(jù)權(quán)利要求7所述的一種高溫?zé)煔馓幚硐到y(tǒng)，其特征在于，所述保溫套設(shè)有用于保持進(jìn)氣管溫度恒定的熱電偶和溫度檢測(cè)模塊。

9.根據(jù)權(quán)利要求4所述的一種高溫?zé)煔馓幚硐到y(tǒng)，其特征在于，所述冷卻室均設(shè)有清灰口。

技術(shù)總結(jié)
本申請(qǐng)涉及煙氣處理技術(shù)領(lǐng)域，提供了一種高溫?zé)煔馓幚硐到y(tǒng)，包括依次管道連通的窯爐、沉淀室、塵降罐、噴淋塔、風(fēng)機(jī)，所述塵降罐設(shè)有與外界連通的抽風(fēng)口；所述抽風(fēng)口在風(fēng)機(jī)的作用下保持負(fù)壓并用于抽取窯爐逸散的煙塵。本系統(tǒng)能夠最大程度地降低煙氣及其攜帶的粉塵逸散到工作環(huán)境的風(fēng)險(xiǎn)，避免煙氣及其攜帶的粉塵外泄而污染工作環(huán)境。

技術(shù)研發(fā)人員：侯小騰,吳偉平,嚴(yán)嘉明
受保護(hù)的技術(shù)使用者：廣東長(zhǎng)信精密設(shè)備有限公司
技術(shù)研發(fā)日：
技術(shù)公布日：2024/12/19