本實(shí)用新型涉及樹脂粘劑生產(chǎn)設(shè)備技術(shù)領(lǐng)域，尤其涉及到一種用于含低分子的樹脂膠粘劑生產(chǎn)的脫低分子消泡裝置。

背景技術(shù)：

在生產(chǎn)硅油、電子膠、酚醛樹脂、聚酰胺樹脂、環(huán)氧樹脂等產(chǎn)品的過程中，由于其反應(yīng)為可逆反應(yīng)，在反應(yīng)過程中必定含有少量的聚合單體和低聚合物(行業(yè)簡(jiǎn)稱為低分子物)，這些低分子物必須在上述過程中除去，以保證后續(xù)產(chǎn)品的品質(zhì)。有鑒于此，對(duì)于如何尋找到一種結(jié)構(gòu)簡(jiǎn)單、工作穩(wěn)定且能有效保證脫低效果的消泡結(jié)構(gòu)就顯得尤為重要。

技術(shù)實(shí)現(xiàn)要素：

本實(shí)用新型的目的在于克服現(xiàn)有技術(shù)的不足，提供一種結(jié)構(gòu)簡(jiǎn)單、工作穩(wěn)定且能有效保證脫低效果的用于含低分子的樹脂膠粘劑生產(chǎn)的脫低分子消泡裝置。

為實(shí)現(xiàn)上述目的，本實(shí)用新型所提供的技術(shù)方案為：一種用于含低分子的樹脂膠粘劑生產(chǎn)的脫低分子消泡裝置，所述消泡裝置包括反應(yīng)釜、連接于所述反應(yīng)釜底端的融熔泵以及用于產(chǎn)生真空的真空系統(tǒng)，其特征在于：所述消泡裝置還包括分別與所述融熔泵和真空系統(tǒng)相連的脫低分子消氣裝置，所述脫低分子消氣裝置包括筒體、分別設(shè)置在所述筒體上端和底端上的進(jìn)料管和出料管和設(shè)置在所述進(jìn)料管和出料管之間的呈橫向水平布置的筒體法蘭和網(wǎng)板法蘭，所述網(wǎng)板法蘭其上豎直設(shè)置有多個(gè)用于物料脫落的脫低孔，其中所述筒體其頂端上的所述進(jìn)料管與所述融熔泵相連通，所述筒體其通過設(shè)置有的真空管與所述真空系統(tǒng)相連通。

進(jìn)一步地，所述筒體其外表面還套裝有用于對(duì)其內(nèi)腔進(jìn)行加熱的加熱夾套。

進(jìn)一步地，所述脫低孔為呈上寬下窄的階梯通孔結(jié)構(gòu)。

優(yōu)選地，所述脫低孔其通孔直徑由上到下分別為2mm和0.5mm。

優(yōu)選地，所述筒體由上筒體和下筒體連接而成。

進(jìn)一步地，所述真空管其設(shè)置在所述網(wǎng)板法蘭下方。

與現(xiàn)有技術(shù)相比，本方案上述結(jié)構(gòu)能夠保證產(chǎn)品的生產(chǎn)過程中所產(chǎn)生的低分子物進(jìn)行有效移除，并且通過設(shè)置有的真空系統(tǒng)能進(jìn)一步保證移除效果。

附圖說(shuō)明

圖1為本實(shí)用新型的結(jié)構(gòu)裝置示意圖。

圖2為圖1中的A處局部放大結(jié)構(gòu)示意圖。

圖中：1-反應(yīng)釜,2-融熔泵,3-真空系統(tǒng),4-消泡裝置,41-筒體,411-上筒體,412-下筒體,42-進(jìn)料管,43-出料管,44-筒體法蘭,45-網(wǎng)板法蘭,46-加熱夾套,47-真空管,48-脫低孔。

具體實(shí)施方式

下面結(jié)合具體實(shí)施例對(duì)本實(shí)用新型作進(jìn)一步說(shuō)明：

參見附圖1至2所示，本實(shí)施例所述的一種用于含低分子的樹脂膠粘劑生產(chǎn)的脫低分子消泡裝置4，其包括反應(yīng)釜1、連接在反應(yīng)釜1底端的融熔泵2以及用于產(chǎn)生真空的真空系統(tǒng)3，上述消泡裝置4還包括分別與融熔泵2和真空系統(tǒng)3相連的脫低分子消氣裝置，該脫低分子消氣裝置包括筒體41、分別設(shè)置在筒體41上端和底端上的進(jìn)料管42和出料管43和設(shè)置在進(jìn)料管42和出料管43之間的呈橫向水平布置的筒體法蘭44和網(wǎng)板法蘭45，上述網(wǎng)板法蘭45其上豎直設(shè)置有多個(gè)用于物料脫落的脫低孔48，其中筒體41其頂端上的進(jìn)料管42與融熔泵2相連通，該筒體41其通過設(shè)置有的真空管47與真空系統(tǒng)3相連通。優(yōu)選地，上述筒體41由呈豎直布置的上筒體411和下筒體412連接而成。

同時(shí)，為了進(jìn)一步保證脫低效果，上述筒體41其外表面還套裝有用于對(duì)其內(nèi)腔進(jìn)行加熱的加熱夾套46。

此外，為了保證物料的脫低效果，上述脫低孔48為呈上寬下窄的階梯通孔結(jié)構(gòu)。進(jìn)一步地，該脫低孔48其通孔直徑由上到下分別為2mm和0.5mm。

另外，為了使得脫低作業(yè)處于真空環(huán)境下的同時(shí)又保證脫低分子的消泡效果，本方案中的真空管47其設(shè)置在網(wǎng)板法蘭45下方，即使得真空管47的開口在網(wǎng)板法蘭45的下方。

以上所述之實(shí)施例子只為本實(shí)用新型之較佳實(shí)施例，并非以此限制本實(shí)用新型的實(shí)施范圍，故凡依本實(shí)用新型之形狀、原理所作的變化，均應(yīng)涵蓋在本實(shí)用新型的保護(hù)范圍內(nèi)。