本發(fā)明屬于導(dǎo)光板加工設(shè)備技術(shù)領(lǐng)域，具體是涉及一種用于納米溶液自動(dòng)噴涂裝置的工作平臺(tái)。

背景技術(shù)：
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表面封裝技術(shù)，就是SMT(Surface Mounted Technology)，是電子組裝行業(yè)里最流行的一種技術(shù)和工藝。目前，批量化電路印刷都是使用激光切割技術(shù)進(jìn)行SMT印刷模板的加工，故對(duì)應(yīng)的印刷末班稱為SMT激光模板。由于經(jīng)過激光切割方法所得到的印刷模板的孔壁上容易產(chǎn)生毛刺，所以比較粗糙，而為了使其光滑需要對(duì)模板表面進(jìn)行電拋光處理，這不僅增加了SMT激光模板的制造成本，而且電拋光處理后的SMT激光模板的表面不夠光亮，不僅不利于錫膏在模板表面的滾動(dòng)，而且不利于SMT激光模板脫模的順暢性，從而造成SMT激光模板脫模過程中錫膏的橋連、短路或者錫膏不足等缺陷的發(fā)生，這嚴(yán)重影響了電子元器件的焊接可靠性，從而降低了生產(chǎn)效率。

納米溶液具有疏水、疏油的特點(diǎn)，故將納米溶液噴涂在SMT激光模板表面能夠增強(qiáng)SMT激光模板自身清潔的能力，而為了使納米溶液對(duì)SMT激光模板的輔助效果達(dá)到最佳，需要將其均勻的涂覆在SMT激光模板的表面。專利號(hào)為201510778566.3的專利提出了一種用于SMT激光模板的納米溶液自動(dòng)噴涂裝置，其將SMT激光模板安置于設(shè)有真空吸附孔的工作平臺(tái)，利用攝像頭采集SMT激光模板，并輸送結(jié)構(gòu)將工作平臺(tái)輸送至指定的噴槍下方，實(shí)現(xiàn)自動(dòng)噴涂，從而代替人工手動(dòng)噴涂作業(yè)；其中其采用的工作平臺(tái)上溶液安置槽并設(shè)有相應(yīng)排液孔結(jié)構(gòu)，而其真空吸附孔也成型在工作平臺(tái)的溶液安置槽，則噴涂時(shí)其溶液容易進(jìn)入真空吸附孔內(nèi)，容易導(dǎo)致吸附設(shè)施發(fā)生故障。

技術(shù)實(shí)現(xiàn)要素：
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為此，本發(fā)明所要解決的技術(shù)問題在于現(xiàn)有技術(shù)中用于納米溶液自動(dòng)噴涂裝置的工作平臺(tái)容易使得納米溶液進(jìn)入到真空吸附孔中，從而影響吸附裝置發(fā)生故障，從而提出一種用于納米溶液自動(dòng)噴涂裝置的工作平臺(tái)。

為達(dá)到上述目的，本發(fā)明的技術(shù)方案如下：

一種用于納米溶液自動(dòng)噴涂裝置的工作平臺(tái)，包括：

加工平臺(tái)，所述加工平臺(tái)上成型有長方形的凹臺(tái)，所述凹臺(tái)的中心處成型有固定塊，所述凹臺(tái)上成型有若干排料槽，所述加工平臺(tái)的外側(cè)成型有回字形的定位板。

真空吸附盤，所述真空吸附盤通過所述固定塊固定連接在所述凹臺(tái)上。

推板，所述推板的后側(cè)面抵靠在所述凹臺(tái)的內(nèi)側(cè)壁上，所述推板的下端面抵靠在所述凹臺(tái)的上表面。

驅(qū)動(dòng)氣缸，所述驅(qū)動(dòng)氣缸的缸體固定設(shè)置在所述定位板上，所述驅(qū)動(dòng)氣缸的輸出軸穿過所述凹臺(tái)的外側(cè)壁后與所述推板連接。

集液盒，所述集液盒設(shè)置在所述加工平臺(tái)的下方，所述集液盒的開口處成型有相對(duì)設(shè)置的第一凸塊和第二凸塊，第一固定螺栓穿過所述第一凸塊后螺接在所述加工平臺(tái)的下表面，第二固定螺栓穿過所述第二凸塊后螺接在所述加工平臺(tái)的下表面。

作為上述技術(shù)方案的優(yōu)選，所述排料槽的內(nèi)側(cè)壁傾斜設(shè)置。

作為上述技術(shù)方案的優(yōu)選，所述真空吸附盤為正方形真空吸附盤，所述真空吸附盤上設(shè)置有多個(gè)真空吸附孔。

作為上述技術(shù)方案的優(yōu)選，所述排料槽位于所述固定塊的外側(cè)，且所述排料槽位于所述真空吸附盤的正下方。

作為上述技術(shù)方案的優(yōu)選，所述推板的高度大于所述推板后側(cè)面抵靠的凹臺(tái)內(nèi)側(cè)壁的高度。

作為上述技術(shù)方案的優(yōu)選，所述第一固定螺栓和所述第二固定螺栓采用梅花頭螺栓。

本發(fā)明的有益效果在于：其通過固定塊將真空吸附盤設(shè)置在凹臺(tái)的上方，并在凹臺(tái)上設(shè)置了排料槽，可以防止納米溶液進(jìn)入到真空吸附盤上的真空吸附孔中，避免導(dǎo)致吸附裝置發(fā)生故障；其通過在加工平臺(tái)上設(shè)置推板和驅(qū)動(dòng)氣缸，可以利用推板對(duì)吸真空吸附盤上的激光模板進(jìn)行定位，并且可以利用推板在凹臺(tái)上向前滑動(dòng)，將凹臺(tái)上的納米溶液推送到排料槽，通過拍了槽下方的集液盒進(jìn)行回收。

附圖說明：

以下附圖僅旨在于對(duì)本發(fā)明做示意性說明和解釋，并不限定本發(fā)明的范圍。其中：

圖1為本發(fā)明一個(gè)實(shí)施例的用于納米溶液自動(dòng)噴涂裝置的工作平臺(tái)主視圖；

圖2為本發(fā)明一個(gè)實(shí)施例的用于納米溶液自動(dòng)噴涂裝置的工作平臺(tái)仰視圖；

圖3為本發(fā)明一個(gè)實(shí)施例的真空吸附盤表面結(jié)構(gòu)示意圖。

圖中符號(hào)說明：

1-加工平臺(tái)，2-真空吸附盤，3-推板，4-驅(qū)動(dòng)氣缸，5-集液盒，101-凹臺(tái)，102-固定塊，103-排料槽，104-定位板，201-真空吸附孔，501-第一凸塊，502-第二凸塊，503-第一固定螺栓，504-第二固定螺栓。

具體實(shí)施方式：

如圖1、圖2所示，本發(fā)明的用于納米溶液自動(dòng)噴涂裝置的工作平臺(tái)，包括：

加工平臺(tái)1，所述加工平臺(tái)1上成型有長方形的凹臺(tái)101，所述凹臺(tái)101的中心處成型有固定塊102，所述凹臺(tái)101上成型有若干排料槽103，所述加工平臺(tái)1的外側(cè)成型有回字形的定位板104。所述排料槽103的內(nèi)側(cè)壁傾斜設(shè)置。

真空吸附盤2，所述真空吸附盤2通過所述固定塊102固定連接在所述凹臺(tái)101上。如圖3所示，所述真空吸附盤2為正方形真空吸附盤，所述真空吸附盤2上設(shè)置有多個(gè)真空吸附孔201。所述排料槽103位于所述固定塊102的外側(cè)，且所述排料槽103位于所述真空吸附盤2的正下方。

推板3，所述推板3的后側(cè)面抵靠在所述凹臺(tái)101的內(nèi)側(cè)壁上，所述推板3的下端面抵靠在所述凹臺(tái)101的上表面。所述推板3的高度大于所述推板3后側(cè)面抵靠的凹臺(tái)101內(nèi)側(cè)壁的高度。

驅(qū)動(dòng)氣缸4，所述驅(qū)動(dòng)氣缸4的缸體固定設(shè)置在所述定位板104上，所述驅(qū)動(dòng)氣缸4的輸出軸穿過所述凹臺(tái)101的外側(cè)壁后與所述推板3連接。

集液盒5，所述集液盒5設(shè)置在所述加工平臺(tái)1的下方，所述集液盒5的開口處成型有相對(duì)設(shè)置的第一凸塊501和第二凸塊502，第一固定螺栓503穿過所述第一凸塊501后螺接在所述加工平臺(tái)1的下表面，第二固定螺栓504穿過所述第二凸塊502后螺接在所述加工平臺(tái)1的下表面。所述第一固定螺栓503和所述第二固定螺栓504采用梅花頭螺栓。

工作原理：

通過第一固定螺栓和第二固定螺栓將集液盒固定在加工平臺(tái)的下表面，噴涂前，通過驅(qū)動(dòng)氣缸推動(dòng)推板來實(shí)現(xiàn)真空吸附盤上的激光模板的定位，噴涂后，通過驅(qū)動(dòng)氣缸推動(dòng)推板來實(shí)現(xiàn)凹臺(tái)上表面納米溶液的清理，

本實(shí)施例所述的一種用于納米溶液自動(dòng)噴涂裝置的工作平臺(tái)，包括：加工平臺(tái)、真空吸附盤、推板、驅(qū)動(dòng)氣缸、集液盒。其通過固定塊將真空吸附盤設(shè)置在凹臺(tái)的上方，并在凹臺(tái)上設(shè)置了排料槽，可以防止納米溶液進(jìn)入到真空吸附盤上的真空吸附孔中，避免導(dǎo)致吸附裝置發(fā)生故障；其通過在加工平臺(tái)上設(shè)置推板和驅(qū)動(dòng)氣缸，可以利用推板對(duì)吸真空吸附盤上的激光模板進(jìn)行定位，并且可以利用推板在凹臺(tái)上向前滑動(dòng)，將凹臺(tái)上的納米溶液推送到排料槽，通過拍了槽下方的集液盒進(jìn)行回收。

顯然，上述實(shí)施例僅僅是為清楚地說明所作的舉例，而并非對(duì)實(shí)施方式的限定。對(duì)于所屬領(lǐng)域的普通技術(shù)人員來說，在上述說明的基礎(chǔ)上還可以做出其它不同形式的變化或變動(dòng)。這里無需也無法對(duì)所有的實(shí)施方式予以窮舉。而由此所引伸出的顯而易見的變化或變動(dòng)仍處于本發(fā)明創(chuàng)造的保護(hù)范圍之中。