本發(fā)明涉及使用滑動料斗涂布裝置進行同時多層涂布的光學(xué)反射膜的制造方法。
背景技術(shù)：
：以往，反射防止膜、紅外反射膜、彩色感光材料等多層層疊膜通過干式成膜或者濕式成膜來制造。從生產(chǎn)率的方面考慮，與化學(xué)蒸鍍(CVD)、物理蒸鍍(PVD)等干式成膜相比，通過涂布液的涂布和干燥進行的濕式成膜的更優(yōu)異?；瑒恿隙吠坎佳b置作為能夠同時多層涂布多個涂布液的濕式成膜裝置，適用于制造光學(xué)反射膜這樣的多層層疊膜。但是，在使用滑動料斗涂布裝置的多層層疊膜的制造中，有時產(chǎn)生同時多層涂布時的涂布不均，需要一種減少該涂布不均的方法。例如，公開了一種彩色感光材料的制造方法，其中，最下層的形成使用粘度為15cP～100cP的涂布液，并使該最下層上的7層以上的形成所用的涂布液的粘度為30cP以上，且將形成這7層以上的涂布液的粘度的算術(shù)平均值調(diào)整為60～300cP(例如，參照專利文獻(xiàn)1)。記載了根據(jù)該制造方法，能夠高速且穩(wěn)定地得到不產(chǎn)生顏色不均的均勻涂布狀態(tài)。現(xiàn)有技術(shù)文獻(xiàn)專利文獻(xiàn)專利文獻(xiàn)1：日本特開平03－219237號公報技術(shù)實現(xiàn)要素：然而，在光學(xué)反射膜的制造中，使用粘度差非常大的低粘度液和高粘度液，交替層疊這些而進行同時多層涂布。使用滑動料斗涂布裝置，交替層疊這樣粘度差大的液體進行同時多層涂布時，存在如下問題：在滑動面上產(chǎn)生起伏，涂布結(jié)束后的制品產(chǎn)生木紋狀的涂布不均(以下，也稱為木紋狀不均)。為了解決上述的問題，本發(fā)明中，提供改善了木紋狀不均的光學(xué)反射膜的制造方法。本發(fā)明的光學(xué)反射膜的制造方法包括使用滑動料斗涂布裝置在連續(xù)行進的基材膜上將高折射率層用涂布液和低折射率層用涂布液同時多層涂布10層～40層的層的工序。并且，以如下的條件進行同時多層涂布，即，將各擋料塊(ブロック)上的各界面的滑動面上的流下液膜的與滑動面平行的速度成分的高粘度液側(cè)的剪切速率設(shè)為d，將界面的各擋料塊流下時間設(shè)為t時，各界面的(d×t)這個數(shù)值的從界面形成到涂布為止的累積值的最大值Σ(d×t)≤50。根據(jù)本發(fā)明，能夠提供改善了木紋狀不均的光學(xué)反射膜的制造方法。附圖說明圖1是作為分散裝置的一個例子的MILDER(乳化分散機)的示意圖。圖2是表示滑動料斗涂布裝置的一個例子的示意圖。圖3是表示滑動料斗涂布裝置中的滑動面上的同時多層液流的樣子的圖。圖4是表示在高粘度液與低粘度液交替層疊的體系中滑動面上的剪切速率(d)與滑動面膜厚度(y)的關(guān)系的圖。具體實施方式以下，對用于實施本發(fā)明方式的例子進行說明，但本發(fā)明不限于以下的例子。應(yīng)予說明，說明按以下的順序進行。1.光學(xué)反射膜的概要2.光學(xué)反射膜的制造方法<1.光學(xué)反射膜的概要〉首先說明光學(xué)反射膜的制造方法的實施方式，對利用光學(xué)反射膜的制造方法制造的光學(xué)反射膜的概要進行說明。[光學(xué)反射膜]利用上述制造方法制造的光學(xué)反射膜具有在基材上配置包含高折射率層和低折射率層的層疊體的構(gòu)成。這樣構(gòu)成的光學(xué)反射膜通過設(shè)置適當(dāng)?shù)乜刂屏烁哒凵渎蕦雍偷驼凵渎蕦拥墓鈱W(xué)膜厚度(膜厚度×折射率)的層疊體，能夠反射特定波長的光線。例如，反射波長200～400nm的光線(紫外線)時成為紫外屏蔽膜，反射波長400～700nm的光線(可見光)時成為可見光著色膜，反射波長700～1200nm的光線(紅外線)時成為紅外屏蔽膜。另外，通過適當(dāng)?shù)卦O(shè)計層疊體的光學(xué)膜厚度等，還能夠控制所反射的光線的波長和反射率，形成金屬光澤風(fēng)格膜。這些中，光學(xué)反射膜可屏蔽的光線優(yōu)選為波長200nm～1000μm的紫外線～紅外線區(qū)域的光線，更優(yōu)選為具有250～2500nm波長的光線，進一步優(yōu)選為波長700～1200nm的近紅外線區(qū)域的光線。以下的說明中，作為光學(xué)反射膜的代表例，對紅外屏蔽膜的構(gòu)成進行說明。應(yīng)予說明，作為光學(xué)反射膜的構(gòu)成，不限于紅外屏蔽膜，也可以是其它的構(gòu)成。[紅外屏蔽膜]紅外屏蔽膜的構(gòu)成具有基材膜和一組以上的由高折射率層和低折射率層構(gòu)成的單元(層疊體)。另外，優(yōu)選具有高折射率層與低折射率層交替層疊而成的交替層疊體的形態(tài)。另外，紅外屏蔽膜可以設(shè)有多組由高折射率層和低折射率層構(gòu)成的單元(層疊體)。應(yīng)予說明，層疊體中的高折射率層是指具有比作為比較對象的其它層高的折射率的層，低折射率層是指具有比作為比較對象的其它層低的折射率的層，是根據(jù)各層中的相對折射率的關(guān)系命名的構(gòu)成。因此，這些構(gòu)成的名稱根據(jù)層疊體的構(gòu)成、與作為比較對象的層的折射率的關(guān)系隨時變換。另外，在由高折射率層和低折射率層構(gòu)成的單元中，高折射率層和低折射率層分別含有金屬氧化物粒子時，有時低折射率層所含的金屬氧化物粒子(以下，稱為“第1金屬氧化物粒子”)與高折射率層所含的金屬氧化物粒子(以下，稱為“第2金屬氧化物粒子”)在2層的界面混合，形成含有第1金屬氧化物粒子和第2金屬氧化物粒子的層。該情況下，根據(jù)第1金屬氧化物粒子與第2金屬氧化物粒子的存在比而視為低折射率層或者高折射率層。具體而言，低折射率層是指相對于第1金屬氧化物粒子和第2金屬氧化物粒子的合計質(zhì)量，以50～100質(zhì)量％含有第1金屬氧化物粒子的層。高折射率層是指相對于第1金屬氧化物粒子和第2金屬氧化物粒子的合計質(zhì)量，以超過50質(zhì)量％且100質(zhì)量％以下含有第2金屬氧化物粒子的層。應(yīng)予說明，折射率層所含的金屬氧化物粒子的種類和量可以利用能量色散型X射線光譜法(EDX)來分析。作為高折射率層和低折射率層中使用的金屬氧化物粒子，沒有特別限制，可舉出氧化鈦(TiO2)、氧化鋅(ZnO)、氧化鋯(ZrO2)、氧化鈮(Nb2O5)、氧化鋁(Al2O3)、氧化硅(SiO2)、氟化鈣(CaF2)、氟化鎂(MgF2)、氧化銦錫(ITO)、氧化銻錫(ATO)等。這些中，優(yōu)選使用氧化硅(SiO2)作為低折射率層用涂布液所含的第1金屬氧化物粒子，，優(yōu)選使用氧化鈦(TiO2)作為高折射率層用涂布液所含的第2金屬氧化物粒子。作為氧化硅，優(yōu)選膠體二氧化硅，作為氧化鈦，優(yōu)選后述的附著有二氧化硅的氧化鈦溶膠。可以用含硅的水合氧化物被覆氧化鈦粒子。含硅的水合化合物的被覆量優(yōu)選為3～30質(zhì)量％，更優(yōu)選為3～10質(zhì)量％，進一步優(yōu)選為3～8質(zhì)量％。如果被覆量為30質(zhì)量％以下，則得到高折射率層所希望的折射率，如果被覆量為3％以上，則能夠穩(wěn)定地形成粒子。作為用含硅的水合氧化物被覆氧化鈦粒子的方法，可以利用以往公知的方法制造。例如，可以參照日本特開平10－158015號公報(對金紅石型氧化鈦的Si/Al水合氧化物處理；鈦酸濾餅在堿性區(qū)域膠溶后使硅和/或鋁的水合氧化物析出到氧化鈦的表面而進行表面處理的氧化鈦溶膠的制造方法)、日本特開2000－204301號公報(在金紅石型氧化鈦上被覆Si與Zr和/或Al的氧化物的復(fù)合氧化物而成的溶膠，水熱處理)、日本特開2007－246351號公報(向?qū)⑺涎趸佭M行膠溶而得的氧化鈦的水溶膠中添加作為穩(wěn)定劑的式R1nSiX4－n的有機烷氧基硅烷或者對氧化鈦具有絡(luò)合作用的化合物，在堿性區(qū)域添加到硅酸鈉或者二氧化硅溶膠的溶液中進行pH調(diào)節(jié)·熟化，制造由硅的水合氧化物被覆的氧化鈦水溶膠的方法)等中記載的事項。一般而言，紅外屏蔽膜中，從能夠以較少的層數(shù)提高紅外反射率的觀點考慮，優(yōu)選將低折射率層與高折射率層的折射率差設(shè)計得較大。紅外屏蔽膜中，至少一組由低折射率層和高折射率層構(gòu)成的單元中，鄰接的低折射率層與高折射率層的折射率差優(yōu)選為0.1以上，更優(yōu)選為0.3以上，進一步優(yōu)選為0.35以上，特別優(yōu)選為0.4以上。紅外屏蔽膜具有多組高折射率層和低折射率層的單元時，優(yōu)選全部單元中的高折射率層與低折射率層的折射率差在上述優(yōu)選的范圍內(nèi)。但是，關(guān)于最表層、最下層，可以是上述優(yōu)選的范圍外的構(gòu)成。另外，紅外屏蔽膜中，低折射率層的優(yōu)選的折射率為1.10～1.60，更優(yōu)選為1.30～1.50。另外，高折射率層的優(yōu)選的折射率為1.80～2.50，更優(yōu)選為1.90～2.20。光學(xué)反射膜中，高折射率層和低折射率層的折射率可以根據(jù)下述的方法求得。首先，制作在基材膜上以單層涂設(shè)待測定折射率的各折射率層而成的樣品，將該樣品剪裁成10cm×10cm。然后，對各樣品的測定側(cè)的背面進行粗面化處理后，用黑色的噴霧進行光吸收處理以防止光在背面反射。然后，使用分光光度計U－4000型(株式會社日立制作所制)，以5度正反射的條件測定25點可見光區(qū)域(400nm～700nm)的反射率并求得平均值，由該平均值求得平均折射率。特定波長區(qū)域的反射率由鄰接的2層的折射率差和層疊數(shù)決定，折射率的差越大，以越少的層數(shù)得到相同的反射率。該折射率差和所需的層數(shù)可以使用市售的光學(xué)設(shè)計軟件來計算。例如，為了得到90％以上的紅外反射率，如果折射率差小于0.1，則需要200層以上的層疊。如果需要這樣的層數(shù)，則不僅生產(chǎn)率降低，而且在層疊界面的散射變大，透明性降低，另外無故障地制造也非常困難。從提高反射率和減少層數(shù)的觀點考慮，鄰接的2層的折射率差的上限值沒有限定，但實質(zhì)上1.4左右是極限。作為構(gòu)成紅外屏蔽膜的層疊體的層數(shù)，為10～40層，優(yōu)選為10～34層，更優(yōu)選為10～26層。另外，紅外屏蔽膜中，層疊體的最表層和最下層可以是由高折射率層和低折射率層中任一個構(gòu)成的層。作為紅外屏蔽膜，優(yōu)選與基材膜鄰接的層疊體的最下層為低折射率層，且最表層也為低折射率層。紅外屏蔽膜的整體厚度優(yōu)選為12～315μm，更優(yōu)選為15～200μm，進一步優(yōu)選為20～150μm。另外，除最下層以外的低折射率層的每一層的干燥后的膜厚度優(yōu)選為30～500nm，更優(yōu)選為30～300nm。另一方面，除最下層以外的高折射率層的每一層的干燥后的膜厚度優(yōu)選為30～500nm，更優(yōu)選為30～300nm。無論最下層是低折射率層還是高折射率層，最下層的干燥后的膜厚度均優(yōu)選為300～1500nm，更優(yōu)選為400～1200nm。作為紅外屏蔽膜的光學(xué)特性，JISR3106：1998中示出的可見光區(qū)域的透射率優(yōu)選為50％以上，更優(yōu)選為75％以上，進一步優(yōu)選為85％以上，另外，優(yōu)選在波長900～1400nm的區(qū)域具有反射率超過50％的區(qū)域。另外，為了附加更多的功能，紅外屏蔽膜可以具有如下功能層中的1個以上，即：導(dǎo)電層、防靜電層、氣體阻隔層、易粘接層(粘接層)、防污層、除臭層、流滴層、易滑層、硬涂層、耐磨損層、反射防止層、電磁波屏蔽層、紫外線吸收層、紅外吸收層、印刷層、熒光發(fā)光層、全息層、剝離層、粘結(jié)層、粘接層、高折射率層和低折射率層以外的紅外截止層(金屬層、液晶層)、著色層(可見光吸收層)、用于夾層玻璃的中間膜層等功能層。這些層可以設(shè)置在沒有形成層疊體的一側(cè)的基材膜的主面或者層疊體的最表面層上。(基材膜)作為紅外屏蔽膜的基材膜，可以使用各種樹脂膜。作為基材膜，例如可舉出聚烯烴膜(聚乙烯、聚丙烯等)、聚酯膜(聚對苯二甲酸乙二醇酯、聚萘二甲酸乙二醇酯等)、聚氯乙烯、三乙酸纖維素等。作為基材膜，優(yōu)選聚酯膜。作為聚酯膜，沒有特別限定，優(yōu)選以二羧酸成分和二元醇成分為主要構(gòu)成成分，且可形成膜的聚酯膜。作為聚酯膜的主要構(gòu)成成分的二羧酸成分，可舉出對苯二甲酸、間苯二甲酸、鄰苯二甲酸、2,6-萘二甲酸、2,7-萘二甲酸、二苯砜二甲酸、二苯醚二甲酸、二苯基乙烷二甲酸、環(huán)己烷二甲酸、二苯基二甲酸、二苯基硫醚二甲酸、二苯基酮二甲酸、苯基茚滿二甲酸等。另外，作為二元醇成分，可舉出乙二醇、丙二醇、丁二醇、環(huán)己烷二甲醇、2,2-雙(4-羥基苯基)丙烷、2,2-雙(4-羥基乙氧基苯基)丙烷、雙(4-羥基苯基)砜、雙酚芴二羥基乙醚、二乙二醇、新戊二醇、氫醌、環(huán)己烷二醇等。在以這些物質(zhì)為主要構(gòu)成成分的聚酯中，從透明性、機械強度、尺寸穩(wěn)定性等觀點考慮，優(yōu)選以作為二羧酸成分的對苯二甲酸、2,6-萘二甲酸，作為二元醇成分的乙二醇、1,4-環(huán)己烷二甲醇為主要構(gòu)成成分的聚酯。其中，優(yōu)選以聚對苯二甲酸乙二醇酯、聚萘二甲酸乙二醇酯為主要構(gòu)成成分的聚酯，由對苯二甲酸、2,6-萘二甲酸和乙二醇構(gòu)成的共聚聚酯，和以這些聚酯的2種以上的混合物為主要構(gòu)成成分的聚酯。基材膜的厚度優(yōu)選為10～300μm，更優(yōu)選為20～150μm。另外，基材膜可以重疊2片，此時層疊的材料的種類可以相同，也可以不同。另外，基材膜的JISR3106：1998中示出的可見光區(qū)域的透射率優(yōu)選為85％以上，更優(yōu)選為90％以上。如果為這樣的透射率范圍，則有利于形成紅外屏蔽膜時的JISR3106：1998中示出的可見光區(qū)域的透射率成為40％以上。基材膜可以利用以往公知的一般方法制造。例如，可以利用擠出機將作為材料的樹脂熔融，通過環(huán)狀模、T型模擠出后快速冷卻，由此制造實質(zhì)上無定形且未取向的未拉伸的基材膜。另外，可以使用單軸拉伸、拉幅機式逐次雙軸拉伸、拉幅機式同時雙軸拉伸或者管式同時雙軸拉伸等公知的方法，將未拉伸的基材膜在基材膜的流動(縱軸)方向或者與基材膜的流動方向成直角(橫軸)的方向進行拉伸而制造拉伸膜。此時的拉伸倍率可以根據(jù)作為基材膜的原料的樹脂適當(dāng)?shù)剡x擇，優(yōu)選在縱軸方向和橫軸方向分別拉伸2～10倍。作為基材膜，可以為未拉伸膜，也可以為拉伸膜，但從提高強度、抑制熱膨脹等觀點考慮，優(yōu)選拉伸膜。另外，從尺寸穩(wěn)定性的觀點考慮，可以對基材膜進行張弛處理、離線熱處理。張弛處理優(yōu)選在聚酯膜的拉伸制膜工序中的熱固定后、在橫向拉伸的拉幅機內(nèi)或者從拉幅機出來后的卷繞工序前的這段期間進行。張弛處理優(yōu)選在處理溫度為80～200℃下進行，更優(yōu)選處理溫度為100～180℃。另外，優(yōu)選在長邊方向、寬邊方向均以張弛率為0.1～10％的范圍進行，更優(yōu)選以張弛率為2～6％的范圍進行。張弛處理過的基材膜通過被實施上述的離線熱處理而提高耐熱性，尺寸穩(wěn)定性更好。優(yōu)選在基材膜的制膜過程中以在線方式在單面或者兩面涂布底涂層涂布液。將制膜工序中的底涂涂布稱為在線底涂。作為底涂層涂布液中使用的樹脂，可舉出聚酯樹脂、丙烯酸改性聚酯樹脂、聚氨酯樹脂、丙烯酸樹脂、乙烯基樹脂、偏氯乙烯樹脂、聚乙烯亞胺亞乙烯樹脂、聚乙烯亞胺樹脂、聚乙烯醇樹脂、改性聚乙烯醇樹脂、或者明膠等。這些樹脂可以單獨使用或者混合2種以上使用。也可以向底涂層加入以往公知的添加劑。另外，可以利用輥涂、凹版涂布、刮刀涂布、浸涂、噴涂等公知的方法對底涂層進行涂覆。作為底涂層的涂布量，優(yōu)選0.01～2g/m2(干燥狀態(tài))左右。<2.光學(xué)反射膜的制造方法〉接下來，對光學(xué)反射膜的制造方法進行說明。在光學(xué)反射膜的制造方法中，通過使用滑動料斗涂布裝置同時多層涂布10層～40層的層的工序(同時多層涂布工序)，制作由高折射率層和低折射率層構(gòu)成的層疊體。該層疊體的制作中，在滑動料斗涂布裝置的滑動面上層疊高折射率用涂布液和低折射率用涂布液。然后，將該層疊的高折射率用涂布液和低折射率用涂布液涂布在基材膜上，由此在基材膜上形成高折射率層和低折射率層。另外，在光學(xué)反射膜的制造中，按照以下所示的條件進行上述的同時多層涂布。首先，在滑動料斗涂布裝置的構(gòu)成涂布機模的各擋料塊上的滑動面，將層疊的高折射率層用涂布液與低折射率層用涂布液的同時多層液流的各界面的流下液膜的與滑動面平行的速度成分的高粘度液側(cè)的剪切速率設(shè)為界面的剪切速率(d)。另外，將流下液膜的界面從各擋料塊(滑動面)上流下的時間設(shè)為流下時間(t)。這里，同時多層涂布中，在各擋料塊上，可以針對各界面計算(d×t)這個數(shù)值。在該各擋料塊上計算的(d×t)表示的數(shù)值隨著層疊數(shù)增加而增大。而且，以如下的條件進行同時多層涂布，即，對于各界面，在從最初形成(d×t)表示的界面到涂布流下液膜為止的這段期間，(d×t)的累積值Σ(d×t)的最大值為50以下。以下，對光學(xué)反射膜的制造方法中的同時多層涂布的具體方式進行說明。在使用了滑動料斗涂布裝置的光學(xué)反射膜的制造方法中，優(yōu)選在經(jīng)過以下的制備工序、循環(huán)工序、供給工序后，按照上述的條件進行同時多層涂布工序。進一步優(yōu)選在同時多層涂布工序后，進行干燥工序。[制備工序]在制備工序中，分別制備待形成紅外屏蔽膜的高折射率層和低折射率層的涂布液。在制備工序中，使用制備釜、送液裝置和過濾裝置。制備釜是用于制備含有高分子的涂布液的容器。涂布液的制備方法沒有特別限制，例如，將金屬氧化物粒子、水溶性高分子和根據(jù)需要添加的添加劑與溶劑一起進行攪拌混合。此時，各成分的添加順序也沒有特別限制，可以邊攪拌邊依次添加各成分進行混合，也可以邊攪拌邊一次性添加混合。涂布液的制備方法根據(jù)各涂布液適當(dāng)?shù)卮_定。制備釜為了向包含在循環(huán)工序中的儲藏釜供給涂布液而與儲藏釜連接。送液裝置設(shè)置在從制備釜移送涂布液的路徑上。送液裝置例如為泵，能夠控制所制備的涂布液的移送、移送的停止。送液裝置在移送涂布液時，能夠適當(dāng)?shù)卦O(shè)定涂布液的流量、速度。過濾裝置設(shè)置在從制備釜移送涂布液的路徑上。利用過濾裝置除去混在涂布液中的異物、涂布液中產(chǎn)生的氣泡、凝聚的異物。除去異物后的涂布液被送到循環(huán)工序。(涂布液)作為低折射率層用涂布液和高折射率層用涂布液，從能夠?qū)ν坎己蟮耐磕みM行后述的固定而抑制層間的混合的觀點考慮，優(yōu)選使用含有聚乙烯醇類等水溶性樹脂和水或者水系溶劑的水系涂布液，其中，該水系溶劑含有水和水溶性有機溶劑。高折射率層用涂布液和低折射率層用涂布液在40℃的粘度為5～200mPa·s，更優(yōu)選為20～180mPa·s。應(yīng)予說明，粘度采用利用布氏(Brookfield)粘度計測定的值。涂布液的固體成分的濃度優(yōu)選為0.1～10質(zhì)量％，更優(yōu)選為0.1～5質(zhì)量％。這是由于如果為該范圍，則固體成分低，涂布液的均勻性高，因此認(rèn)為膜厚度均勻性進一步提高。低折射率層用涂布液中的水溶性高分子的濃度優(yōu)選為0.1～10質(zhì)量％。另外，低折射率層用涂布液中的第1金屬氧化物粒子的濃度優(yōu)選為1～60質(zhì)量％。高折射率層用涂布液中的水溶性高分子的濃度優(yōu)選為0.5～10質(zhì)量％。另外，高折射率層用涂布液中的第2金屬氧化物粒子的濃度優(yōu)選為1～60質(zhì)量％。應(yīng)予說明，優(yōu)選將高折射率層用涂布液中使用的第2金屬氧化物粒子在制備成涂布液前另外制備成分散液的狀態(tài)而使用。即，優(yōu)選使用添加體積平均粒徑為100nm以下的金紅石型的氧化鈦而分散制備的水系的高折射率層用涂布液，形成高折射率層。此外，更優(yōu)選使用添加由含硅的水合氧化物被覆的氧化鈦粒子而分散制備的水系的高折射率層用涂布液，形成高折射率層。使用分散液時，以在各層中成為任意濃度的方式適當(dāng)?shù)靥砑臃稚⒁杭纯伞?溶劑)用于制備高折射率層用涂布液和低折射率層用涂布液的溶劑沒有特別限制，優(yōu)選水、有機溶劑、或者其混合溶劑。作為有機溶劑，例如可舉出甲醇、乙醇、2-丙醇、1-丁醇等醇類，乙酸乙酯、乙酸丁酯、丙二醇單甲醚乙酸酯、丙二醇單乙醚乙酸酯等酯類，二乙基醚、丙二醇單甲醚、乙二醇單乙醚等醚類，二甲基甲酰胺、N-甲基吡咯烷酮等酰胺類，丙酮、甲乙酮、乙酰丙酮、環(huán)己酮等酮類等。這些有機溶劑可以單獨使用或者組合2種以上使用。從環(huán)境方面、操作的簡便性等考慮，作為涂布液的溶劑，特別優(yōu)選水、或者水與甲醇、乙醇或乙酸乙酯的混合溶劑。(水溶性高分子)作為高折射率層用涂布液和低折射率層用涂布液中使用的水溶性高分子，例如可舉出聚乙烯醇類、聚乙烯基吡咯烷酮類、聚乙烯醇縮丁醛、聚丙烯酸、丙烯酸-丙烯腈共聚物、丙烯酸鉀-丙烯腈共聚物、乙酸乙烯酯-丙烯酸酯共聚物、或者丙烯酸-丙烯酸酯共聚物等丙烯酸系樹脂、苯乙烯-丙烯酸共聚物、苯乙烯-甲基丙烯酸共聚物、苯乙烯-甲基丙烯酸-丙烯酸酯共聚物、苯乙烯-α-甲基苯乙烯-丙烯酸共聚物、或者苯乙烯-α-甲基苯乙烯-丙烯酸-丙烯酸酯共聚物等苯乙烯丙烯酸樹脂、苯乙烯-苯乙烯磺酸鈉共聚物、苯乙烯-丙烯酸2-羥基乙酯共聚物、苯乙烯-丙烯酸2-羥基乙酯-苯乙烯磺酸鉀共聚物、苯乙烯-馬來酸共聚物、苯乙烯-馬來酸酐共聚物、乙烯基萘-丙烯酸共聚物、乙烯基萘-馬來酸共聚物、乙酸乙烯酯-馬來酸酯共聚物、乙酸乙烯酯-巴豆酸共聚物、乙酸乙烯酯-丙烯酸共聚物等乙酸乙烯酯系共聚物以及它們的鹽等合成水溶性高分子；明膠、增粘多糖類等天然水溶性高分子等。這些中，作為特別優(yōu)選的例子，從制造時的操作性和膜的柔軟性的觀點考慮，可舉出聚乙烯醇類、聚乙烯基吡咯烷酮類和含有它們的共聚物，聚乙烯醇縮丁醛、明膠、增粘多糖類(特別是纖維素類)。這些水溶性高分子可以單獨使用也可以并用2種以上使用。作為聚乙烯醇，除將聚乙酸乙烯酯水解而得的通常的聚乙烯醇以外，還包括改性聚乙烯醇。作為改性聚乙烯醇，可舉出陽離子改性聚乙烯醇、陰離子改性聚乙烯醇、非離子改性聚乙烯醇、乙烯醇系聚合物。將聚乙酸乙烯酯水解而得的聚乙烯醇優(yōu)選使用平均聚合度為1000以上的聚乙烯醇，特別優(yōu)選使用平均聚合度為1500～5000的聚乙烯醇，更優(yōu)選使用平均聚合度為2000～5000的聚乙烯醇。這是由于如果聚乙烯醇的聚合度為1000以上，則涂布膜沒有裂紋，如果為5000以下，則涂布液穩(wěn)定。應(yīng)予說明，涂布液穩(wěn)定是指涂布液經(jīng)時穩(wěn)定。以下也同樣。另外，從在水中的溶解性的觀點考慮，皂化度優(yōu)選為70～100mol％，更優(yōu)選為80～99.5mol％。高折射率層用涂布液和低折射率層用涂布液除含有平均聚合度為1000以上的聚乙烯醇以外，優(yōu)選還含有聚合度為100～500且皂化度為95mol％以上的低聚合度高皂化聚乙烯醇。通過含有這樣的低聚合度高皂化聚乙烯醇，涂布液的穩(wěn)定性提高。高折射率層用涂布液和低折射率層用涂布液中的至少一方除含有將聚乙酸乙烯酯水解而得的通常的聚乙烯醇以外，還可以含有部分被改性的改性聚乙烯醇。作為這樣的改性聚乙烯醇，可舉出陽離子改性聚乙烯醇、陰離子改性聚乙烯醇、非離子改性聚乙烯醇、乙烯醇系聚合物等。作為陽離子改性聚乙烯醇，例如，有如日本特開昭61-10483號公報中記載的在上述聚乙烯醇的主鏈或側(cè)鏈中具有伯氨基～叔氨基、季銨基的聚乙烯醇，是通過將具有陽離子性基團的烯鍵式不飽和單體與乙酸乙烯酯的共聚物皂化而得到的。作為具有陽離子性基團的烯鍵式不飽和單體，例如可舉出三甲基-(2-丙烯酰胺-2,2-二甲基乙基)氯化銨、三甲基-(3-丙烯酰胺-3,3-二甲基丙基)氯化銨、N-乙烯基咪唑、N-乙烯基-2-甲基咪唑、N-(3-二甲基氨基丙基)甲基丙烯酰胺、羥基乙基三甲基氯化銨、三甲基-(2-甲基丙烯酰胺丙基)氯化銨、N-(1,1-二甲基-3-二甲基氨基丙基)丙烯酰胺等。陽離子改性聚乙烯醇的含有陽離子改性基團的單體的比率相對于乙酸乙烯酯為0.1～10摩爾％，優(yōu)選為0.2～5摩爾％。陰離子改性聚乙烯醇例如可舉出如日本特開平1-206088號公報中記載的具有陰離子性基團的聚乙烯醇；如日本特開昭61-237681號公報和日本特開昭63-307979號公報中記載的乙烯醇與具有水溶性基團的乙烯基化合物的共聚物以及如日本特開平7-285265號公報中記載的具有水溶性基團的改性聚乙烯醇。另外，作為非離子改性聚乙烯醇，例如可舉出如日本特開平7-9758號公報中記載的在乙烯醇的一部分加成聚環(huán)氧烷基而得的聚乙烯醇衍生物；日本特開平8-25795號公報中記載的具有疏水性基團的乙烯基化合物與乙烯醇的嵌段共聚物，具有硅烷醇基的硅烷醇改性聚乙烯醇，具有乙酰乙?；?、羰基、羧基等反應(yīng)性基團的反應(yīng)性基團改性聚乙烯醇等。這些聚乙烯醇類可以單獨使用或者并用聚合度、改性種類等不同的2種以上。另外，聚乙烯醇類可以使用市售品也可以使用合成品。作為市售品的例子，例如可舉出PVA-102、PVA-103、PVA-105、PVA-110、PVA-117、PVA-120、PVA-124、PVA-135、PVA-203、PVA-205、PVA-210、PVA-217、PVA-220、PVA-224、PVA-235、PVA-617等POVAL(Kuraray株式會社制)、EXCEVAL(注冊商標(biāo)，Kuraray株式會社制)、NICHIGOG-POLYMER(注冊商標(biāo)，日本合成化學(xué)工業(yè)株式會社制)等。(添加劑)可以向低折射率層用涂布液和高折射率層用涂布液中根據(jù)需要添加各種添加劑。作為可添加到高折射率層用涂布液和低折射率層用涂布液中的各種添加劑，例如可舉出日本特開昭57-74193號公報、日本特開昭57-87988號公報和日本特開昭62-261476號公報中記載的紫外線吸收劑，日本特開昭57-74192號、日本特開昭57-87989號公報、日本特開昭60-72785號公報、日本特開昭61-146591號公報、日本特開平1-95091號公報和日本特開平3-13376號公報等中記載的防褪色劑、陰離子、陽離子或非離子的各種表面活性劑，日本特開昭59-42993號公報、日本特開昭59-52689號公報、日本特開昭62-280069號公報、日本特開昭61-242871號公報和日本特開平4-219266號公報等中記載的熒光增白劑、硫酸、磷酸、乙酸、檸檬酸、氫氧化鈉、氫氧化鉀、碳酸鉀、乙酸鈉等pH調(diào)節(jié)劑、消泡劑、二乙二醇等潤滑劑、防腐劑、防霉劑、防靜電劑、消光劑、熱穩(wěn)定劑、抗氧化劑、阻燃劑、成核劑、無機粒子、有機粒子、減粘劑、潤滑劑、紅外線吸收劑、色素、顏料等公知的各種添加劑等。另外，低折射率層用涂布液和高折射率層用涂布液優(yōu)選含有固化劑作為添加劑。作為固化劑的例子，例如可舉出與上述的作為水溶性高分子優(yōu)選的聚乙烯醇發(fā)生固化反應(yīng)的固化劑。具體而言，優(yōu)選硼酸及其鹽。作為固化劑，除硼酸及其鹽以外，還可使用公知的物質(zhì)，一般可適當(dāng)?shù)剡x擇使用具有可與聚乙烯醇類反應(yīng)的基團的化合物或者促進聚乙烯醇類具有的不同基團彼此反應(yīng)的化合物。此外，作為其它的固化劑的具體例，例如可舉出環(huán)氧系固化劑(二縮水甘油基乙醚、乙二醇二縮水甘油醚、1,4-丁二醇二縮水甘油醚、1,6-二縮水甘油基環(huán)己烷、N,N-二縮水甘油基-4-縮水甘油氧基苯胺、山梨醇多縮水甘油醚、丙三醇多縮水甘油醚等)、醛系固化劑(甲醛、乙二醛等)、活性鹵素系固化劑(2,4-二氯-4-羥基-1,3,5-均三嗪等)、活性乙烯基系化合物(1,3,5-三丙烯?；?六氫-均三嗪、雙乙烯基磺?；酌训?、鋁明礬等。上述固化劑的總使用量相對于聚乙烯醇類1g優(yōu)選為1～600mg，相對于聚乙烯醇類1g更優(yōu)選為100～600mg。硼酸或其鹽是指以硼原子為中心原子的含氧酸及其鹽，具體而言，可舉出原硼酸、二硼酸、偏硼酸、四硼酸、五硼酸和八硼酸以及它們的鹽。作為固化劑的具有硼原子的硼酸及其鹽可以是單獨的水溶液，另外，也可以混合2種以上使用。特別優(yōu)選的是硼酸與硼砂的混合水溶液。硼酸與硼砂的水溶液各自只能以較稀的水溶液添加，但混合兩者能夠制成濃的水溶液，能夠?qū)⑼坎家簼饪s化。另外，具有能夠較自由地控制添加的水溶液的pH的優(yōu)點。作為固化劑，從進一步抑制層間混合的觀點考慮，優(yōu)選使用硼酸及其鹽、和/或硼砂。使用硼酸及其鹽、和/或硼砂時，認(rèn)為金屬氧化物粒子與作為水溶性粘結(jié)劑樹脂的聚乙烯醇類的OH基形成氫鍵網(wǎng)，作為其結(jié)果，抑制高折射率層與低折射率層的層間混合，實現(xiàn)理想的近紅外屏蔽特性。特別是采用以涂布機涂布高折射率層和低折射率層的多層重層后，暫時將涂膜的膜面溫度冷卻至15℃左右后，使膜面干燥的固定型涂布工序時，能夠更好地呈現(xiàn)效果。[循環(huán)工序]在循環(huán)工序(涂布液循環(huán)系統(tǒng))中，使所制備的涂布液在保持適當(dāng)?shù)奈镄缘耐瑫r循環(huán)。在循環(huán)工序中，使用儲藏釜、送液裝置、分散裝置、脫泡裝置、過濾裝置和循環(huán)路徑。脫泡裝置和過濾裝置設(shè)置在循環(huán)路徑上。儲藏釜儲藏用于連續(xù)供給的涂布液。優(yōu)選儲藏釜即便在儲藏釜的內(nèi)部也具備用于使涂布液循環(huán)的攪拌裝置。由此，能夠使儲藏釜內(nèi)的涂布液的物性均勻。儲藏釜與用于使從儲藏釜移送的涂布液再次返回儲藏釜的循環(huán)路徑連接。另外，儲藏釜還與用于將涂布液送到供給工序和涂布工序的供給路徑連接。送液裝置設(shè)置在循環(huán)路徑上。作為送液裝置，例如可舉出泵等。送液裝置控制儲藏在儲藏釜的涂布液的移送、移送的停止。送液裝置在移送涂布液時，能夠適當(dāng)?shù)卦O(shè)定涂布液的流量、速度。分散裝置設(shè)置在循環(huán)路徑上。分散裝置對涂布液實施分散處理或者剪切處理。由此，在涂布液中，高分子的分子間和分子內(nèi)的末端基團形成的鍵(范德華鍵等)被切斷，分子彼此的纏繞消除，涂布液的粘度降低。分散裝置只要能夠分散、剪切涂布液，構(gòu)成沒有特別限制，例如，可以使用市售的MILDER、壓力式均化器、高速旋轉(zhuǎn)剪切型均化器等。分散裝置為MILDER時，例如，利用由固定齒與可動齒的速度梯度產(chǎn)生的剪切力對在固定齒與可動齒之間流動的涂布液進行分散處理和剪切處理。作為可用作分散裝置的MILDER，例如可舉出EBARAMILDER(株式會社荏原制作所制)、MILDER(大平洋機工株式會社制MDN306)等。圖1是用作循環(huán)工序的分散裝置的MILDER的示意圖。圖1的MILDER具有作為固定齒的定子齒31和作為旋轉(zhuǎn)齒的轉(zhuǎn)子齒32。在定子齒31與轉(zhuǎn)子齒32的間隙(剪切間隙)La移動的剪切對象液34在轉(zhuǎn)子齒32的徑向產(chǎn)生速度梯度(剪切速率)。由于該速度梯度，在定子齒31與轉(zhuǎn)子齒32之間產(chǎn)生內(nèi)部摩擦力(剪切力)。由于剪切對象液35向剪切間隙La的導(dǎo)入是從轉(zhuǎn)子齒32的狹縫間隙向徑向進行的，所以在剪切間隙La流動的剪切對象液34和導(dǎo)入的剪切對象液35連續(xù)反復(fù)碰撞。即，采用圖1的MILDER，對剪切對象液連續(xù)進行剪切和混合。用作分散裝置時的MILDER的旋轉(zhuǎn)速度優(yōu)選為1000～9000rpm，更優(yōu)選為2000～8000rpm。另外，為了向分散處理供給涂布液，循環(huán)路徑中的涂布液的流量優(yōu)選為3～10L/min，更優(yōu)選為5～10L/min。如果MILDER的旋轉(zhuǎn)速度和涂布液的流量為該范圍，則具有防止涂布液的凝聚的效果。剪切間隙中的定子齒與轉(zhuǎn)子齒的最小間隙優(yōu)選為0.05～0.5mm，更優(yōu)選為0.1～0.4mm。通過適當(dāng)?shù)卦O(shè)定剪切間隙中的定子齒與轉(zhuǎn)子齒的最小間隙、轉(zhuǎn)子齒的旋轉(zhuǎn)速度等，能夠調(diào)節(jié)剪切速率。脫泡裝置除去涂布液中所含的氣泡、溶入涂布液內(nèi)的溶解空氣。作為脫泡方法，例如，考慮了利用離心力分離氣泡和液體并通過抽真空排出氣泡的方法；利用超聲波的方法。但是，只要能夠脫泡，可以使用任何方法的脫泡裝置。過濾裝置除去混在涂布液的異物、涂布液中產(chǎn)生的氣泡、凝聚的異物。除去異物后的涂布液通過循環(huán)路徑再次返送回儲藏釜。如上，在循環(huán)工序中，涂布液被從儲藏釜移送到循環(huán)路徑，經(jīng)過分散裝置、脫泡裝置和過濾裝置實施處理后，返回到儲藏釜。這里，收容于儲藏釜的涂布液中的一部分通過與儲藏釜連接的供給路徑被送到供給工序。返回到儲藏釜的涂布液在儲藏釜內(nèi)邊攪拌邊移動后，再次移送到循環(huán)路徑，反復(fù)進行上述的處理。如此，在循環(huán)工序中，能夠?qū)⑺苽涞耐坎家哼呇h(huán)邊在適當(dāng)?shù)膹姸认逻B續(xù)實施分散處理、脫泡處理、過濾處理等，能夠?qū)⑼坎家旱恼扯鹊任镄员３衷谶m合涂布的范圍內(nèi)。循環(huán)工序中的分散裝置、脫泡裝置和過濾裝置的處理強度可以根據(jù)紅外屏蔽膜的用途、使用的涂布液的性質(zhì)等條件，以涂布液的物性保持在適當(dāng)?shù)姆秶鷥?nèi)的方式適當(dāng)?shù)卦O(shè)定。應(yīng)予說明，在循環(huán)工序中，涂布液循環(huán)的次數(shù)不是預(yù)先設(shè)定的，而是根據(jù)送液裝置的設(shè)定等，每隔一定時間將規(guī)定流量的涂布液從儲藏釜依次送到循環(huán)路徑進行循環(huán)。由于循環(huán)的涂布液返回到儲藏釜被攪拌，所以能夠?qū)⑹杖萦趦Σ馗耐坎家赫w的物性經(jīng)常保持在適合涂布的狀態(tài)。另外，循環(huán)路徑上的分散裝置、脫泡裝置和過濾裝置的順序可以適當(dāng)?shù)刈兏?。另外，可以將多個上述裝置的功能進行綜合的1個裝置提供給循環(huán)工序。例如，將分散裝置和脫泡裝置的功能進行綜合的分散脫泡裝置提供給循環(huán)工序。另外，可以在循環(huán)工序中設(shè)置上述以外的裝置，此外可以不設(shè)置上述裝置中的任一個。[供給工序]供給工序是將制備和循環(huán)的涂布液供給到同時多層涂布工序。供給工序使用送液裝置、流量計、脫泡裝置、過濾裝置和供給路徑。供給路徑是用于將涂布液從循環(huán)工序的儲藏釜向涂布工序供給的路徑。送液裝置、流量計、脫泡裝置和過濾裝置設(shè)置在供給路徑上。送液裝置將從循環(huán)工序的儲藏釜移送的涂布液送到設(shè)置在供給路徑上的各裝置。送液裝置例如為泵，能夠控制所制備的涂布液的移送、移送的停止。送液裝置在移送涂布液時，能夠適當(dāng)?shù)卦O(shè)定涂布液的流量、速度。流量計是測量通過供給路徑的涂布液的流量的裝置。根據(jù)由流量計測量的涂布液的流量，適當(dāng)?shù)乜刂扑鸵貉b置的流量。作為流量計，例如，使用科氏式、電磁式、擋板式、熱輻射式、卡曼渦旋式、或者負(fù)壓傳感方式等的流量計?？梢栽诹髁坑嫷幕A(chǔ)上或者代替流量計而設(shè)置測量供給路徑內(nèi)的涂布液的壓力的壓力計。脫泡裝置除去涂布液中所含的氣泡、溶于涂布液內(nèi)的溶解空氣。作為脫泡的方法，例如，考慮了利用離心力分離氣泡和液體并通過抽真空排出氣泡的方法；利用超聲波的方法。但是，只要能夠脫泡，可以使用任何方法的脫泡裝置。過濾裝置除去混在涂布液的異物、涂布液中產(chǎn)生的氣泡、凝聚的異物。除去異物后的涂布液通過供給路徑被送到涂布工序。應(yīng)予說明，供給路徑上的流量計、脫泡裝置、過濾裝置的順序可以適當(dāng)?shù)刈兏?。另外，可以將多個上述裝置的功能進行綜合的1個裝置提供給供給工序。供給工序中可以設(shè)置上述以外的裝置，另外也可以不設(shè)置上述裝置中的任一個。[同時多層涂布工序]通過上述的供給工序?qū)⒏哒凵渎蕦佑猛坎家汉偷驼凵渎蕦佑猛坎家汗┙o到同時多層涂布工序。在同時多層涂布工序中，使用滑動料斗涂布裝置，在滑動面上層疊高折射率用涂布液和低折射率用涂布液。然后，將該層疊的高折射率用涂布液和低折射率用涂布液涂布到基材膜上，由此形成高折射率層和低折射率層。圖2中示出同時多層涂布工序中使用的滑動料斗涂布裝置的示意圖的一個例子。連續(xù)輸送的基材膜1被保持于支承輥2，在接液部6被涂布，該支承輥2位于面對涂布機模3的位置，配合基材膜1的輸送速度向同一方向旋轉(zhuǎn)。涂布機模3由多個擋料塊11(圖2中，示出了4層同時多層涂布的形態(tài))構(gòu)成，涂布液4從其上流下。另外，涂布機模3被設(shè)置了一定的滑動面相對于水平面的角度8而固定于涂布機模保持臺(未圖示)。在支承輥2與涂布機模3之間的下部設(shè)有減壓室5。由于減壓室5是為了使在接液部6形成的液珠(ビード)穩(wěn)定化，減小在液珠上下的壓力差，具體而言減小下方部壓力，所以從減壓部10排氣使減壓室5內(nèi)成為負(fù)壓。另外，圖2中，使支承輥2的中心與接液部6具有角度7而配置，使基材膜1的行進面與滑動面具有角度9而配置。在同時多層涂布時，通過模擬來計算滑動料斗涂布裝置中的滑動面上的同時多層液流的速度分布。在模擬中，通過計算滑動面上的同時多層液流的速度分布，由同時多層液流中層疊的涂布液彼此的各界面中高粘度液側(cè)的剪切速率(d)和流下時間(t)求得各界面的(d×t)，針對每個界面計算從形成各界面到涂布為止的(d×t)的累積值Σ(d×t)。然后，通過在累積值Σ(d×t)的值成為最大的界面的累積值Σ(d×t)≤50的條件下進行同時多層涂布，能夠抑制同時多層涂布導(dǎo)致的木紋狀不均的產(chǎn)生。(剪切速率d)首先，對同時多層液流的在模擬中的各層界面的高粘度液側(cè)的剪切速率(d)進行說明。由于為層流，所以單層液流的情況下，滑動面上的剪切速率由以下的式子表示，可以人工計算。V：滑動面流下速度，y：滑動面上的流下厚度，ρ：密度，μ：粘度，θ：滑動面的傾斜角度，D：滑動面的流下膜厚度另一方面，同時多層液流的情況下，無法人工計算，因此需要采用模擬軟件進行計算。作為模擬軟件，可采用有限元法、有限體積法、差分法等。本方式中，采用有限元法。以下，對通過模擬使同時多層涂布最佳化的概要進行說明。圖3中示出滑動料斗涂布裝置中的滑動面上的同時多層液流的樣子。在圖3中，涂布機模3由5個擋料塊(擋料塊11A、擋料塊11B、擋料塊11C、擋料塊11D、擋料塊11E)構(gòu)成。而且，從擋料塊11A～擋料塊11E間的各狹縫向除擋料塊11A上的各擋料塊11B、11C、11D、11E上的滑動面12B、滑動面12C、滑動面12D和滑動面12E上供給涂布液，形成同時多層液流。在圖3所示的同時多層液流中，首先，從擋料塊11A與擋料塊11B間的狹縫供給第1涂布液，由此在擋料塊11B的滑動面12B上形成第1涂布液層S1。進一步從擋料塊11B與擋料塊11C間的狹縫向第1涂布液層S1下供給第2涂布液，由此在擋料塊11C的滑動面12C上、第1涂布液層S1下形成第2涂布液層S2。同樣地，從擋料塊11C與擋料塊11D間的狹縫向第2涂布液層S2下供給第3涂布液，由此在擋料塊11D的滑動面12D上、第2涂布液層S2下形成第3涂布液層S3。由此，在擋料塊11D的滑動面12D上形成第3涂布液層S3、第2涂布液層S2和第1涂布液層S1的層疊流動。然后，從擋料塊11D與擋料塊11E間的狹縫向第3涂布液層S3下供給第4涂布液，由此在擋料塊11E的滑動面12E上、第3涂布液層S3下形成第4涂布液層S4。由此，在擋料塊11E的滑動面12E上形成第4涂布液層S4、第3涂布液層S3、第2涂布液層S2和第1涂布液層S1的層疊流動。如此，在滑動面液流中，利用從涂布機模3供給的涂布液首先形成2層液流，依次增加成3層、4層、···、N－1層、N層液流，形成同時多層液流。另外，在本例的同時多層液流中，具有除最下層和最上層以外，高折射率層用涂布液(高粘度液)與低折射率層用涂布液(低粘度液)交替層疊的構(gòu)成。如此，在粘度大大不同的液體交替層疊的體系中，高粘度液層與低粘度液層的界面的剪切速率(d)在高粘度液側(cè)和低粘度液側(cè)大大不同。圖4中示出在高粘度液與低粘度液交替層疊的體系中，滑動面上的剪切速率(d)與滑動面膜厚度(y)的關(guān)系。在圖4中示出如下體系：在N層液流中，構(gòu)成同時多層液流的最下層的涂布液層(第N涂布液層)為低粘度液層，在第N涂布液層上形成的涂布液層(第N－1涂布液層)為高粘度液層，以后是低粘度液層與高粘度液層交替層疊的情況。如圖4所示，在低折射率層用涂布液(低粘度液)層和高折射率層用涂布液(高粘度液)層中，剪切速率大大不同。另外，在同時多層液流中，在滑動面正上方形成的第N涂布液層的剪切速率大，隨著滑動面膜厚度變大，剪切速率變小。即，在同時多層液流中，多重層疊相同粘度的涂布液的情況下，越是在更上層形成的涂布液層，剪切速率越小。而且，在同時多層液流的最表面，剪切速率為0。如圖4所示，在同時多層液流中，低粘度液層的剪切速率大，高粘度液層的剪切速率小。因此，高粘度液層與低粘度液層的界面的剪切速率在低粘度液層側(cè)和高粘度液層側(cè)可以由不同的值表述。這里，同時多層液流的本模擬中，在高粘度液層側(cè)和低粘度液層側(cè)由不同的值表示的各界面的剪切速率采用高粘度液側(cè)的剪切速率。如此，通過使用高粘度液側(cè)的剪切速率作為各涂布液層的界面的剪切速率(d)，能夠一概規(guī)定在高粘度液側(cè)和低粘度液側(cè)大大不同的界面的剪切應(yīng)力。(流下時間t)接下來，對同時多層液流的模擬中的各界面的流下時間(t)進行說明。各界面的流下時間(t)是同時多層液液流的各界面從構(gòu)成涂布機模的各擋料塊的滑動面上流下的時間。該流下時間(t)根據(jù)每個擋料塊來規(guī)定。因此，在圖3例示的構(gòu)成中，流下時間(t)依賴于構(gòu)成涂布機模3的各擋料塊(擋料塊11B、擋料塊11C、擋料塊11D、擋料塊11E)的厚度和各界面的流下速度(界面流下速度u)。在第1涂布液層S1～第N涂布液層SN的同時多層液流中，在各擋料塊上的各滑動面產(chǎn)生新的界面。這里，將各界面從上游側(cè)依次規(guī)定為第1界面、第2界面、第3界面、···第N－1界面。例如，在圖3例示的構(gòu)成中，將在擋料塊11C的滑動面12C上產(chǎn)生的第1涂布液層S1與第2涂布液層S2的界面設(shè)為第11界面(界面dt11)。另外，將在擋料塊11D的滑動面12D上產(chǎn)生的第1涂布液層S1與第2涂布液層S2的界面設(shè)為第12界面(界面dt12)，將在擋料塊11E的滑動面12E上產(chǎn)生的第1涂布液層S1與第2涂布液層S2的界面設(shè)為第13界面(界面dt13)。同樣地，將在擋料塊11D的滑動面12D上產(chǎn)生的第2涂布液層S2與第3涂布液層S3的界面設(shè)為第21界面(界面dt21)，將在擋料塊11E的滑動面12E上產(chǎn)生的第2涂布液層S2與第3涂布液層S3的界面設(shè)為第22界面(界面dt22)。另外，將在擋料塊11E的滑動面12E上產(chǎn)生的第3涂布液層S3與第4涂布液層S4的界面設(shè)為第31界面(界面dt31)。于是，第11界面dt11的流下時間(t11)利用第11界面dt11的界面流下速度u11和擋料塊11C的厚度L1規(guī)定。同樣地，利用各界面的界面流下速度u12、u13、u21、u22、u31、···和各擋料塊11C、11D、11E、···的厚度L1、L2、L3、···規(guī)定各界面dt的流下時間(t)。因此，在圖3例示的構(gòu)成中，在第1涂布液層S1與第2涂布液層S2的界面中，在界面dt11、界面dt12、界面dt13、···界面dt1N-1的各界面，各自規(guī)定流下時間t11～t1N-1。同樣地，在第2涂布液層S2與第3涂布液層S3的界面中，在界面dt21、界面dt22、···界面dt2N-2的各界面，各自規(guī)定流下時間t21～t2N-2。在第3涂布液層S3與第4涂布液層S4的界面中，在界面dt31、界面dt32、···界面dt3N-3的各界面，各自規(guī)定流下時間t31～t3N-3。(各界面的d×t)如上所述，通過規(guī)定各界面dt的剪切速率(d)和流下時間(t)，能夠求得每個界面dt的剪切速率(d)與流下時間(t)的積(d×t)。而且，對于第1涂布液層S1至第N涂布液層SN的各涂布液層間的各界面，對每個界面，從最初產(chǎn)生的界面dtX1的(d×t)到涂布于膜為止產(chǎn)生的全部界面dtXX的(d×t)全部進行累積，從而能夠求得每個界面的累積值Σ(d×t)。關(guān)于上述的對每個界面求得的累積值Σ(d×t)，以下示出N層液流的情況的計算方法的概要。(高粘度液側(cè))×tu：界面的流下速度t：各擋料塊上的流下時間(＝L/u)L：各擋料塊的厚度(上層膜厚度D1、下層膜厚度D2)另外，在同時多層涂布的滑動面液流中，由于每個涂布液層的流下速度不同，所以即便是相同的涂布膜厚度的情況下，在滑動面上各涂布液層的流下膜厚度也不同。關(guān)于各層的膜厚度，通過模擬軟件計算，求得上層膜厚度(D1)、下層膜厚度(D2)。例如，在圖3例示的構(gòu)成中，界面dt11～dt13···的上層膜厚度(D1)是第1涂布液層S1在各界面的流下膜厚度，下層膜厚度(D2)是第2涂布液層S2在各界面的流下膜厚度。而且，用與上述的累積值Σ(d×t)同樣的方法，對于第1涂布液層S1～第N涂布液層SN的各涂布液層間的各界面，通過將從界面dtX1到界面dtXX的(d×(D1/D2)×t)全部累積，能夠求得每個界面的累積值Σ(d×(D1/D2)×t)。(累積值Σ(d×t)的最大值、累積值Σ(d×(D1/D2)×t)的最大值)在使用了滑動料斗涂布裝置的同時多層涂布工序中，以模擬中計算的各界面的累積值Σ(d×t)的最大值為50以下的條件進行同時多層涂布。通過使累積值Σ(d×t)的最大值為50以下，能夠抑制木紋狀不均的產(chǎn)生。并且，光學(xué)反射膜的寬度方向的均勻性高，能夠抑制寬度方向的顏色不均的產(chǎn)生。另外，累積值Σ(d×t)的最大值更優(yōu)選為30以下。通過使累積值Σ(d×t)的最大值為30以下，能夠更顯著地得到上述的作用效果。此外，上述的模擬中計算的累積值Σ(d×(D1/D2)×t)的最大值優(yōu)選為30以下，更優(yōu)選為25以下。通過使累積值Σ(d×t)的最大值和累積值Σ(d×(D1/D2)×t)的最大值成為上述范圍，能夠更顯著地得到上述的作用效果。應(yīng)予說明，在滑動面液流中，上下界面的剪切速率差、上下游的膜厚度差是由于粘度差而產(chǎn)生的。因此，上述的利用模擬的計算應(yīng)用能夠很好地適用于鄰接的層的粘度差為100cp以上的體系。特別是，能夠很好地適用于粘度差為150cp以上的體系。應(yīng)予說明，通過使累積值Σ(d×t)的最大值和累積值Σ(d×(D1/D2)×t)的最大值為上述值以下能提高同時多層涂布的成膜品質(zhì)的作用的詳細(xì)機制尚不明確。獲得上述見解是由于模擬和實驗得到的結(jié)果是通過使累積值Σ(d×t)的最大值和累積值Σ(d×(D1/D2)×t)的最大值為上述值以下，同時多層涂布的涂布品質(zhì)提高。累積值Σ(d×t)的最大值和累積值Σ(d×(D1/D2)×t)的最大值例如可以通過適當(dāng)?shù)卦O(shè)定低折射率層用涂布液和高折射率層用涂布液的粘度、構(gòu)成滑動料斗涂布裝置的涂布機模的各擋料塊的厚度(流下距離)、涂布液的流下膜厚度(流量)、滑動面的傾斜角以及進行同時多層涂布的層數(shù)(流下距離)的各參數(shù)而調(diào)節(jié)成上述值以下。這些參數(shù)對累積值Σ(d×t)的最大值和累積值Σ(d×(D1/D2)×t)的最大值的影響不能一概而論，具體而言，具有如下所述的趨勢。例如，如果涂布液的粘度上升，則剪切速率(d)下降，流下時間(t)增加。此時，粘度上升帶來的剪切速率(d)的下降率大多時候超過流下時間(t)的增加率。因此，如果提高涂布液的粘度，結(jié)果有(d×t)值下降的趨勢。如果增加擋料塊的厚度、層數(shù)，則同時多層液流的流下距離變大，流下時間(t)增加。因此，有(d×t)的值增加的趨勢。如果滑動面的傾斜角變小，則剪切速率(d)下降，流下時間(t)增加。但是，剪切速率的下降率大于流下時間的增加率，因此有(d×t)變小的趨勢。另外，如果涂布液的膜厚度(流量)大，則剪切速率(d)增加，流下速度變大，流下時間變小，但流下時間的下降率更大，因此有(d×t)變小的趨勢。[干燥工序]涂膜的干燥處理優(yōu)選在基材膜上進行上述的同時多層涂布后，將形成的涂膜的溫度姑且冷卻(固定)到優(yōu)選1～15℃，其后在10℃以上的干燥條件下進行。作為更優(yōu)選的干燥條件，為濕球溫度-10～50℃、膜面溫度10～50℃的范圍。例如，對固定后的涂膜吹送1～5分鐘50℃的溫風(fēng)進行干燥。另外，作為涂布之后的冷卻(固定)方式，從提高形成的涂膜的均勻性的觀點考慮，優(yōu)選以水平固定方式進行。作為干燥方法，采用溫風(fēng)干燥、紅外干燥、微波干燥。另外與用單一工序進行的干燥相比優(yōu)選多步工序的干燥，優(yōu)選在減速干燥部的溫度比恒速干燥部高的條件下進行干燥處理。此時的恒速干燥部的溫度范圍優(yōu)選為20～60℃，減速干燥部的溫度范圍優(yōu)選為45～80℃。這里，冷卻(固定)是指對涂膜吹冷風(fēng)等降低溫度等，從而提高涂膜組合物的粘度，使各層間和各層內(nèi)的物質(zhì)的流動性降低或者凝膠化的工序。將從表面對涂布膜吹冷風(fēng)后，用手指按壓涂布膜的表面時手指不沾有任何物質(zhì)的狀態(tài)定義為固定結(jié)束的狀態(tài)。從涂布的時刻到吹冷風(fēng)使固定結(jié)束的時間(固定時間)優(yōu)選為5分鐘以內(nèi)，更優(yōu)選為2分鐘以內(nèi)。另外，下限的時間沒有特別限制，優(yōu)選采取30秒以上的時間。如果固定時間過短，則擔(dān)心層中的成分的冷卻不充分。另一方面，如果固定時間過長，則擔(dān)心進行金屬氧化物粒子的層間擴散，使高折射率層與低折射率層的折射率差不充分。[光學(xué)反射體]利用上述的制造方法制作的光學(xué)反射膜通過控制層疊體的光學(xué)膜厚度等，能夠屏蔽具有規(guī)定波長的光，因此，可根據(jù)所屏蔽的光，可作為光學(xué)反射體用于各種用途。例如，可舉出使用了反射紫外線的紫外屏蔽膜的紫外屏蔽體、使用了反射可見光的光著色膜的裝飾體、使用了反射紅外線的紅外屏蔽膜的紅外屏蔽體、使用了反射規(guī)定波長的光的金屬光澤風(fēng)格膜的裝飾體。以下，作為光學(xué)反射膜的用途，對作為代表例的使用了紅外屏蔽膜的紅外屏蔽體進行說明。應(yīng)予說明，光學(xué)反射膜的用途不限于紅外屏蔽體。(紅外屏蔽體)作為光學(xué)反射膜的紅外屏蔽膜可應(yīng)用在廣泛的領(lǐng)域。例如，貼合在建筑物室外的窗、汽車窗等長時間曝露于太陽光下的設(shè)備，作為賦予熱輻射反射效果的熱輻射反射膜等窗貼用膜、農(nóng)業(yè)用塑料大棚用膜等使用。另外，還適合用作在汽車用的夾層玻璃等玻璃與玻璃之間夾持光學(xué)反射膜的構(gòu)成的汽車用紅外屏蔽膜。這種情況下，由于能夠用玻璃密封紅外屏蔽膜，從耐久性的觀點考慮優(yōu)選。紅外屏蔽膜特別適合用作介由粘接層(粘結(jié)層)將紅外屏蔽膜貼合于玻璃或者代替玻璃的樹脂等基體的構(gòu)成的紅外屏蔽體。在紅外屏蔽體中，優(yōu)選將紅外屏蔽膜配置比基體更靠近日光(熱輻射)入射面的一側(cè)。在紅外屏蔽體中，基體的厚度沒有特別限制，通常為0.1mm～5cm。作為紅外屏蔽體中使用的基體，可以采用塑料基體、金屬基體、陶瓷基體、布狀基體等，可以使用膜狀、板狀、球狀、立方體狀、長方體狀等各種形態(tài)的基體。例如，可舉出玻璃、聚碳酸酯樹脂、聚砜樹脂、丙烯酸樹脂、聚烯烴樹脂、聚醚樹脂、聚酯樹脂、聚酰胺樹脂、多硫化物樹脂、不飽和聚酯樹脂、環(huán)氧樹脂、三聚氰胺樹脂、酚醛樹脂、鄰苯二甲酸二烯丙酯樹脂、聚酰亞胺樹脂、氨基甲酸酯樹脂、聚乙酸乙烯酯樹脂、聚乙烯醇樹脂、苯乙烯樹脂、氯乙烯樹脂、金屬板、陶瓷等。樹脂的種類可以為熱塑性樹脂、熱固性樹脂、電離輻射固化性樹脂中的任一種，這些樹脂可以單獨使用或者組合2種以上使用。用作紅外屏蔽體的基體可以用擠出成型、壓延成型、注射成型、中空成型、壓縮成型等公知的方法來制造。作為基體，優(yōu)選板狀的陶瓷基體，更優(yōu)選在玻璃板設(shè)置有紅外屏蔽膜的紅外屏蔽體。作為玻璃板的例子，例如，可舉出JISR3202：1996中記載的浮法平板玻璃和磨光平板玻璃，作為玻璃厚度，優(yōu)選為0.01mm～20mm。另外，作為紅外屏蔽體，例如，可以是在玻璃的兩面設(shè)有紅外屏蔽膜的形態(tài)，也可以是在紅外屏蔽膜的兩面涂設(shè)粘結(jié)層或者粘接層，從而在紅外屏蔽膜的兩面貼合玻璃的夾層玻璃狀的形態(tài)。作為使紅外屏蔽膜與基體貼合的粘接層(粘結(jié)層)，優(yōu)選使用以光固化性或者熱固性的樹脂為主成分的粘接劑或者粘結(jié)劑。粘接層優(yōu)選對紫外線具有耐久性，優(yōu)選使用丙烯酸系粘接劑或者有機硅系粘接劑。從粘接特性、成本的觀點考慮，優(yōu)選使用丙烯酸系粘接劑。特別是從容易控制剝離強度的角度考慮，在丙烯酸系粘接劑中，優(yōu)選使用溶劑系。使用溶液聚合的聚合物作為丙烯酸溶劑系粘接劑時，作為其單體，可以使用公知的物質(zhì)。另外，可以使用聚乙烯醇縮丁醛系樹脂或者乙烯-乙酸乙烯酯共聚物系樹脂作為上述的粘結(jié)層或者粘接層。例如，可以使用可塑性聚乙烯醇縮丁醛(積水化學(xué)工業(yè)社制，MitsubishiMonsantoChemical公司制等)、乙烯-乙酸乙烯酯共聚物(Dupont公司制，武田藥品工業(yè)社制，DURAMIN)、改性乙烯-乙酸乙烯酯共聚物(TOSOH公司制，MERSENG)等。應(yīng)予說明，可以向粘接層或者粘結(jié)層中適當(dāng)?shù)靥砑优浜献贤饩€吸收劑、抗氧化劑、防靜電劑、熱穩(wěn)定劑、潤滑劑、填充劑、著色、粘接(粘結(jié))調(diào)整劑等。作為在基體設(shè)置本形態(tài)的紅外屏蔽膜的方法，優(yōu)選采用如上所述的在紅外屏蔽膜涂設(shè)粘接層或者粘結(jié)層，介由粘接層或者粘結(jié)層在基體上貼附紅外屏蔽膜的方法。作為貼合方法，可以應(yīng)用在基體上直接貼膜的干式貼合、上述的水貼貼合的方法等。為了不讓空氣進入基體與紅外屏蔽膜之間以及從紅外屏蔽膜在基體上的定位等施工的容易性的觀點考慮，優(yōu)選利用水貼法進行基體與紅外屏蔽膜的貼合。在紅外屏蔽膜和紅外屏蔽體中，隔熱性能、太陽輻射熱屏蔽性能一般可以利用基于JISR3209：1998(多層玻璃)、JISR3106：1998(玻璃板類的透射率·反射率·放射率·太陽輻射熱取得率的試驗方法)、JISR3107：1998(玻璃板類的熱阻和建筑的傳熱系數(shù)的計算方法)的方法求得。太陽輻射透射率、太陽輻射反射率、放射率和可見光透射率的測定利用以下的(1)和(2)的方法求得。(1)使用波長(300～2500nm)的光譜光度測量器，測定各種單板玻璃的光譜透射率、光譜反射率。另外，使用波長5.5～50μm的分光測定器測定放射率。應(yīng)予說明，浮法平板玻璃、磨光平板玻璃、壓花玻璃、熱輻射吸收板玻璃的放射率使用默認(rèn)值。(2)太陽輻射透射率、太陽輻射反射率、太陽輻射吸收率和修正放射率的計算是基于JISR3106：1998計算太陽輻射透射率、太陽輻射反射率、太陽輻射吸收率、法向發(fā)射率。關(guān)于修正放射率，用JISR3107：1998中示出的系數(shù)乘以法向發(fā)射率而求得。隔熱性、太陽輻射熱屏蔽性的計算是利用以下的(1)～(3)的方法求得的。(1)采用厚度的測定值、修正放射率，基于JISR3209：1998計算多層玻璃的熱阻。但是，中空層超過2mm時，基于JISR3107：1998求出中空層的氣體熱導(dǎo)率。(2)隔熱性是多層玻璃的熱阻加上熱傳遞阻抗(熱伝達(dá)抵抗)而以傳熱阻抗(熱貫流抵抗)求出。(3)太陽輻射熱屏蔽性是根據(jù)JISR3106：1998求出太陽輻射熱取得率，從1減去太陽輻射熱取得率而算出的。實施例以下，舉出實施例更詳細(xì)地說明本發(fā)明，但本發(fā)明完全不限于這些實施例。<實施例1的紅外屏蔽膜的制作>[涂布液的制備(制備工序)](低折射率層用涂布液L1的制備)向膠體二氧化硅(SNOWTEX(注冊商標(biāo))OXS，日產(chǎn)化學(xué)工業(yè)株式會社制，固體成分10質(zhì)量％)12質(zhì)量份中添加聚乙烯醇(PVA-I03，聚合度300，皂化度98.5mol％，Kuraray株式會社制)的5質(zhì)量％水溶液2質(zhì)量份和3質(zhì)量％硼酸水溶液10質(zhì)量份后，加熱至40℃，邊攪拌邊添加聚乙烯醇(PVA-117，聚合度1700，皂化度98.5mol％，Kuraray株式會社制)的5質(zhì)量％水溶液20質(zhì)量份和表面活性劑(RAPISOL(注冊商標(biāo))A30，日油株式會社制)的1質(zhì)量％水溶液1質(zhì)量份，并加入純水55質(zhì)量份而制備低折射率層用涂布液L1。其中，純水以低折射率層用涂布液L1成為下述表1記載的粘度的方式調(diào)整量。(附著有二氧化硅的氧化鈦溶膠的制備)向15.0質(zhì)量％氧化鈦溶膠(SRD-W，體積平均粒徑5nm，金紅石型氧化鈦粒子，堺化學(xué)工業(yè)株式會社制)0.5質(zhì)量份加入純水2質(zhì)量份后，加熱至90℃。接下來，緩慢添加硅酸水溶液(以SiO2濃度成為2.0質(zhì)量％的方式將硅酸鈉4號(日本化學(xué)工業(yè)株式會社制)用純水稀釋而成的水溶液)1.3質(zhì)量份。接下來，在高壓釜中，在175℃進行18小時加熱處理，冷卻后，用超濾膜進行濃縮，由此得到固體成分濃度為20質(zhì)量％的表面附著(被覆)有SiO2的氧化鈦溶膠(以下，也簡稱為“附著有二氧化硅的氧化鈦溶膠”)。(高折射率層用涂布液H1的制備)向上述中得到的附著有二氧化硅的氧化鈦溶膠(固體成分20.0質(zhì)量％)30質(zhì)量份中分別添加聚乙烯醇(PVA-103，聚合度300，皂化度98.5mo1％，Kuraray株式會社制)的5質(zhì)量％水溶液2質(zhì)量份、3質(zhì)量％硼酸水溶液10質(zhì)量份和2質(zhì)量％檸檬酸水溶液10質(zhì)量份后，加熱至40℃，邊攪拌邊添加聚乙烯醇(PVA-617，聚合度1700，皂化度95.0mol％，Kuraray株式會社制)的5質(zhì)量％水溶液20質(zhì)量份、表面活性劑(RAPISOLA30，日油株式會社制)的1質(zhì)量％水溶液1質(zhì)量份和純水27質(zhì)量份而制備高折射率層用途布液H1。其中，純水以高折射率層用涂布液H1成為下述表1記載的粘度的方式調(diào)整量。[分散處理(循環(huán)工序)]對上述的方法中制備的高折射率層用涂布液H1和低折射率層用涂布液L1進行循環(huán)工序中的分散處理。作為分散裝置，使用大平洋機工制MILDER分散機MDN306，用3000rpm的旋轉(zhuǎn)速度進行分散處理。循環(huán)工序中送液到分散裝置的涂布液的流量為8L/min。[紅外屏蔽膜的制作(同時多層涂布工序)]使用可多層涂布40層的滑動料斗涂布裝置，邊將低折射率層用途布液L1和高折射率層用涂布液H1保溫在40℃，邊在厚度50μm的聚對苯二甲酸乙二醇酯膜(東洋紡株式會社制，CosmoShine(注冊商標(biāo))A4300，兩面易粘接層)上分別交替進行總計38層的同時多層涂布。此時，以從基材膜側(cè)開始第1層(最下層)和第2層為低折射率層、第3層以后為高折射率層和低折射率層交替且最上層為低折射率層的方式，對送液罐進行加壓，將涂布液送液到滑動料斗涂布裝置。利用設(shè)置在送液罐與滑動料斗涂布裝置之間的流量計(FD-SS2A，Keyence株式會社制)，確認(rèn)流量，結(jié)果確認(rèn)了在第1層～最上層的送液流路幾乎沒有流量變動(相對于平均流量低于±1％)。由此制作低折射率層和高折射率層的合計最多為40層的紅外屏蔽膜。[模擬]模擬是使用Altair公司制有限元法軟件“HyperWorks”，并利用Dell公司制計算機“OPTIPLEX9020”進行的。將各實施例和比較例中的同時多層的涂布層數(shù)、模擬結(jié)果以及鄰接的層的粘度差示于下述表1。應(yīng)予說明，涂布液的粘度是利用落下式粘度計測定的。<實施例2～5的紅外屏蔽膜的制作>使涂布層數(shù)和各條件成為下述表1記載的條件，除此之外，實施例2～5的紅外屏蔽膜與實施例1同樣地制作。<比較例1～2的紅外屏蔽膜的制作>使涂布層數(shù)和各條件成為下述表2記載的條件，除此之外，比較例1～2的紅外屏蔽膜與實施例1同樣地制作?！颈?】【表2】[紅外屏蔽膜的評價]通過目視觀察對實施例1～5和比較例1～2中制作的紅外屏蔽膜進行木紋狀不均和寬度方向顏色不均的下述的性能評價。寬度方向顏色不均是在黑紙上敷紅外屏蔽膜，靠反射光進行目視觀察評價。將評價結(jié)果示于下述表3和表4。(木紋狀不均和寬度方向顏色不均的目視觀察評價)○○：完全沒有產(chǎn)生○：產(chǎn)生微量△：產(chǎn)生少量×：產(chǎn)生很多應(yīng)予說明，在紅外屏蔽膜的木紋狀不均和寬度方向顏色不均的目視觀察評價結(jié)果中，需要均不是產(chǎn)生很多(“×”)。木紋狀不均和寬度方向顏色不均可以產(chǎn)生少量(“△”)，但優(yōu)選全部是產(chǎn)生微量(“○”)以上，特別優(yōu)選完全不產(chǎn)生(“○○”)。【表3】木紋狀不均寬度方向顏色不均實施例1○○○實施例2○○○○實施例3○○○○實施例4○○○實施例5○○○【表4】木紋狀不均寬度方向顏色不均比較例1×△比較例2××由表3和表4的結(jié)果可知，由涂布液的滑動面流下時的高粘度液側(cè)的剪切速率(d)、各擋料塊上的流下時間(t)、鄰接的2層的上層膜厚度(D1)和下層膜厚度(D2)計算的累積值∑(d×t)和累積值∑(d×(D1/D2)×t)的最大值為規(guī)定范圍內(nèi)的實施例與比較例相比較，改善了木紋狀不均和寬度方向的顏色不均。另外，累積值∑(d×t)的最大值為30以下且累積值∑(d×(D1/D2)×t)的最大值為25以下的實施例2、3在改善木紋狀不均和寬度方向顏色不均方面得到特別優(yōu)異的結(jié)果。因此，可以預(yù)測累積值∑(d×t)的最大值和累積值∑(d×(D1/D2)×t)的最大值越小，越能夠有效地抑制木紋狀不均和寬度方向的顏色不均。應(yīng)予說明，本發(fā)明不限于上述的實施方式例中說明的構(gòu)成，在不脫離其它本發(fā)明構(gòu)成的范圍內(nèi)可以進行各種變形、變更。符號說明1基材膜，2支承輥，3涂布機模，4涂布液，5減壓室，6接液部，7、8、9角度，10減壓部，11、11A、11B、11C、11D、11E擋料塊，12B、12C、12D、12E滑動面，dt11、dt12、dt13、dt21、dt22、dt31、dt32界面，S1、S2、S3、S4涂布液層、u11、u12、u13、u21、u22、u31界面流下速度。當(dāng)前第1頁1 2 3