1.一種用于化學(xué)反應(yīng)器的反應(yīng)室，包括：
所述反應(yīng)室的護(hù)殼（100），
所述反應(yīng)室的地板（200），所述地板具有在所述地板中的開(kāi)口（300），
位于所述反應(yīng)室中的攪動(dòng)器軸（400），所述攪動(dòng)器軸具有連接到其上的至少一個(gè)攪動(dòng)器元件（500），其中在沿縱向方向看時(shí)，所述攪動(dòng)器軸（400）具有始端（600）和末端（700），
其特征在于
在所述地板（200）的所述開(kāi)口（300）中，提供了可移除的套筒（800），所述套筒伸出所述反應(yīng)室，
所述套筒（800）被布置成與所述攪動(dòng)器軸（400）的旋轉(zhuǎn)軸線對(duì)準(zhǔn)，
所述套筒（800）的內(nèi)部直徑大于所述攪動(dòng)器軸（400）的直徑，并且在所述攪動(dòng)器軸的所述始端（600）和/或末端（700）處，所述攪動(dòng)器軸（400）適合于可逆地吸收通過(guò)另一軸提供的扭矩和/或傳輸扭矩給另一軸。
2.如權(quán)利要求1所述的反應(yīng)室，其中所述攪動(dòng)器軸（400）通過(guò)所述套筒（800）被導(dǎo)出所述反應(yīng)室，使得所述攪動(dòng)器軸伸出所述反應(yīng)室，并且在所述攪動(dòng)器軸和所述套筒之間形成間隙（900）。
3.如權(quán)利要求1或2所述的反應(yīng)室，其中所述地板（200）相對(duì)于水平方向具有> 0°至≤ 60°的傾斜度。
4.如權(quán)利要求1至3中任一項(xiàng)所述的反應(yīng)室，其中所述反應(yīng)室的所述護(hù)殼（100）和所述地板（200）被共同地構(gòu)造成加熱和/或冷卻護(hù)殼。
5.如權(quán)利要求1至4中任一項(xiàng)所述的反應(yīng)室，其中所述攪動(dòng)器軸通過(guò)被支撐在所述反應(yīng)室中的軸承（1000）被接收在所述反應(yīng)室內(nèi)。
6.如權(quán)利要求1至5中任一項(xiàng)所述的反應(yīng)室，其中所述套筒（800）包括聚合材料。
7.如權(quán)利要求1至6中任一項(xiàng)所述的反應(yīng)室，其中所述反應(yīng)室具有≥ 0.4:1至≤ 1:1的高/直徑比。
8.如權(quán)利要求2至7中任一項(xiàng)所述的反應(yīng)室，其中所述攪動(dòng)器軸（400）和所述套筒（800）之間的所述間隙（900）具有> 0 mm至≤ 5 mm的寬度。
9.如權(quán)利要求1至8中任一項(xiàng)所述的反應(yīng)室，還包括額外的供給（2600）和/或出口（2610），通過(guò)所述額外的供給和/或出口能將物質(zhì)引入和/或排出。
10.一種化學(xué)反應(yīng)器，其特征在于，所述反應(yīng)器包括多個(gè)如權(quán)利要求1-9中任一項(xiàng)所述的反應(yīng)室，其中至少一個(gè)第一反應(yīng)室和一個(gè)第二反應(yīng)室被彼此緊隨地布置，并且用于所述第一反應(yīng)室的所述攪動(dòng)器軸被連接到所述第二反應(yīng)室的所述攪動(dòng)器軸以傳輸扭矩。
11.一種用于執(zhí)行化學(xué)反應(yīng)的過(guò)程，其特征在于，所述反應(yīng)是在如權(quán)利要求10所述的反應(yīng)器中執(zhí)行的。
12.如權(quán)利要求11所述的過(guò)程，其中在恒定量的物質(zhì)至少間歇地被引入所述反應(yīng)器并從所述反應(yīng)器排出的情況下執(zhí)行所述反應(yīng)。
13.如權(quán)利要求11或12所述的過(guò)程，其中在經(jīng)攪拌的反應(yīng)器中，存在一個(gè)接一個(gè)地布置的如權(quán)利要求9所述的第一反應(yīng)室和如權(quán)利要求9所述的第二反應(yīng)室，并且所述第一反應(yīng)室的所述攪動(dòng)器軸被連接到所述第二反應(yīng)室的所述攪動(dòng)器軸以傳輸扭矩，并且在所述第一和/或第二反應(yīng)室中監(jiān)視至少一個(gè)操作狀態(tài)，在出現(xiàn)相對(duì)于這個(gè)操作狀態(tài)的預(yù)定值的所述操作狀態(tài)的預(yù)定偏離時(shí)，關(guān)閉通入這個(gè)反應(yīng)室的供給并且最初通過(guò)這些供給運(yùn)輸?shù)奈镔|(zhì)被引入到另一個(gè)反應(yīng)室。
14.如權(quán)利要求13所述的過(guò)程，其中被監(jiān)視的所述操作狀態(tài)是從一個(gè)反應(yīng)室到相鄰反應(yīng)室的壓降。
15.如權(quán)利要求11至14中任一項(xiàng)所述的過(guò)程，其中所述反應(yīng)是多相反應(yīng)。