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彌散式壓縮空氣擴(kuò)散裝置制造方法

文檔序號(hào):4936025閱讀:166來源:國(guó)知局
彌散式壓縮空氣擴(kuò)散裝置制造方法
【專利摘要】本實(shí)用新型涉及空氣處理【技術(shù)領(lǐng)域】的變壓吸附裝置,具體涉及一種彌散式壓縮空氣擴(kuò)散裝置,其包括吸附塔,吸附塔內(nèi)設(shè)置有吸附層,在吸附塔的下封頭上設(shè)置有進(jìn)氣口,在吸附塔的上封頭上設(shè)置有出氣口,在吸附塔的下封頭內(nèi)設(shè)置有下擴(kuò)散器,在下擴(kuò)散器和吸附層之間還設(shè)置有第一擴(kuò)散層和第二擴(kuò)散層,在吸附層上部還設(shè)置有上擴(kuò)散層。本實(shí)用新型先對(duì)氣流進(jìn)行三級(jí)擴(kuò)散,再通過吸附層,最后再經(jīng)過上擴(kuò)散層和上擴(kuò)散器到達(dá)氣體收集器,整個(gè)吸附塔內(nèi)氣體分散均勻,并且不會(huì)直接沖擊吸附劑,提高了吸附劑的利用率和使用壽命。
【專利說明】彌散式壓縮空氣擴(kuò)散裝置
【技術(shù)領(lǐng)域】
[0001]本實(shí)用新型涉及空氣處理【技術(shù)領(lǐng)域】的變壓吸附裝置,具體涉及一種彌散式壓縮空氣擴(kuò)散裝置。
【背景技術(shù)】
[0002]現(xiàn)代工業(yè)中,為了得到高品質(zhì)、低成本的氣體,變壓吸附得到了廣泛的應(yīng)用。一般的吸附系統(tǒng)中,主管道直接放置在吸附床層的底部,氣體直接穿過整個(gè)床層,最終到達(dá)頂部的氣體收集器,這樣氣體不能有效的分散,使得分子篩利用率不均衡,氣流集中在一處吹,很容易造成吸附劑局部過載,吸附效果差。目前市場(chǎng)上變壓吸附制氧、制氮設(shè)備吸附塔內(nèi)采用的是篩網(wǎng)式進(jìn)行氣流擴(kuò)散,但是任然存在分離塔內(nèi)氣流、氣壓分布不均勻造成分子篩提早粉化,使設(shè)備的使用壽命降低、維護(hù)成本提高等問題。
實(shí)用新型內(nèi)容
[0003]本實(shí)用新型所要解決的技術(shù)問題是提供一種分散效果和吸附效果好、防止吸附劑局部過載、部分提前分化失效的彌散式壓縮空氣擴(kuò)散裝置。
[0004]為解決上述問題,本實(shí)用新型所采取的技術(shù)方案是:
[0005]一種彌散式壓縮空氣擴(kuò)散裝置,其包括吸附塔,吸附塔內(nèi)設(shè)置有吸附層,在吸附塔的下封頭上設(shè)置有進(jìn)氣口,在吸附塔的上封頭上設(shè)置有出氣口,在吸附塔的下封頭內(nèi)設(shè)置有下擴(kuò)散器,在下擴(kuò)散器和吸附層之間還設(shè)置有第一擴(kuò)散層和第二擴(kuò)散層,在吸附層上部還設(shè)置有上擴(kuò)散層。
[0006]進(jìn)一步的,所述的第一擴(kuò)散層和上擴(kuò)散層均采用椰墊。
[0007]進(jìn)一步的,所述的第二擴(kuò)散層為氧化鋁層。
[0008]進(jìn)一步的,在吸附塔上封頭內(nèi)設(shè)置有上擴(kuò)散器。
[0009]進(jìn)一步的,所述的吸附層的吸附劑采用分子篩。
[0010]采用上述技術(shù)方案所產(chǎn)生的有益效果在于:
[0011]本實(shí)用新型在氣流接觸吸附層之前,總共分三級(jí)對(duì)進(jìn)氣氣流進(jìn)行擴(kuò)散,首先通過下擴(kuò)散器對(duì)氣流進(jìn)行初步的強(qiáng)制分流擴(kuò)散,然后通過第一擴(kuò)散器的擴(kuò)散使其進(jìn)一步細(xì)化均勻,最后通過第二擴(kuò)散層進(jìn)行三級(jí)擴(kuò)散,使其達(dá)到理想的擴(kuò)散效果后穿過吸附塔的吸附層,因此能使分子篩的利用率得到最大程度的提高,大大的提高了設(shè)備的產(chǎn)氣效率和性能。不會(huì)直接沖擊損害吸附層的吸附劑,提高了吸附劑的使用壽命。增加了氣流擴(kuò)散器以后一般設(shè)備開機(jī)一小時(shí)左右即可滿足氧氣、氮?dú)饧兌?、流量和壓力的要求,設(shè)備運(yùn)行平穩(wěn)壓力波動(dòng)較小。
[0012]使用氧化鋁層對(duì)氣流進(jìn)行擴(kuò)散,還可以吸收進(jìn)口氣流中的水分、油霧等雜質(zhì),防止分子篩受到污染,延長(zhǎng)其使用壽命和吸附性能。
[0013]設(shè)置了上擴(kuò)散器,與下擴(kuò)散器配合作用,使吸附塔內(nèi)的氣流分散更加均勻?!緦@綀D】

【附圖說明】
[0014]圖1是本實(shí)用新型結(jié)構(gòu)示意圖;
[0015]其中:1吸附塔、1-1進(jìn)氣口、1-2出氣口、2吸附層、3下擴(kuò)散器、4第一擴(kuò)散層、5第二擴(kuò)散層、6上擴(kuò)散器、7上擴(kuò)散層。
【具體實(shí)施方式】
[0016]下面結(jié)合附圖和具體實(shí)施例對(duì)實(shí)用新型做進(jìn)一步詳細(xì)描述:
[0017]如圖1所示的一種彌散式壓縮空氣擴(kuò)散裝置,其包括吸附塔1,吸附塔I內(nèi)設(shè)置有吸附層2,所述的吸附層2的吸附劑采用分子篩,在吸附塔I的下封頭上設(shè)置有進(jìn)氣口 1-1,在吸附塔I的上封頭上設(shè)置有出氣口 1-2,在吸附塔I的下封頭內(nèi)設(shè)置有下擴(kuò)散器3,在下擴(kuò)散器3和吸附層2之間還設(shè)置有第一擴(kuò)散層4和第二擴(kuò)散層5,所述的第一擴(kuò)散層4為椰墊,所述的第二擴(kuò)散層5為氧化鋁層。所述的吸附層2上部設(shè)置有上擴(kuò)散層7,所述的上擴(kuò)散層7采用椰墊,所述的上封頭內(nèi)設(shè)置有上擴(kuò)散器6。
[0018]本實(shí)用新型工作時(shí),壓縮空氣氣流由進(jìn)氣口 1-1進(jìn)入吸附塔I內(nèi),先經(jīng)過下擴(kuò)散器3,下擴(kuò)散器3對(duì)氣流進(jìn)行初步的強(qiáng)制分流擴(kuò)散,然后氣流經(jīng)過第一擴(kuò)散層4進(jìn)一步細(xì)化均勻,再經(jīng)過第二擴(kuò)散層5進(jìn)行三級(jí)擴(kuò)散,氧化鋁層強(qiáng)度高、耐壓效果好,分散氣流的同時(shí),還可以吸收進(jìn)口氣流中的水分、油霧等雜質(zhì),防止分子篩受到污染。因此,在氣流接觸吸附層2之前,總共分三級(jí)對(duì)進(jìn)氣氣流進(jìn)行擴(kuò)散,使其達(dá)到理想的擴(kuò)散效果后穿過分離塔吸附層2,然后再經(jīng)過上擴(kuò)散層7和上擴(kuò)散器6,最后由出氣口 1-2到達(dá)氣體收集器,整個(gè)吸附塔I內(nèi)的氣體分散效果好,因此能使分子篩的利用率得到最大程度的提高,大大的提高了設(shè)備的產(chǎn)氣效率和性能。不會(huì)直接沖擊損害吸附層2的吸附劑,提高了吸附劑的使用壽命。增加了氣流擴(kuò)散器以后一般設(shè)備開機(jī)一小時(shí)左右即可滿足氧氣、氮?dú)饧兌取⒘髁亢蛪毫Φ囊?,設(shè)備運(yùn)行平穩(wěn)壓力波動(dòng)較小。
[0019]以上所述實(shí)施方式僅為本實(shí)用新型的優(yōu)選實(shí)施例,而并非本發(fā)明可行實(shí)施的窮舉。對(duì)于本領(lǐng)域一般技術(shù)人員而言,在不背離本實(shí)用新型原理和精神的前提下對(duì)其所作出的任何顯而易見的改動(dòng),都應(yīng)當(dāng)被認(rèn)為包含在本實(shí)用新型的權(quán)利要求保護(hù)范圍之內(nèi)。
【權(quán)利要求】
1.一種彌散式壓縮空氣擴(kuò)散裝置,其包括吸附塔(1),吸附塔(I)內(nèi)設(shè)置有吸附層(2),在吸附塔(I)的下封頭上設(shè)置有進(jìn)氣口(1-1),在吸附塔(I)的上封頭上設(shè)置有出氣口(1-2),其特征在于:在吸附塔(I)的下封頭內(nèi)設(shè)置有下擴(kuò)散器(3),在下擴(kuò)散器(3)和吸附層(2)之間還設(shè)置有第一擴(kuò)散層(4)和第二擴(kuò)散層(5),在吸附層(2)上部還設(shè)置有上擴(kuò)散層⑵。
2.根據(jù)權(quán)利要求1所述的一種彌散式壓縮空氣擴(kuò)散裝置,其特征在于:所述的第一擴(kuò)散層(4)和上擴(kuò)散層(7)均采用椰墊。
3.根據(jù)權(quán)利要求1所述的一種彌散式壓縮空氣擴(kuò)散裝置,其特征在于:所述的第二擴(kuò)散層(5)為氧化鋁層。
4.根據(jù)權(quán)利要求1-3任一項(xiàng)所述的一種彌散式壓縮空氣擴(kuò)散裝置,其特征在于:在吸附塔(I)上封頭內(nèi)設(shè)置有上擴(kuò)散器(6)。
5.根據(jù)權(quán)利要求1-3任一項(xiàng)所述的一種彌散式壓縮空氣擴(kuò)散裝置,其特征在于:所述的吸附層(2)的吸附劑采用分子篩。
【文檔編號(hào)】B01D53/047GK203591681SQ201320793448
【公開日】2014年5月14日 申請(qǐng)日期:2013年12月4日 優(yōu)先權(quán)日:2013年12月4日
【發(fā)明者】蘇佳政, 周峰, 岳萬金 申請(qǐng)人:浙江瑞德氣體設(shè)備有限公司
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