專利名稱：輻流式沉淀池周邊進水配水槽孔口流量調(diào)節(jié)裝置的制作方法
技術(shù)領(lǐng)域：
本實用新型涉及本實用新型涉及一種砂石系統(tǒng)廢水處理中輻流式沉淀池配水槽流量調(diào)節(jié)裝置。
背景技術(shù)：
在砂石加工系統(tǒng)中，由于濕法生產(chǎn)骨料加工過程中產(chǎn)生的高濁度泥渣廢水，廢水量大小由砂石加工系統(tǒng)加工生產(chǎn)能力而定的，由于砂石加工系統(tǒng)生產(chǎn)的不均勻性，廢水量不均勻的變化，使周邊進水的輻流式沉淀池式配水槽布水出現(xiàn)不均的現(xiàn)象，是輻流式沉淀池的處理廢水能力效果變差，水質(zhì)出現(xiàn)不合格，使進水孔。
發(fā)明內(nèi)容·[0003]本實用新型是為了解決現(xiàn)有技術(shù)存在的問題而提供的一種結(jié)構(gòu)簡單、使用便利，可極大改善輻流式沉淀池的運行條件的輻流式沉淀池周邊進水配水槽孔口流量調(diào)節(jié)裝置。本實用新型的目的是這樣實現(xiàn)的一種輻流式沉淀池周邊進水配水槽孔口流量調(diào)節(jié)裝置，它包括在配水槽上的孔口的上方設(shè)有支架，支架頂部設(shè)有螺絲孔，螺絲孔內(nèi)設(shè)有可轉(zhuǎn)動螺桿，可轉(zhuǎn)動螺桿底端位于支架內(nèi)部設(shè)有圓柱管狀體。上述的圓柱管狀體的直徑大于孔口直徑10cm。本實用新型取得了以下的技術(shù)效果I、本實用新型通過在周邊進水輻流式沉淀池配水槽的進水孔上面設(shè)置一種俯視為“X”形狀的支架，通過轉(zhuǎn)動上面的螺桿控制下部的圓柱管狀體與輻流式沉淀池配水槽進水口相接通觸的相對高度，水量可以方便調(diào)節(jié)，以達到控制進水孔的進水流量。
以下結(jié)合附圖
和實施例對本實用新型作進一步說明。圖I為本實用新型的結(jié)構(gòu)示意圖。
具體實施方式
如圖I所示一種輻流式沉淀池周邊進水配水槽孔口流量調(diào)節(jié)裝置，它包括在配水槽I上的孔口 2的上方設(shè)有支架3，支架頂部設(shè)有螺絲孔4，螺絲孔內(nèi)設(shè)有可轉(zhuǎn)動螺桿6，可轉(zhuǎn)動螺桿底端位于支架內(nèi)部設(shè)有圓柱管狀體5。所述的圓柱管狀體的直徑大于孔口直徑IOcm0本實用新型的工作過程如下當(dāng)周邊進水的輻流式沉淀池式配水槽I布水出現(xiàn)不均的現(xiàn)象，通過于俯視為“X”型的支架3的頂部設(shè)置螺絲孔4及可轉(zhuǎn)動調(diào)節(jié)螺桿6，以調(diào)節(jié)圓柱管狀體5與配水槽I上的孔口 2的高差，以達到控制水量進入配水槽I上的孔口 2的流量目的。[0014]本實用新型的各部件中，均采用A3鋼材制作。圓柱管狀體5的直徑大于配水槽I孔口 2的直徑10 cm，高度要求為8 cm，可轉(zhuǎn)動調(diào)節(jié)螺桿6頂部長度大于配水槽的設(shè)計處理水位線高度1 0cm。
權(quán)利要求1.一種輻流式沉淀池周邊進水配水槽孔口流量調(diào)節(jié)裝置，其特征在于它包括在配水槽(I)上的孔口(2)的上方設(shè)有支架(3)，支架頂部設(shè)有螺絲孔(4)，螺絲孔內(nèi)設(shè)有可轉(zhuǎn)動螺桿(6 )，可轉(zhuǎn)動螺桿底端位于支架內(nèi)部設(shè)有圓柱管狀體(5 )。
2.根據(jù)權(quán)利要求I所述的輻流式沉淀池周邊進水配水槽孔口流量調(diào)節(jié)裝置，其特征在于所述的圓柱管狀體的直徑大于孔口直徑10cm。
專利摘要一種輻流式沉淀池周邊進水配水槽孔口流量調(diào)節(jié)裝置，它包括在配水槽上的孔口的上方設(shè)有支架，支架頂部設(shè)有螺絲孔，螺絲孔內(nèi)設(shè)有可轉(zhuǎn)動螺桿，可轉(zhuǎn)動螺桿底端位于支架內(nèi)部設(shè)有圓柱管狀體。本實用新型通過在周邊進水輻流式沉淀池配水槽的進水孔上面設(shè)置一種俯視為“X”形狀的支架，通過轉(zhuǎn)動上面的螺桿控制下部的圓柱管狀體與輻流式沉淀池配水槽進水口相接觸的相對高度，水量可以方便調(diào)節(jié)，以達到控制進水孔的進水流量。
文檔編號B01D21/34GK202700164SQ201220291180
公開日2013年1月30日 申請日期2012年6月20日 優(yōu)先權(quán)日2012年6月20日
發(fā)明者謝建明 申請人:葛洲壩集團第五工程有限公司