專利名稱：脫硫漿液曝氣增壓深度氧化裝置的制作方法
技術領域：
本實用新型屬于濕式脫硫設備，特別是脫硫設備的脫硫漿液曝氣增壓裝置。
背景技術：
石灰/石灰石濕法煙氣脫硫工藝是鋼廠燒結爐常用的脫硫工藝，該工藝中常用的氧化工藝有強制氧化和自然氧化兩種，由于自然氧化工藝存在結垢和堵塞等許多不足之處，影響整個系統(tǒng)的正常運行，目前國際上和國內石灰/石灰石濕法煙氣脫硫工藝主要以強制氧化為主。但是，現(xiàn)在常用的強制氧化裝置雖然在一定程度上解決了自然氧化工藝的許多不足，但仍存在氧化深度不夠，易結垢堵塞，脫硫產(chǎn)物沉淀速率慢、脫水難等不足
實用新型內容
為了克服現(xiàn)有的強制氧化設備存在氧化深度不夠，易結垢堵塞，脫硫產(chǎn)物沉淀速率慢、脫水難等不足，本實用新型提供一種脫硫漿液曝氣增壓深度氧化裝置，該脫硫漿液曝氣增壓深度氧化裝置不僅可以提高氧化深度還可以解決脫硫產(chǎn)物沉淀速率慢、脫水難等問題。本實用新型解決其技術問題所采用的技術方案是一種脫硫漿液曝氣增壓深度氧化裝置，包括上端為氧化空氣入口的曝氣氧化管，該曝氣氧化管由支撐架固定在脫硫塔內，其特征是所述的曝氣氧化管末端裝有曝氣筒，曝氣筒筒壁上設置有均勻分布的氣體噴射孔，曝氣筒前端為增壓增速噴管。所述的曝氣筒直徑較曝氣氧化管大I. I倍。所述的氣體噴射孔的直徑為I. 2cm。所述的增壓增速噴管直徑為曝氣筒的0. 53倍，其出氣口與軸線夾角為45度。本實用新型的有益效果是由于本增壓裝置的曝氣筒筒壁設有氣體噴射孔向四周擴散噴射空氣，增加了氧化空氣與脫硫溶液的接觸面積，出口采用噴管裝置增壓增速，增加了脫硫漿液池內氧化速度，大大減少了漿液中亞硫酸鈣的含量，達到了解決脫硫產(chǎn)物對噴淋、除霧等系統(tǒng)造成結垢堵塞以及脫硫產(chǎn)物沉淀速率慢、脫水難等問題的目的。

圖I為本實用新型的結構示意圖，圖2為圖I的A-A向局部視圖。圖中，I.氧化空氣入口，2.脫硫塔，3.曝氣氧化管，4.支撐架，5.曝氣筒，6.氣體噴射管，7.增壓增速噴管。
具體實施方式
本實用新型的具體實施方式
是，如圖所示實施例1，一種脫硫漿液曝氣增壓深度氧化裝置，包括上端為氧化空氣入口 I的曝氣氧化管3，該曝氣氧化管由支撐架4固定在脫硫塔2內，其特征是所述的曝氣氧化管末端裝有直徑較曝氣氧化管大I. I倍曝氣筒5，曝氣筒筒壁上設置有均勻分布的直徑為I. 2cm的氣體噴射孔6，曝氣筒前端為直徑為曝氣筒的0. 53倍的增壓增速噴管7，其出氣口與軸線夾角為45度。權利要求1.ー種脫硫漿液曝氣增壓深度氧化裝置，包括上端為氧化空氣入ロ的曝氣氧化管，該曝氣氧化管由支撐架固定在脫硫塔內，其特征是所述的曝氣氧化管末端裝有曝氣筒，曝氣筒筒壁上設置有均勻分布的氣體噴射孔，曝氣筒前端為增壓增速噴管。
2.根據(jù)權利要求I所述的脫硫漿液曝氣增壓深度氧化裝置，其特征是所述的曝氣筒直徑為曝氣氧化管直徑的I. 1-1. 3倍。
3.根據(jù)權利要求I所述的脫硫漿液曝氣增壓深度氧化裝置，其特征是所述的氣體噴射孔的直徑為l_2cm。
4.根據(jù)權利要求I所述的脫硫漿液曝氣增壓深度氧化裝置，其特征是所述的增壓增速噴管直徑為曝氣筒的0. 45-0. 6倍，其出氣ロ與軸線夾角為45度。
專利摘要本實用新型公開了一種脫硫漿液曝氣增壓深度氧化裝置屬于濕式脫硫設備，特別是脫硫設備的脫硫漿液曝氣增壓裝置。脫硫漿液曝氣增壓深度氧化裝置，包括上端為氧化空氣入口的曝氣氧化管，該曝氣氧化管由支撐架固定在脫硫塔內，其特征是所述的曝氣氧化管末端裝有曝氣筒，曝氣筒筒壁上設置有均勻分布的氣體噴射孔，曝氣筒前端為增壓增速噴管。由于本增壓裝置的曝氣筒筒壁設有氣體噴射孔向四周擴散噴射空氣，增加了氧化空氣與脫硫溶液的接觸面積，出口采用噴管裝置增壓增速，增加了脫硫漿液池內氧化速度，大大減少了漿液中亞硫酸鈣的含量，達到了解決脫硫產(chǎn)物對噴淋、除霧等系統(tǒng)造成結垢堵塞以及脫硫產(chǎn)物沉淀速率慢、脫水難等問題的目的。
文檔編號B01D53/48GK202506312SQ20122017173
公開日2012年10月31日 申請日期2012年4月20日 優(yōu)先權日2012年4月20日
發(fā)明者尹燕魯, 杜善國 申請人:山東國舜建設集團有限公司