專利名稱：一種廢氣處理裝置和處理方法
技術(shù)領(lǐng)域：
本發(fā)明專利涉及一種廢氣處理裝置，具體的說是一種采用低溫等離子聯(lián)合光催化對廢棄進(jìn)行處理的設(shè)備。
背景技術(shù)：
現(xiàn)今已有的低溫等離子光催化工業(yè)廢氣處理器，采用介質(zhì)阻擋放電發(fā)生器、電暈放電的等離子分離器、光催化室依次串聯(lián)組成。介質(zhì)阻擋放電發(fā)生器由脈沖數(shù)字電源及等離子脈沖變壓器控制，其氣體輸入端與機(jī)體前端的進(jìn)風(fēng)口連接，介質(zhì)阻擋放電發(fā)生器的氣體輸出端徑變法蘭與電暈放電的等離子分離器的輸入端連接，該等離子分離器的輸出端與光催化室的進(jìn)口法蘭連接，該光催化室的出口法蘭與機(jī)體后端的出風(fēng)口連接。其存在的問題包括1.現(xiàn)有技術(shù)采用了介質(zhì)阻擋放電和電暈放電兩種等離子體產(chǎn)生的方法和裝置后， 才接入光催化裝置，工藝過程復(fù)雜，裝置笨重。2.介質(zhì)阻擋放電發(fā)生器由脈沖數(shù)字電源及等離子體脈沖變壓器控制，該種電源和變壓器都為脈沖型，工作時(shí)產(chǎn)生瞬時(shí)脈沖，對裝置的穩(wěn)定性和工作壽命造成影響。3.現(xiàn)有技術(shù)使用介質(zhì)阻擋放電產(chǎn)生低溫等離子體再進(jìn)行光催化，而新技術(shù)為電暈放電產(chǎn)生低溫等離子再進(jìn)行光催化。4.現(xiàn)技術(shù)裝置由兩組“介質(zhì)阻擋放電發(fā)生器+電暈放電等離子體分離器”并聯(lián)再串聯(lián)“光催化室”而成，再外罩上機(jī)身。該裝置占地面積大，每組發(fā)生器和催化室已有外殼， 并聯(lián)后再罩機(jī)身浪費(fèi)材料。

發(fā)明內(nèi)容
為解決上述問題，本發(fā)明提供一種廢氣處理裝置，通過低溫等離子進(jìn)行電暈反應(yīng)后，再經(jīng)過光催化裝置進(jìn)行催化，達(dá)到對廢氣進(jìn)行凈化的作用，并且經(jīng)過處理的廢氣可以直接排放到空氣中。本發(fā)明采用的技術(shù)方案是一種廢氣處理裝置，包括進(jìn)氣裝置、低溫等離子體反應(yīng)室、出氣裝置和光催化裝置，所述進(jìn)氣裝置和出氣裝置分別位于低溫等離子體反應(yīng)室的上部和下部，并且分別與低溫等離子體反應(yīng)室的氣體入口和氣體出口連接，所述出氣裝置與光催化裝置連接； 所述進(jìn)氣裝置的氣體輸入端具有進(jìn)氣口，所述進(jìn)氣口呈水平或垂直放置，進(jìn)氣裝置的氣體輸出端與低溫等離子體反應(yīng)室的氣體入口對接，在所述氣體輸入端與氣體輸出端之間的進(jìn)氣裝置內(nèi)部設(shè)置有導(dǎo)流板，所述導(dǎo)流板呈傾斜放置，導(dǎo)流板的兩端分別靠近氣體輸入端和氣體輸出端； 所述低溫等離子體反應(yīng)室內(nèi)部設(shè)置有縱向的反應(yīng)腔體，所述反應(yīng)腔體呈蜂巢狀， 并且在每個(gè)獨(dú)立的反應(yīng)腔體的中心位置設(shè)置有一個(gè)縱向的電暈線；在低溫等離子體反應(yīng)室的側(cè)面設(shè)置有補(bǔ)風(fēng)口，補(bǔ)風(fēng)口內(nèi)安裝有絕緣陶瓷；
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所述出氣裝置與低溫等離子體反應(yīng)室的氣體輸出端對接，出氣裝置的出氣口呈水平放置并通過一連接管道與光催化裝置連接，在所述出氣裝置的側(cè)面設(shè)置有可打開的檢修門，所述出氣裝置的底部四角的位置設(shè)置有支腳，并且所述出氣裝置的底部呈一微小角度傾斜，在底部的最低處安裝有一個(gè)排水口。所述廢氣處理裝置的廢氣處理方法，廢氣通過進(jìn)氣口收集后進(jìn)入進(jìn)氣裝置，在進(jìn)氣裝置中設(shè)置導(dǎo)流板使廢氣分布均勻并平緩流動(dòng)到低溫等離子體反應(yīng)室中；低溫等離子體反應(yīng)室中設(shè)置有蜂巢狀的反應(yīng)腔體和反應(yīng)腔體中的電暈線，反應(yīng)腔體和電暈線均呈縱向布置，高頻、高壓直流電源通過電纜連接到低溫等離子體反應(yīng)室內(nèi)，通過電暈線電暈放電產(chǎn)生低溫等離子體進(jìn)行異味氣體的處理，補(bǔ)風(fēng)口可以通過二次補(bǔ)風(fēng)來平衡低溫等離子體反應(yīng)室中風(fēng)量和風(fēng)壓，并且補(bǔ)風(fēng)口內(nèi)安裝有絕緣陶瓷，使得產(chǎn)生電暈放電的腔體與低溫等離子體反應(yīng)室的外殼絕緣，保護(hù)人生安全。廢氣經(jīng)過低溫等離子體反應(yīng)室處理后流動(dòng)到出氣裝置，由出氣裝置對流經(jīng)的廢氣中的顆粒物、液體進(jìn)行沉降并排出或收集，進(jìn)行出氣裝置底部有一定坡度，上方低溫等離子體反應(yīng)室的沉降物或清洗水，可以通過排水口排出，同時(shí)，出氣裝置的殼體上安裝有檢修門，方便設(shè)備檢修維護(hù)，出氣裝置下裝有支腳支撐。在出氣裝置中，處理后的氣體經(jīng)過低溫等離子體裝置出氣口，順著連接管道，最后流動(dòng)到光催化裝置中，進(jìn)行光催化氧化處理后，直接排放到空氣中。本發(fā)明提供的廢氣處理裝置，結(jié)構(gòu)簡單，占地面積小，連接管道少。裝置有導(dǎo)流板，衡風(fēng)量流速，處理效果更加。裝置有檢修門和排水口，方便安裝、維護(hù)和保養(yǎng)。裝置有絕緣陶瓷，保證系統(tǒng)安全性。


下面根據(jù)附圖和實(shí)施例對本發(fā)明作進(jìn)一步詳細(xì)說明。圖1是本發(fā)明所述廢氣處理裝置的結(jié)構(gòu)圖。圖2是本發(fā)明所述反應(yīng)腔體和電暈線的結(jié)構(gòu)示意圖。進(jìn)氣口 -1，進(jìn)氣裝置_2，導(dǎo)流板-3，低溫等離子體反應(yīng)室-4，補(bǔ)風(fēng)口 -5，出氣裝置-6，排水口 -7，檢修門-8，支腳-9，出氣口 -10，連接管道-11，光催化裝置-1具體實(shí)施例方式如圖1所示，本實(shí)施例中，本發(fā)明所述一種廢氣處理裝置，包括進(jìn)氣裝置2、低溫等離子體反應(yīng)室4、出氣裝置6和光催化裝置12，所述進(jìn)氣裝置2和出氣裝置6分別位于低溫等離子體反應(yīng)室4的上部和下部，并且分別與低溫等離子體反應(yīng)室4的氣體入口和氣體出口連接，所述出氣裝置6與光催化裝置12連接；所述進(jìn)氣裝置2的氣體輸入端具有進(jìn)氣口 1，所述進(jìn)氣口 1呈水平放置，進(jìn)氣裝置 2的氣體輸出端與低溫等離子體反應(yīng)室4的氣體入口對接，在所述氣體輸入端與氣體輸出端之間的進(jìn)氣裝置4內(nèi)部設(shè)置有導(dǎo)流板3，所述導(dǎo)流板3呈傾斜放置，導(dǎo)流板3的兩端分別靠近氣體輸入端和氣體輸出端；傾斜的導(dǎo)流板3呈多個(gè)并行布置，可以對進(jìn)氣口 1進(jìn)入進(jìn)氣裝置2的氣體進(jìn)行分流，使廢氣均勻的進(jìn)入低溫等離子體反應(yīng)室4內(nèi)。
結(jié)合圖2，所述低溫等離子體反應(yīng)室4內(nèi)部設(shè)置有縱向的反應(yīng)腔體，所述反應(yīng)腔體呈蜂巢狀，并且在每個(gè)獨(dú)立的反應(yīng)腔體的中心位置設(shè)置有一個(gè)縱向的電暈線；由于傾斜的分流板3的作用，均勻進(jìn)入低溫等離子體反應(yīng)室4內(nèi)部的氣體就可以均勻的通過蜂巢狀的反應(yīng)腔體，可以保證對廢氣的處理效果更好，促進(jìn)達(dá)到最佳的處理目的。在低溫等離子體反應(yīng)室4的側(cè)面設(shè)置有補(bǔ)風(fēng)口 5，補(bǔ)風(fēng)口 5內(nèi)安裝有絕緣陶瓷；高頻、高壓直流電源通過電纜連接到低溫等離子體反應(yīng)室4內(nèi)，通過電暈放電產(chǎn)生低溫等離子體進(jìn)行異味氣體的處理，補(bǔ)風(fēng)口 5可以通過二次補(bǔ)風(fēng)來平衡低溫等離子體反應(yīng)室4中風(fēng)量和風(fēng)壓，并且補(bǔ)風(fēng)口 5內(nèi)安裝有絕緣陶瓷，使得產(chǎn)生電暈放電的腔體與低溫等離子體反應(yīng)室4的外殼絕緣，保護(hù)人生安全。所述出氣裝置6與低溫等離子體反應(yīng)室4的氣體輸出端對接，出氣裝置6的出氣口 10呈水平放置并通過一連接管道11與光催化裝置12連接，在所述出氣裝置6的側(cè)面設(shè)置有可打開的檢修門8，通過檢修門可以方便的進(jìn)行安裝、維護(hù)和保養(yǎng)。所述出氣裝置6的底部四角的位置設(shè)置有支腳9，并且所述出氣裝置的底部呈一微小角度傾斜，在底部的最低處安裝有一個(gè)排水口 7，通過傾斜的底部，將廢氣中收集的液體匯集到最低處的排水口 7， 上方低溫等離子體反應(yīng)室4的沉降物或清洗水，可以通過排水口 7排出或進(jìn)行收集。優(yōu)選的，可在所述連接管道11上接出一回路13到進(jìn)氣口 1，在低溫等離子體反應(yīng)室4的處理效果不佳時(shí)，或者由于廢氣濃度較大而不能一次處理的情況下，可以通過回路 13將低溫等離子體反應(yīng)室4處理后的廢氣重新輸入到進(jìn)氣口 1中進(jìn)行二次處理，保證廢氣的處理效果。本實(shí)施例中提供的廢氣處理方法，廢氣通過進(jìn)氣口 1收集后進(jìn)入進(jìn)氣裝置2，進(jìn)氣裝置2中的導(dǎo)流板3使廢氣分布均勻并平緩流動(dòng)到低溫等離子體反應(yīng)室4。低溫等離子體反應(yīng)室4中有蜂巢狀的反應(yīng)腔體和電暈線，高頻、高壓直流電源通過電纜連接到低溫等離子體反應(yīng)室4內(nèi)，通過電暈放電產(chǎn)生低溫等離子體進(jìn)行異味氣體的處理，補(bǔ)風(fēng)口 5可以通過二次補(bǔ)風(fēng)來平衡低溫等離子體反應(yīng)室4中風(fēng)量和風(fēng)壓，并且補(bǔ)風(fēng)口 5內(nèi)安裝有絕緣陶瓷，使得產(chǎn)生電暈放電的腔體與低溫等離子體反應(yīng)室4的外殼絕緣，保護(hù)人生安全。廢氣經(jīng)過低溫等離子體反應(yīng)室4處理后流動(dòng)到出氣裝置6，出氣裝置6底部有一定坡度，上方低溫等離子體反應(yīng)室4的沉降物或清洗水，可以通過排水口 7排出，同時(shí)，出氣裝置6的殼體上安裝有檢修門8，方便設(shè)備檢修維護(hù)，出氣裝置6下裝有支腳9支撐。在出氣裝置6中，處理后的氣體經(jīng)過低溫等離子體裝置出氣口 10，順著連接管道 11，流動(dòng)到光催化裝置12中，最后通過光催化裝置的處理，直接排放到空氣中。
權(quán)利要求
1.一種廢氣處理裝置，包括進(jìn)氣裝置、低溫等離子體反應(yīng)室、出氣裝置和光催化裝置， 所述進(jìn)氣裝置和出氣裝置分別位于低溫等離子體反應(yīng)室的上部和下部，并且分別與低溫等離子體反應(yīng)室的氣體入口和氣體出口連接，所述出氣裝置與光催化裝置連接，其特征在于， 所述低溫等離子體反應(yīng)室內(nèi)部設(shè)置有縱向的反應(yīng)腔體，所述反應(yīng)腔體呈蜂巢狀，并且在每個(gè)獨(dú)立的反應(yīng)腔體的中心位置設(shè)置有一個(gè)縱向的電暈線，在低溫等離子體反應(yīng)室的側(cè)面設(shè)置有補(bǔ)風(fēng)口，補(bǔ)風(fēng)口內(nèi)安裝有絕緣陶瓷。
2.根據(jù)權(quán)利要求1所述的廢氣處理裝置，其特征在于，所述進(jìn)氣裝置的氣體輸入端具有進(jìn)氣口，所述進(jìn)氣口呈水平或垂直放置，進(jìn)氣裝置的氣體輸出端與低溫等離子體反應(yīng)室的氣體入口對接，在所述氣體輸入端與氣體輸出端之間的進(jìn)氣裝置內(nèi)部設(shè)置有導(dǎo)流板，所述導(dǎo)流板呈傾斜放置，導(dǎo)流板的兩端分別靠近氣體輸入端和氣體輸出端。
3.根據(jù)權(quán)利要求1所述的廢氣處理裝置，其特征在于，所述出氣裝置與低溫等離子體反應(yīng)室的氣體輸出端對接，出氣裝置的出氣口呈水平放置并通過一連接管道與光催化裝置連接。
4.根據(jù)權(quán)利要求3所述的廢氣處理裝置，其特征在于，在所述出氣裝置的側(cè)面設(shè)置有可打開的檢修門，所述出氣裝置的底部四角的位置設(shè)置有支腳，并且所述出氣裝置的底部呈一微小角度傾斜，在底部的最低處安裝有一個(gè)排水口。
5.根據(jù)權(quán)利要求3所述的廢氣處理裝置，其特征在于，在所述連接管道上接出一回路到進(jìn)氣口。
6.一種權(quán)利要求1所述廢氣處理裝置的廢氣處理方法，廢氣通過進(jìn)氣口收集后進(jìn)入進(jìn)氣裝置，在進(jìn)氣裝置中設(shè)置導(dǎo)流板使廢氣分布均勻并平緩流動(dòng)到低溫等離子體反應(yīng)室中；低溫等離子體反應(yīng)室中設(shè)置有蜂巢狀的反應(yīng)腔體和反應(yīng)腔體中的電暈線，反應(yīng)腔體和電暈線均呈縱向布置，高頻、高壓直流電源通過電纜連接到低溫等離子體反應(yīng)室內(nèi)，通過電暈線電暈放電產(chǎn)生低溫等離子體進(jìn)行異味氣體的處理，廢氣經(jīng)過低溫等離子體反應(yīng)室處理后流動(dòng)到出氣裝置，由出氣裝置對流經(jīng)的廢氣中的顆粒物、液體進(jìn)行沉降并排出或收集，在出氣裝置中，處理后的氣體經(jīng)過低溫等離子體裝置出氣口，順著連接管道，流動(dòng)到光催化裝置中，最后通過光催化裝置的處理，直接排放到空氣中。
全文摘要
一種廢氣處理裝置，包括進(jìn)氣裝置、低溫等離子體反應(yīng)室、出氣裝置和光催化裝置，所述進(jìn)氣裝置和出氣裝置分別位于低溫等離子體反應(yīng)室的上部和下部，并且分別與低溫等離子體反應(yīng)室的氣體入口和氣體出口連接，所述出氣裝置與光催化裝置連接。本發(fā)明提供的廢氣處理裝置，結(jié)構(gòu)簡單，占地面積小，連接管道少。裝置有導(dǎo)流板，均衡風(fēng)量流速，處理效果更加。裝置有檢修門和排水口，方便安裝、維護(hù)和保養(yǎng)。裝置有絕緣陶瓷，保證系統(tǒng)安全性。本發(fā)明同時(shí)公開了利用所述廢氣處理裝置進(jìn)行處理廢氣的處理方法。
文檔編號(hào)B01D53/86GK102380293SQ20111024309
公開日2012年3月21日 申請日期2011年8月18日 優(yōu)先權(quán)日2011年8月18日
發(fā)明者姚波, 楊玲, 滕騰, 范成, 陸繼國 申請人:昆明七零五所科技發(fā)展總公司