專利名稱：一種石膏漿液真空脫水系統(tǒng)及脫水方法
技術(shù)領(lǐng)域：
本發(fā)明涉及火電廠煙氣濕法脫硫工藝，特別是涉及一種石膏漿液真空脫水系統(tǒng)， 還涉及使用該真空脫水系統(tǒng)對(duì)石膏漿液真空脫水的方法。
背景技術(shù)：
燃煤火力發(fā)電是一種主要的發(fā)電方式，煤的燃燒會(huì)產(chǎn)生大量含有害物質(zhì)的煙氣， 煙氣中的主要有害物質(zhì)是二氧化硫，隨著電力行業(yè)的發(fā)展，二氧化硫?qū)Νh(huán)境的污染日益嚴(yán) 重。為了消除環(huán)境污染，在電廠中普遍采用了石灰石濕法脫硫技術(shù)，該技術(shù)具有較高的脫硫 效率。運(yùn)行時(shí)，石灰石粉與煙氣中的二氧化硫在脫硫反應(yīng)塔進(jìn)行反應(yīng)，消除了煙氣中約95% 的二氧化硫，從而生成了含水率為85%的石膏漿液。為了能使石膏漿液用于其他領(lǐng)域，如建 筑領(lǐng)域等，需要對(duì)石膏漿液進(jìn)行脫水，使其變成含水率低于10%的干石膏。目前主要的脫水方式是采用真空脫水方式，其設(shè)備就是真空皮帶脫水機(jī)，在脫硫 反應(yīng)塔中反應(yīng)生成的約含85%水分的石膏漿液首先經(jīng)過水力旋流器，變成含水率為50% 的石膏漿液，然后被送到真空皮帶脫水機(jī)上，采用真空脫水的方法，使含水率為50%的石膏 漿液變成含水率低于10%的石膏產(chǎn)品。請(qǐng)參考圖1，圖1為現(xiàn)有的石膏漿液真空脫水系統(tǒng)示意圖。為了降低石膏漿液中的 氯離子含量，采用水沖洗的方式對(duì)石膏濾餅進(jìn)行沖洗。工藝水管路第一分支直接與濾餅沖 洗水箱3相連，向?yàn)V餅沖洗水箱3中提供工藝水1作為濾餅沖洗水的補(bǔ)充水，濾餅沖洗水箱 3后接濾餅沖洗水泵31，濾餅沖洗水泵31的出口端通向真空皮帶脫水機(jī)6。真空脫水裝置 中，氣液分離罐7與真空皮帶脫水機(jī)6的沖洗濾餅出水口相連，氣液分離罐7的出水口連接 密封水箱71，氣液分離罐7的出氣口連接真空泵2，真空泵2將分離出的氣體抽出排放，使 真空皮帶脫水機(jī)6形成真空。工藝水管路第二分支與真空泵2相連，向真空泵2提供工藝水1作為密封水，真空 泵2的密封水出水口與濾布沖洗水箱4連接，向?yàn)V布沖洗水箱4提供真空泵的密封水作為 濾布沖洗水，真空泵2和濾布沖洗水箱4之間的管路分成兩支填料密封水管路21和泵密 封水管路22。濾布沖洗水箱4后接濾布沖洗水泵41，由濾布沖洗水泵41出來的管路分成兩 路，分別為第一沖洗管路421和第二沖洗管路422，第一沖洗管路421通向真空皮帶脫水機(jī) 6的濾布，向真空皮帶脫水機(jī)6提供濾布沖洗水，濾布沖洗出水管路與濾餅沖洗水箱3連接， 沖洗完濾布的水沿濾布沖洗出水管路流入濾餅沖洗水箱3中進(jìn)行二次利用，對(duì)濾餅進(jìn)行沖 洗；第二沖洗管路422通向真空皮帶脫水機(jī)6的皮帶滑臺(tái)和真空箱，提供潤滑皮帶滑臺(tái)和真 空箱密封的水，地面上設(shè)有地溝61，以排放飛濺的以及潤滑后的水。在實(shí)際運(yùn)行中發(fā)現(xiàn)，石膏漿液真空脫水系統(tǒng)的脫水率較低，經(jīng)過脫水后的石膏濾 餅含水率較高，一般維持在12%左右。

發(fā)明內(nèi)容
本發(fā)明解決的問題在于提供一種石膏漿液真空脫水系統(tǒng)，能提高石膏漿液的脫水率，降低脫水后石膏濾餅的含水率。本發(fā)明還提供了使用該真空脫水系統(tǒng)對(duì)石膏漿液真空 脫水的方法。為了解決上述技術(shù)問題，本發(fā)明的技術(shù)方案為一種石膏漿液的真空脫水系統(tǒng)，包括真空脫水裝置，向所述真空脫水裝置提供濾 餅沖洗水的第一供水裝置，將所述濾餅沖洗水加熱的水加熱裝置。作為優(yōu)選，所述水加熱裝置設(shè)置在所述第一供水裝置的入水口前。 作為優(yōu)選，所述真空脫水裝置包括真空泵，所述水加熱裝置為所述真空泵，所述真 空泵的密封水出水口與所述第一供水裝置的入水口相連。作為優(yōu)選，所述濾餅沖洗水供水裝置還包括一個(gè)向真空泵回流第一路濾餅沖洗水 的出水通路。作為優(yōu)選，還包括向真空泵提供密封水的儲(chǔ)水裝置，所述出水通路與第一路工藝 水管路的出水口均與所述儲(chǔ)水裝置的入水口相連，所述儲(chǔ)水裝置的出水口與所述真空泵的 密封水入水口相連。作為優(yōu)選，還包括控制裝置，所述控制裝置用來控制所述儲(chǔ)水裝置中密封水的溫度。作為優(yōu)選，所述控制裝置包括測量所述儲(chǔ)水裝置的入水溫度的第一測溫器、測量 所述儲(chǔ)水裝置的出水溫度的第二測溫器、調(diào)整所述第一路濾餅沖洗水流量的流量開關(guān)和控 制器，所述控制器根據(jù)所述入水溫度和所述出水溫度的溫度差值，通過調(diào)整所述流量開關(guān) 調(diào)節(jié)所述第一路濾餅沖洗水的流量，以控制所述儲(chǔ)水裝置中密封水的溫度。一種使用所述的真空脫水系統(tǒng)對(duì)石膏漿液進(jìn)行真空脫水的方法，包括1)由所述水加熱裝置將所述濾餅沖洗水加熱；2)將所述加熱后的濾餅沖洗水供入真空脫水裝置，由所述真空脫水裝置對(duì)石膏漿 液進(jìn)行脫水。作為優(yōu)選，所述步驟1)為由所述水加熱裝置將所述濾餅沖洗水加熱到至少50°C。作為優(yōu)選，所述水加熱裝置為真空泵。作為優(yōu)選，所述步驟1)中真空泵將所述濾餅沖洗水加熱后，濾餅沖洗水被分成第 一路濾餅沖洗水和第二路濾餅沖洗水，所述第一路濾餅沖洗水與來自第一部分工藝水管路 的工藝水混合后供入儲(chǔ)水裝置作為真空泵密封水；所述步驟2)具體為將所述加熱后的第二路濾餅沖洗水供入真空脫水裝置，由所述真空脫水裝置對(duì)石 膏漿液進(jìn)行脫水。作為優(yōu)選，所述步驟1)中還包括比較儲(chǔ)水裝置的入水溫度與出水溫度；調(diào)整第一路濾餅沖洗水的流量控制儲(chǔ)水裝置中的出水溫度，以將真空泵中的密封 水加熱到至少50°C。發(fā)明人經(jīng)過多次實(shí)驗(yàn)后發(fā)現(xiàn)，提高石膏濾餅沖洗水的溫度后，石膏漿液的脫水率 得到提高。優(yōu)選的，將濾餅沖洗水加熱到至少50°C，使脫水后石膏濾餅的含水率低于10%。發(fā)明人經(jīng)過對(duì)現(xiàn)有系統(tǒng)的觀察，發(fā)現(xiàn)系統(tǒng)中的真空泵的密封水在真空腔體內(nèi)經(jīng)高 速轉(zhuǎn)動(dòng)并與葉輪摩擦后產(chǎn)生熱量，密封水從真空泵排出后的溫度要高于真空泵入水口處的
4溫度。在又一種優(yōu)選的實(shí)施方式中，本發(fā)明改變?yōu)V餅沖洗水的管路，將從真空泵流出的溫度 較高的密封水直接作為濾餅沖洗水，用于對(duì)石膏濾餅進(jìn)行沖洗，由于沖洗水的溫度較高，提 高了真空皮帶脫水機(jī)的脫水率。在又一種優(yōu)選的實(shí)施方式中，進(jìn)一步將真空泵出水口的密封水的一部分進(jìn)行循 環(huán)，再一次進(jìn)入真空泵，這樣再次出來的密封水溫度會(huì)更高。作為優(yōu)選，多次循環(huán)后，真空泵 出水口密封水的溫度可以控制在50°C左右，將此密封水作為濾餅沖洗水對(duì)濾餅進(jìn)行沖洗， 能夠增加真空皮帶脫水的脫水率，得到含水率低于10%的石膏濾餅。


圖1為現(xiàn)有的石膏漿液真空脫水系統(tǒng)示意圖；圖2為濾餅沖洗水的溫度與石膏含水率的關(guān)系曲線圖；圖3為本發(fā)明提供的石膏漿液真空脫水系統(tǒng)示意圖。
具體實(shí)施例方式為了進(jìn)一步了解本發(fā)明，下面結(jié)合實(shí)施例對(duì)本發(fā)明優(yōu)選實(shí)施方案進(jìn)行描述，但是 應(yīng)當(dāng)理解，這些描述只是為進(jìn)一步說明本發(fā)明的特征和優(yōu)點(diǎn)，而不是對(duì)本發(fā)明權(quán)利要求的 限制。經(jīng)過多次實(shí)驗(yàn)后，發(fā)明人發(fā)現(xiàn)脫水后石膏濾餅的含水率隨著濾餅沖洗水溫度的變 化呈現(xiàn)出一定規(guī)律，做出濾餅沖洗水的溫度與石膏含水率的關(guān)系曲線圖，請(qǐng)參考圖2。從圖2顯示的實(shí)驗(yàn)結(jié)果可以看出，隨著濾餅沖洗水溫度的升高，經(jīng)過真空皮帶脫 水機(jī)脫水后的石膏濾餅的含水率逐漸下降，可見提高濾餅沖洗水的溫度，能夠提高真空皮 帶脫水機(jī)的脫水率。尤其是當(dāng)濾餅沖洗水的溫度達(dá)到50°C時(shí)，石膏漿液的脫水率可以提高 1% 左右，脫水后石膏濾餅含水率低于10%以下。因此，本發(fā)明提供的真空脫水系統(tǒng)的一個(gè)實(shí)施方案包括真空脫水裝置，向所述真 空脫水裝置提供濾餅沖洗水的第一供水裝置，一個(gè)將所述濾餅沖洗水加熱的水加熱裝置。 優(yōu)選的，將濾餅沖洗水加熱到至少50°C。發(fā)明人經(jīng)過對(duì)現(xiàn)有系統(tǒng)的觀察，發(fā)現(xiàn)系統(tǒng)中的真空泵的密封水在真空泵腔體內(nèi)經(jīng) 高速轉(zhuǎn)動(dòng)并與葉輪摩擦后產(chǎn)生熱量，密封水從真空泵排出后的溫度要高于真空泵入水口處 的溫度。經(jīng)過對(duì)真空泵入水口和出水口處密封水溫度的測量，得出入水口密封水溫度和出 水口密封水溫度的關(guān)系，見表1 表1真空泵入水口密封水溫度和出水口密封水溫度的關(guān)系
權(quán)利要求
一種石膏漿液的真空脫水系統(tǒng)，包括真空脫水裝置，向所述真空脫水裝置提供濾餅沖洗水的第一供水裝置，其特征在于，還包括將所述濾餅沖洗水加熱的水加熱裝置。
2.根據(jù)權(quán)利要求1所述的真空脫水系統(tǒng)，其特征在于，所述水加熱裝置設(shè)置在所述第 一供水裝置的入水口前。
3.根據(jù)權(quán)利要求2所述的真空脫水系統(tǒng)，其特征在于，所述真空脫水裝置包括真空泵， 所述水加熱裝置為所述真空泵，所述真空泵的密封水出水口與所述第一供水裝置的入水口 相連。
4.根據(jù)權(quán)利要求3所述的真空脫水系統(tǒng)，其特征在于，所述第一供水裝置還包括一個(gè) 向真空泵回流第一路濾餅沖洗水的出水通路。
5.根據(jù)權(quán)利要求4所述的真空脫水系統(tǒng)，其特征在于，還包括向真空泵提供密封水的 儲(chǔ)水裝置，所述出水通路與第一部分工藝水管路的出水口均與所述儲(chǔ)水裝置的入水口相 連，所述儲(chǔ)水裝置的出水口與所述真空泵的密封水入水口相連。
6.根據(jù)權(quán)利要求5所述的真空脫水系統(tǒng)，其特征在于，還包括控制裝置，所述控制裝置 用來控制所述儲(chǔ)水裝置中密封水的溫度。
7.根據(jù)權(quán)利要求6所述的真空脫水系統(tǒng)，其特征在于，所述控制裝置包括測量所述儲(chǔ) 水裝置的入水溫度的第一測溫器、測量所述儲(chǔ)水裝置的出水溫度的第二測溫器、調(diào)整所述 第一路濾餅沖洗水流量的流量開關(guān)和控制器，所述控制器根據(jù)所述入水溫度和所述出水溫 度的溫度差值，通過調(diào)整所述流量開關(guān)調(diào)節(jié)所述第一路濾餅沖洗水的流量，以控制所述儲(chǔ) 水裝置中密封水的溫度。
8.一種使用權(quán)利要求1所述的真空脫水系統(tǒng)對(duì)石膏漿液進(jìn)行真空脫水的方法，其特征 在于，包括1)由所述水加熱裝置將所述濾餅沖洗水加熱；2)將所述加熱后的濾餅沖洗水供入真空脫水裝置，由所述真空脫水裝置對(duì)石膏漿液進(jìn) 行脫水。
9.根據(jù)權(quán)利要求8所述的真空脫水的方法，其特征在于，所述步驟1)為由所述水加熱 裝置將所述濾餅沖洗水加熱到至少50°C。
10.根據(jù)權(quán)利要求8或9所述的真空脫水的方法，其特征在于，所述水加熱裝置為真空泵。
11.根據(jù)權(quán)利要求10所述的真空脫水的方法，其特征在于，所述步驟1)中真空泵將所 述濾餅沖洗水加熱后，濾餅沖洗水被分成第一路濾餅沖洗水和第二路濾餅沖洗水，所述第 一路濾餅沖洗水與來自第一部分工藝水管路的工藝水混合后供入儲(chǔ)水裝置作為真空泵密 封水；所述步驟2)具體為將所述加熱后的第二路濾餅沖洗水供入真空脫水裝置，由所述真空脫水裝置對(duì)石膏漿 液進(jìn)行脫水。
12.根據(jù)權(quán)利要求8所述的真空脫水的方法，其特征在于，所述步驟1)中還包括比較儲(chǔ)水裝置的入水溫度與出水溫度；調(diào)整第一路濾餅沖洗水的流量控制儲(chǔ)水裝置中的出水溫度，以將真空泵中的密封水加 熱到至少50°C。
全文摘要
本發(fā)明提供了一種石膏漿液真空脫水系統(tǒng)，包括真空脫水裝置，向所述真空脫水裝置提供濾餅沖洗水的第一供水裝置，將所述濾餅沖洗水加熱的水加熱裝置。本發(fā)明還提供了一種真空脫水的方法，包括1)由所述水加熱裝置將所述濾餅沖洗水加熱；2)將所述加熱后的濾餅沖洗水供入真空脫水裝置，由所述真空脫水裝置對(duì)石膏漿液進(jìn)行脫水。本發(fā)明將濾餅沖洗水加熱，由于濾餅沖洗水溫度較高，提高了石膏漿液的脫水率，從而使脫水后石膏濾餅的含水率降低。
文檔編號(hào)B01D37/00GK101985073SQ20091015900
公開日2011年3月16日 申請(qǐng)日期2009年7月29日 優(yōu)先權(quán)日2009年7月29日
發(fā)明者文瀚東, 辛躍琪 申請(qǐng)人:上海克萊德貝爾格曼機(jī)械有限公司