專利名稱：多孔陶瓷膜控制釋放氧化劑催化氧化零價(jià)汞的方法
技術(shù)領(lǐng)域：
本發(fā)明涉及一種環(huán)境及化工技術(shù)領(lǐng)域的催化氧化方法，特別是一種多孔陶 瓷膜控制釋放氧化劑催化氧化零價(jià)汞的方法。
背景技術(shù)：
燃煤是造成汞污染的主要原因之一，繼S02及NOx之后，汞逐漸成為必須 加以控制的大氣污染物。煙氣脫汞是控制燃煤汞排放的主要途徑。汞在煙氣中常 以顆粒態(tài)汞(HgP)、氣態(tài)二價(jià)汞(Hg2+)及氣態(tài)零價(jià)汞(HgG)三種形態(tài)存在。 其中，Hg。占煙氣中總汞的20~80%，其含量主要與燃煤中氯的含量有關(guān)。前兩 種形態(tài)的汞相對(duì)容易治理顆粒汞可通過(guò)除塵裝置去除；氣態(tài)二價(jià)汞易溶于水， 可被濕式脫硫裝置(WFGD)有效去除；而HgG易揮發(fā)、難吸附、難溶于水，去除 非常困難，且其可在大氣中長(zhǎng)期穩(wěn)定存在，并可擴(kuò)散轉(zhuǎn)移，由此造成全球汞污染。 我國(guó)燃煤汞含量偏高而氯含量偏低，導(dǎo)致煙氣中HgG含量偏高，增加了治理難度。
目前，國(guó)內(nèi)外仍缺少成熟的煙氣脫汞技術(shù)。在已探索的煙氣脫汞技術(shù)中， 針對(duì)活性炭噴射法(ACI)的研究最為廣泛，在美國(guó)已被廣泛使用，該方法能有效 脫除Hg2、但是對(duì)HgG效果不佳，且存在運(yùn)行費(fèi)過(guò)高、影響飛灰品質(zhì)等問(wèn)題； 利用WFGD裝置同時(shí)脫汞的方法也廣受重視，由于WFGD裝置在國(guó)內(nèi)外日益普 及，因此利用其脫汞是最為經(jīng)濟(jì)的途徑。研究表明，WFGD裝置對(duì)氣態(tài)Hg^有 很高的吸收效率，但對(duì)煙氣中的HgG基本沒(méi)有去除作用。因此，HgG的處理已成 為當(dāng)前脫汞技術(shù)中的難點(diǎn)。
將煙氣中的HgG轉(zhuǎn)化為易去除的Hg2+，已被國(guó)內(nèi)外學(xué)者認(rèn)為是治理HgG的 有效途徑，其中借助于適當(dāng)氧化劑氧化HgG的方法最受關(guān)注。目前的研究方向主 要有煙氣自有HC1氧化和外加氧化劑氧化。煙氣自身所含的微量HC1，在適當(dāng)
催化劑的作用下對(duì)HgG有一定的氧化能力，但其最突出的問(wèn)題在于HgG含量高
的煙氣其HC1含量往往很低，在此情況下催化劑難以發(fā)揮作用。因此，低HC1 情況下非常有必要投加外加氧化劑。將溴(Bf2)作為氧化劑負(fù)載在活性炭上，再將 載溴活性炭噴入煙氣中對(duì)HgG進(jìn)行吸附氧化，該法可使HgG的脫除率顯著增加，然而，此方法仍使用活性炭，無(wú)法克服常規(guī)ACI技術(shù)所存在的問(wèn)題；也可將Cl2 或Br2直接噴入煙氣中，利用飛灰的催化作用氧化HgO，此時(shí)Hg。的氧化以飛灰 的催化反應(yīng)為主，對(duì)含塵濃度低的煙氣，該法處理效果并不理想。另外，盡管 HgG在煙氣中含量低，但為了保證氧化速率和效率，需加入較多的氧化劑(約 10ppm)，然而煙氣中的S02與氧化劑間的吸附競(jìng)爭(zhēng)作用較明顯，由此導(dǎo)致大多 氧化劑未被利用(利用率<0.5%)，并隨煙氣流失而浪費(fèi)。此外，煙氣中飛灰自身 的催化活性有限，僅依賴飛灰的催化作用并不理想?；谏鲜龇治觯裟芡ㄟ^(guò)一 定的化學(xué)處理方法，將氣態(tài)零價(jià)汞高效經(jīng)濟(jì)地催化氧化成二價(jià)汞具有十分重要的 現(xiàn)實(shí)意義。
目前己有報(bào)道研究高效脫除Hg^的工作，如申哲民等(催化氧化煙氣脫汞 方法，專利號(hào)200510024939.2)采用固定床反應(yīng)器氧化零價(jià)汞后再通過(guò)吸附法 捕集；申哲民等(煙氣脫汞吸附材料的電化學(xué)再生方法，專利號(hào)200410016868.7) 采用改性的吸附劑吸附零價(jià)汞，吸附劑采用電化學(xué)方法使汞脫附得以再生；小西 德尼'&尼爾遜(用于脫除煙氣中汞的吸附劑及相應(yīng)的脫汞方法，專利號(hào) 03816017.X)，趙毅等(鍋爐煙氣同時(shí)脫硫脫硝脫汞的方法及裝置，專利申請(qǐng)?zhí)?200610102077.5)采用ACI類似的方法直接噴入汞吸附劑。由此可見(jiàn)，現(xiàn)有除汞 技術(shù)普遍采用吸附劑脫汞，而本發(fā)明采用催化氧化結(jié)合WFGD吸收除汞，并且 引入陶瓷膜控制氧化劑的釋放速率，提高其利用率，減少流失。韓旭等(基于兩 級(jí)氧化反應(yīng)的濕法煙氣脫硫脫滎工藝及其系統(tǒng)，專利申請(qǐng)?zhí)?00710052128.2) 采用紫外線和鹵素類氧化劑氧化零價(jià)汞；美國(guó)專利US2003170159 、 WO2006009079等使用部分貴金屬或過(guò)渡金屬氧化物制備汞催化劑并用固定床 反應(yīng)器運(yùn)行，本發(fā)明在陶瓷膜外側(cè)制備催化劑層，其運(yùn)行工藝與現(xiàn)有技術(shù)有顯著 不同點(diǎn)。由此可見(jiàn)，本發(fā)明具有顯著的創(chuàng)新性和實(shí)用性。

發(fā)明內(nèi)容
本發(fā)明的目的在于針對(duì)現(xiàn)有技術(shù)的不足，提出一種多孔陶瓷膜控制釋放氧 化劑催化氧化零價(jià)汞的方法，將HgG轉(zhuǎn)化為易被脫硫或除塵裝置去除的二價(jià)汞或 顆粒汞(氧化后被吸附到顆粒物上)，進(jìn)而利用現(xiàn)有煙氣凈化設(shè)備有效去除。為 提高氧化劑的利用率，采用多孔陶瓷膜對(duì)所用氧化劑進(jìn)行控制釋放，在膜外表面 的催化劑層中進(jìn)行富集活化，并對(duì)擴(kuò)散到催化劑表面的零價(jià)汞進(jìn)行催化氧化，從而使煙氣中的零價(jià)汞轉(zhuǎn)化為易被去除的二價(jià)汞。
本發(fā)明是通過(guò)以下技術(shù)方案實(shí)現(xiàn)的，本發(fā)明將膜控制釋放、氧化劑在催化
劑上富集以及汞催化氧化技術(shù)相結(jié)合，以多孔陶瓷膜為主體，內(nèi)層陶瓷膜控制釋
放氧化劑、外層催化劑層催化零價(jià)汞氧化，構(gòu)建新型膜催化氧化反應(yīng)，在催化劑
層產(chǎn)生的吸附富集作用可顯著提高氧化劑利用率。
本發(fā)明包括如下步驟
1) 利用多孔陶瓷膜作為膜組件主體，多孔陶瓷膜可為管狀或板狀，外表面
為平面或波紋；多孔陶瓷膜的微孔直徑10-1000nm，厚度為0.2-5mm。
所述多孔陶瓷膜由氧化鋁、氧化鋯、氧化硅、氧化鈦中的一種或其混合體 制成。
2) 利用溶液浸漬法、溶膠-凝膠法或共沉法中的一種或一種以上方法在陶瓷 膜的外表面制備催化劑層；
所述催化劑層為活性材料，為貴金屬、過(guò)渡金屬氧化物中的一種或一種以 上。催化活性材料的含量為0.5%-10%。
3) 將若干陶瓷膜單元按行列形式分布置在煙道內(nèi)或?qū)Ｓ醚b置內(nèi)組裝為膜組 件，陶瓷膜外表面催化劑層與煙氣直接接觸；將膜組件安裝于排煙系統(tǒng)中，各單 元的開(kāi)口共用氣態(tài)氧化劑配氣箱。
4) 氣態(tài)氧化劑通過(guò)配氣箱從陶瓷膜內(nèi)側(cè)向外側(cè)催化劑層緩慢地控制釋放； 所述的控制釋放，是指煙氣中零價(jià)汞HgQ擴(kuò)散到催化劑層時(shí)，在催化劑
和氧化劑共同作用下氧化為氣態(tài)Hg^進(jìn)入煙氣；當(dāng)催化劑層對(duì)氧化劑吸附保留 時(shí)，形成了氧化劑富集環(huán)境，使上述過(guò)程連續(xù)穩(wěn)定運(yùn)行。
所述的氧化劑為HC1、 HBr、 Cl2、 B。及BrCl中的一種或一種以上，氧化 劑以氣態(tài)形式進(jìn)入陶瓷膜的內(nèi)腔，其氣相體積濃度為0.001%-10%。
所述的氧化劑通過(guò)陶瓷膜的擴(kuò)散層向外側(cè)的催化劑層擴(kuò)散釋放，并進(jìn)入催 化劑層與催化材料充分接觸。
5) 由于催化劑的活化作用以及氧化劑在催化劑層上的富集作用，將由煙氣 側(cè)擴(kuò)散到催化劑層上的HgG快速氧化；HgG被氧化再以氣態(tài)二價(jià)汞的形式進(jìn)入煙 氣，并被下游的脫硫裝置或除塵裝置去除。
所述的富集作用，其所處理的煙氣量與催化面積之比為10-500 m3/(m2.h)，
6煙氣通過(guò)膜組件的空速為1000-50000 h—1;氧化劑的通過(guò)膜層的釋放速率為 0.1-200mmol/(m2.h)，通過(guò)改變膜孔大小或陶瓷膜內(nèi)外側(cè)的壓差進(jìn)行調(diào)節(jié)，正常 運(yùn)行時(shí)陶瓷膜內(nèi)側(cè)的壓力較外側(cè)的壓力高0-3000Pa。
在上述過(guò)程中，氧化劑的釋放量可通過(guò)陶瓷膜的孔徑以及膜兩側(cè)的壓差來(lái) 改變，達(dá)到減少氧化劑流失和零價(jià)汞高效氧化的目的。在實(shí)際應(yīng)用中，由于煙道 通常在微負(fù)壓下排煙，因此只要保證陶瓷膜內(nèi)為常壓或微正壓即可提供氧化劑的 傳質(zhì)動(dòng)力。此外，煙氣流動(dòng)過(guò)程的湍流程度較強(qiáng)，HgG的氣相傳質(zhì)阻力較小，而 且還可以通過(guò)改善煙氣與陶瓷膜的接觸條件加以強(qiáng)化。此外，催化劑的再生也較 方便(用一定壓力的氣流吹掃)。
根據(jù)煙氣中零價(jià)汞含量的不同，所處理的煙氣量與催化面積(指陶瓷膜外 表面積，以下簡(jiǎn)稱氣膜比)之比為10-500 m3/(m2.h)，煙氣通過(guò)膜組件的空速為 1000-50000 h"。氧化劑的通過(guò)膜層的釋放速率為0.1-200mmol/(m2.h)，通過(guò)改變 膜孔大小或陶瓷膜內(nèi)外側(cè)的壓差進(jìn)行調(diào)節(jié)；陶瓷膜組件的使用溫度80-45(TC。需 要對(duì)外側(cè)的催化劑層進(jìn)行清灰時(shí)，可以暫停氧化劑的供應(yīng)，通過(guò)向配氣箱內(nèi)中鼓 入壓力空氣，即可對(duì)陶瓷膜進(jìn)行逆向清灰，清灰比較徹底。對(duì)于板式組件，也可 采用類似方式。
本發(fā)明具有顯著的技術(shù)優(yōu)勢(shì)如下
1) 以多孔陶瓷膜為主體，使其內(nèi)側(cè)具備氧化劑的控制釋放功能、外側(cè)制備 催化劑層，氧化劑由內(nèi)向外輸送并在催化劑層富集形成催化氧化體系，本發(fā)明通 過(guò)控制釋放方法輸送氧化劑可抑制氧化劑的大量流失，同時(shí)提高氧化效率；
2) 本發(fā)明在催化劑層產(chǎn)生的吸附富集作用是常規(guī)方法難以達(dá)到的，該法可
基本消除氧化劑的傳質(zhì)阻力以及煙氣側(cè)的S02對(duì)氧化劑吸附的影響；常規(guī)方法直
接噴入氧化劑，氧化劑只有從煙氣主體擴(kuò)散并吸附到催化劑上后才能發(fā)揮作用，
這一過(guò)程需克服一定氣相傳質(zhì)阻力，并且S02存在競(jìng)爭(zhēng)吸附問(wèn)題。


圖1為多孔陶瓷膜控制釋放氧化劑催化氧化零價(jià)汞的原理示意圖。 如圖1所示，l為膜內(nèi)腔，2為陶瓷膜擴(kuò)散層，3為催化劑層，X⑧為氣態(tài)氧
化劑，X^為吸附態(tài)氧化劑。
具體實(shí)施例方式
以下結(jié)合附圖對(duì)本發(fā)明的實(shí)施例作詳細(xì)說(shuō)明本實(shí)施例在以本發(fā)明技術(shù)方案為前提下進(jìn)行實(shí)施，給出了詳細(xì)的實(shí)施方式和過(guò)程，但本發(fā)明的保護(hù)范圍不限 于下述的實(shí)施例。 實(shí)施例1
選用微孔直徑為lOOnm的Y-A1203陶瓷膜管作為膜組件主體，即圖1所示的 陶瓷膜擴(kuò)散層(2)，陶瓷膜管外徑為15mm，外表面呈平面狀；利用溶液浸漬法 在陶瓷膜管的外表面制備一層圖1所示的催化劑層(3)，催化劑層選用錳氧化物， 錳負(fù)載量的質(zhì)量分?jǐn)?shù)為1.2%;將1根這樣的陶瓷膜管置于內(nèi)徑20mm的玻璃管 中制成單根管式結(jié)構(gòu)的膜組件；圖l所示氧化劑(X(g))選用HC1，并由陶瓷管 頂部引入、從膜內(nèi)腔(1)向管外催化劑層(3)擴(kuò)散釋放，并在管外催化劑層(3) 上吸附富集形成吸附態(tài)氧化劑(X(a)); HC1透過(guò)陶瓷膜的擴(kuò)散通量為 7.0mmol/(m2'h)，擴(kuò)散到煙氣中的HC1濃度為6ppm。
玻璃管和陶瓷管之間的空腔作為含汞煙氣的通道，通入零價(jià)汞濃度為 48pg/m3、氣量為200L/h、溫度為15(TC的含汞煙氣，煙氣中氣態(tài)零價(jià)汞(HgQ) 和陶瓷管外側(cè)的催化劑層進(jìn)行接觸，并發(fā)生催化氧化反應(yīng)使其氧化為二價(jià)汞 (Hg2+)并進(jìn)入煙氣。
采用在線測(cè)汞儀測(cè)量膜組件出口的零價(jià)汞濃度，平均值為4.2pg/m3。催化 氧化效率高于90%。
在同等條件下，采用錳氧化物負(fù)載量相同的活性氧化鋁小球的固定床反應(yīng) 器，向煙氣中直接通入20ppm HC1作為氧化劑，零價(jià)汞的催化氧化效率在 85~90%?？梢?jiàn)，該裝置可明顯提高氧化劑利用率和零價(jià)汞的氧化效率。
實(shí)施例2
采用實(shí)施例1中所用負(fù)載1.2%錳氧化物的Y-A1203陶瓷膜管作為膜組件主 體，即圖1所示的陶瓷膜擴(kuò)散層(2)，利用5根這種陶瓷管制成管式陶瓷膜組件 反應(yīng)器；氧化劑(X(g))選用Cl2， Cl2由陶瓷管頂部通入、并由膜內(nèi)腔(1)透過(guò) 陶瓷膜擴(kuò)散層(2)向催化劑層(3)擴(kuò)散釋放，使其在膜管外表面的催化劑層上 富集，Cb透過(guò)陶瓷膜的擴(kuò)散通量為1.0mmol/(m2.h)，擴(kuò)散到煙氣中的Cb濃度為 0.8ppm。
向反應(yīng)器中通入零價(jià)汞濃度為126pg/m3、氣量為200L/h、溫度為25(TC的 含汞煙氣，煙氣中其他組分SCb為500ppm， NO為50ppm， N 為80%， (302為 11%， 02為7%，水蒸氣為2%。煙氣中氣態(tài)零價(jià)汞和陶瓷管外側(cè)催化氧化層進(jìn)行接觸，并發(fā)生催化氧化反應(yīng)。
采用在線測(cè)汞儀對(duì)反應(yīng)器出口的零價(jià)汞進(jìn)行測(cè)定，平均值為13.8pg/m3。催 化氧化效率高于85%。在該系統(tǒng)中，陶瓷膜系統(tǒng)具有較好的抗硫性能，即控制釋 放的輸送方式可有效抑制S02的競(jìng)爭(zhēng)吸附作用。在SO2為500ppm的氣氛下，本 發(fā)明對(duì)零價(jià)汞仍具有很好的催化氧化能力。
實(shí)施例3
選用微孔直徑為200nm的？A1203陶瓷平板作為膜組件主體，陶瓷平板長(zhǎng) 400mm、寬150mm、厚16mm;利用溶液浸漬法在陶瓷膜的外表面制備一層負(fù) 載量為1.5%的鈷氧化物作為催化活性材料，并且以鈷的質(zhì)量為基準(zhǔn)摻雜1%的金 屬鉬。
利用4片上述陶瓷板管制成板式陶瓷膜組件反應(yīng)器，板之間的間距8mm; 選用氯化溴(BrCl)作為氧化劑，BrCl由陶瓷板內(nèi)通入、并向板外側(cè)催化劑層 擴(kuò)散釋放，使其在板外表面的催化劑層上富集，Cl2透過(guò)陶瓷膜的擴(kuò)散通量為 1.0mmol/(m2'h)，擴(kuò)散到煙氣中的BrCl濃度為0.8ppm。
向板式陶瓷膜組件反應(yīng)器反應(yīng)器通入零價(jià)汞濃度為77|Lig/m3、氣量為 150L/h、溫度為16(TC的含汞煙氣，煙氣中其他組分含量S02為1000ppm， NO 為150ppm。煙氣中氣態(tài)零價(jià)汞和陶瓷管外層的催化氧化層進(jìn)行接觸，并發(fā)生催 化氧化反應(yīng)。
零價(jià)汞采用在線測(cè)汞儀進(jìn)行測(cè)定。經(jīng)過(guò)陶瓷膜剩余的氣態(tài)零價(jià)汞的濃度約 為7.9pg/m3。催化氧化效率平均為89.7%。在該系統(tǒng)中，摻雜了金屬鎢的催化劑， 對(duì)煙氣中的1000ppmSO2有很好的抵抗能力。
權(quán)利要求
1、一種多孔陶瓷膜控制釋放氧化劑催化氧化零價(jià)汞的方法，其特征在于，包括如下步驟1)利用多孔陶瓷膜作為膜組件主體，多孔陶瓷膜為管狀或板狀，外表面為平面或波紋；2)利用溶液浸漬法、溶膠-凝膠法或共沉法中的一種或一種以上方法在陶瓷膜的外表面制備催化劑層；3)將若干陶瓷膜單元按行列形式分布置在煙道或裝置內(nèi)組裝膜組件，陶瓷膜外表面催化劑層與煙氣直接接觸；4)氣態(tài)氧化劑通過(guò)配氣箱從陶瓷膜內(nèi)側(cè)向外側(cè)催化劑層緩慢地控制釋放；5)由于催化劑的活化作用以及氧化劑在催化劑層上的富集作用，將由煙氣側(cè)擴(kuò)散到催化劑層上的Hg0快速氧化；Hg0被氧化再以氣態(tài)二價(jià)汞的形式進(jìn)入煙氣，并被下游的脫硫裝置或除塵裝置去除。
2、 根據(jù)權(quán)利要求1所述的多孔陶瓷膜控制釋放氧化劑催化氧化零價(jià)汞的方法，其特征是所述的多孔陶瓷膜由氧化鋁、氧化鋯、氧化硅、氧化鈦中的一種或其混合體制成；其微觀呈微孔結(jié)構(gòu)，微孔直徑10-1000nm;陶瓷膜的厚度為0. 2-5鵬。
3、 根據(jù)權(quán)利要求1所述的多孔陶瓷膜控制釋放氧化劑催化氧化零價(jià)汞的方法，其特征是所述的催化劑層為活性材料，為貴金屬、過(guò)渡金屬氧化物中的一種或一種以上，催化活性材料的含量為0.5%-10%。
4、 根據(jù)權(quán)利要求1所述的多孔陶瓷膜控制釋放氧化劑催化氧化零價(jià)汞的方法，其特征是所述的氧化劑為HC1、 HBr、 Cl2、 Br2及BrCl中的一種或一種以上，氧化劑以氣態(tài)形式進(jìn)入陶瓷膜的內(nèi)腔，其氣相體積濃度為0. 001%-10%。
5、 根據(jù)權(quán)利要求1所述的多孔陶瓷膜控制釋放氧化劑催化氧化零價(jià)汞的方法，其特征是所述的氧化劑通過(guò)陶瓷膜的擴(kuò)散層向外側(cè)的催化劑層擴(kuò)散釋放，并進(jìn)入催化劑層與催化材料充分接觸。
6、 根據(jù)權(quán)利要求1所述的多孔陶瓷膜控制釋放氧化劑催化氧化零價(jià)汞的方法，其特征是所述的單元，各單元的開(kāi)口共用氣態(tài)氧化劑配氣箱。
7、 根據(jù)權(quán)利要求1所述的多孔陶瓷膜控制釋放氧化劑催化氧化零價(jià)汞的方法，其特征是所述的控制釋放是指煙氣中零價(jià)汞HgO擴(kuò)散到催化劑層時(shí)，在催化劑和氧化劑共同作用下氧化為氣態(tài)Hg2+進(jìn)入煙氣；當(dāng)催化劑層對(duì)氧化劑吸附保留時(shí)，形成了氧化劑富集環(huán)境，使上述過(guò)程連續(xù)穩(wěn)定運(yùn)行。
8、 根據(jù)權(quán)利要求1所述的多孔陶瓷膜控制釋放氧化劑催化氧化零價(jià)汞的方法，其特征是所述的富集作用，其所處理的煙氣量與催化面積之比為10-500m7(m2.h)，煙氣通過(guò)膜組件的空速為1000-50000 h—、氧化劑的通過(guò)膜層的釋放速率為0. l-200mmOl/(m2.h)，通過(guò)改變膜孔大小或陶瓷膜內(nèi)外側(cè)的壓差進(jìn)行調(diào)節(jié)，正常運(yùn)行時(shí)陶瓷膜內(nèi)側(cè)的壓力較外側(cè)的壓力高0-3000Pa。
全文摘要
本發(fā)明涉及一種環(huán)境及化工技術(shù)領(lǐng)域的多孔陶瓷膜控制釋放氧化劑催化氧化零價(jià)汞的方法，本發(fā)明利用多孔陶瓷膜作為膜組件主體，其形狀為管狀或板狀，外表面為平面或波紋；利用溶液浸漬法、溶膠-凝膠法或共沉法中的一種或一種以上方法在陶瓷膜的外表面制備催化劑層；將若干陶瓷膜單元按行列形式分布置在煙道或裝置內(nèi)組裝膜組件，陶瓷膜外表面催化劑層與煙氣直接接觸；氣態(tài)氧化劑通過(guò)配氣箱從陶瓷膜內(nèi)側(cè)向外側(cè)催化劑層緩慢地控制釋放；催化劑的活化作用以及氧化劑在催化劑層上的富集作用使零價(jià)汞高效氧化，并被下游的脫硫裝置或除塵裝置去除。本發(fā)明在不增加主要設(shè)備的情況下，實(shí)現(xiàn)煙氣中零價(jià)汞的催化氧化，并可控制和節(jié)約氧化劑用量，降低成本低。
文檔編號(hào)B01D53/86GK101590370SQ20091005288
公開(kāi)日2009年12月2日 申請(qǐng)日期2009年6月11日 優(yōu)先權(quán)日2009年6月11日
發(fā)明者喬少華, 晏乃強(qiáng), 贊 瞿, 郭永福 申請(qǐng)人:上海交通大學(xué)