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具有用于在蒸汽流中獲得渦流的渦流生成元件的蒸汽熨燙設(shè)備的制作方法

文檔序號:5019933閱讀:117來源:國知局
專利名稱:具有用于在蒸汽流中獲得渦流的渦流生成元件的蒸汽熨燙設(shè)備的制作方法
技術(shù)領(lǐng)域
本發(fā)明涉及用于蒸汽用具,特別是蒸汽熨斗中的蒸汽調(diào)節(jié)設(shè)備,蒸汽調(diào)節(jié)設(shè)備包括至少一個蒸汽出口和用于將蒸汽流沿蒸汽流路徑向該至少一個蒸汽出口引導的引導裝置。
一般地,蒸汽熨斗用于熨燙布料對象,例如服裝或窗簾,以從對象上去除褶皺。其中應用蒸汽熨斗的熨燙過程涉及提供蒸汽到這些對象以潤濕這些對象,因為當對象在被潤濕條件下時看似有助于從對象移除褶皺的過程。
在許多情況下,蒸汽熨斗不僅能提供蒸汽到待熨燙的對象,如希望也在對象上噴射水。為此目的,蒸汽熨斗提供有位于蒸汽熨斗前側(cè)的噴射噴嘴和手動/電動操作的水泵。當促動水泵時,通過噴射噴嘴釋放水滴,以此在蒸汽熨斗前方的區(qū)域被潤濕。
與包括水泵和噴射噴嘴的蒸汽熨斗相關(guān)的問題是對于使用者難以預知水滴將落在待熨燙對象上的準確區(qū)域。因此,經(jīng)常發(fā)生待熨燙對象上不需要潤濕的區(qū)域違背使用者的意圖而也被潤濕。另外,釋放的水滴的尺寸經(jīng)常過大,使得水滴不能穿透對象的纖維。因此,為獲得對象的足夠的潤濕度,對象經(jīng)常被噴射以量過大的水。
合并在許多蒸汽熨斗中的另一個選擇涉及向待熨燙對象發(fā)射一股蒸汽以潤濕對象,潤濕的方式與通過水滴潤濕對象是可比較的。當促動蒸汽熨斗以發(fā)射一股蒸汽時,一定量的水被泵到被加熱的蒸汽室內(nèi),其中大多數(shù)水被迅速地汽化為蒸汽,于是迫使蒸汽以相對高速流出蒸汽室。通常地,除蒸汽外,當實際發(fā)射一股蒸汽時少量剩余的水也被攜帶出。在許多情況下,剩余的水的水滴相對地大,因此釋放剩余的水被認為蒸汽熨斗的滴水。另一個缺點是蒸汽熨斗的可操縱性受到限制,因為每次發(fā)射一股蒸汽時蒸汽熨斗需要保持靜止。
本發(fā)明提出了用于蒸汽熨斗的蒸汽調(diào)節(jié)設(shè)備,該設(shè)備能使蒸汽處于預先確定的條件且提供調(diào)節(jié)的蒸汽,例如所謂的霧蒸汽,即蒸汽和細小水滴的均一的混合物。當待熨燙的對象受到霧蒸汽的處理時,這些對象以非常方便的方式被潤濕。另外,上述的與在對象上噴射水且發(fā)射一股蒸汽相關(guān)的缺點在使用霧蒸汽時不發(fā)生。
特別地,根據(jù)本發(fā)明的蒸汽調(diào)節(jié)設(shè)備包括-至少一個蒸汽出口;-用于將蒸汽流沿蒸汽流路徑向該至少一個蒸汽出口引導的引導裝置;和-沿蒸汽流路徑布置的渦流生成裝置,且該裝置適合于在蒸汽流中制造局部壓力差異,以在蒸汽流中獲得渦流。
在操作期間,根據(jù)本發(fā)明的蒸汽調(diào)節(jié)設(shè)備可以提供有水或例如蒸汽和水滴的混合物。優(yōu)選地,蒸汽調(diào)節(jié)設(shè)備包括用于加熱它的內(nèi)含物的加熱裝置,以使內(nèi)含物處于希望的條件和/或保持在希望的條件,特別是以獲得和/或維持根據(jù)預先確定的混合比的蒸汽和水滴的混合物。
此外,在根據(jù)本發(fā)明的蒸汽調(diào)節(jié)設(shè)備操作期間,蒸汽和水的混合物受迫流向至少一個蒸汽出口。在實際的實施例中,蒸汽調(diào)節(jié)設(shè)備提供有多個蒸汽出口。為清晰起見,在蒸汽調(diào)節(jié)設(shè)備操作期間存在其內(nèi)部的流不論水的量與蒸汽的量的比例如何都被稱為蒸汽流。其中沒有液化條件的水存在的純蒸汽流也被稱為蒸汽流。注意純蒸汽也稱為干蒸汽。
為沿蒸汽流路徑將蒸汽流向至少一個蒸汽出口引導的目的,根據(jù)本發(fā)明的蒸汽調(diào)節(jié)設(shè)備包括引導裝置,例如其成形為類似于管道陣列或通道。此外,根據(jù)本發(fā)明的重要方面,蒸汽調(diào)節(jié)設(shè)備包括渦流生成元件,它沿蒸汽流路徑布置。渦流生成元件的布置和形狀選擇為使得在蒸汽流遇到渦流生成元件的位置在蒸汽流中生成渦流,其原因是在這些位置在蒸汽流中產(chǎn)生了壓力差異。例如,渦流生成元件可以成形為類似擋板或其他蒸汽流阻礙構(gòu)件,或類似于沿蒸汽流路徑定位的穴(pocket)。
渦流的生成對獲得均一的蒸汽和細小水微粒的混合物有貢獻。實際上,在生成于蒸汽流中的每個渦流的位置處發(fā)生了局部的混合過程。此外,存在渦流中的水滴被分解為更小的微粒尺寸。以此方式,根據(jù)本發(fā)明,可以獲得包括相對地小的水微粒的非常細小的霧,即具有尺寸在20微米到60微米范圍內(nèi)的水微粒。當布料對象受到這樣的霧作用時它被以方便的方式潤濕,其中獲得的潤濕條件對于熨燙該對象的目的是最佳的。注意到在美國專利US4,594,800中披露了具有蒸汽管道系統(tǒng)的蒸汽熨斗,該蒸汽管道系統(tǒng)成形為使得在蒸汽熨斗操作期間,蒸汽被限制沿渦流流動路徑流動,其中存在蒸汽中的較重的水滴被離心力作用甩向外,而較輕的蒸汽能在渦流中心處逸出。以此方式,實現(xiàn)了對蒸汽所攜帶的水滴的較好消除。
如美國專利US4,594,800中披露的蒸汽熨斗不包括本發(fā)明意義上的渦流生成裝置,即沿蒸汽流路徑布置且適合于在蒸汽流中制造局部壓力差異以在蒸汽流中獲得渦流的渦流生成裝置。作為替代,蒸汽熨斗包括渦流通道,用于迫使整個蒸汽流實現(xiàn)渦流移動,其中沒有用于在蒸汽流中制造局部壓力差異的措施。
在從美國專利US4,594,800中已知的蒸汽熨斗中,因為蒸汽流作為整體的渦流移動,蒸汽和水被分離。相反地,本發(fā)明意在盡可能地混合蒸汽和水。
將參考附圖對本發(fā)明進行更詳細的解釋,其中相似部件以相同的參考符號表示,各圖為

圖1概略地示出了包括根據(jù)本發(fā)明的蒸汽調(diào)節(jié)設(shè)備的蒸汽熨斗;圖2概略地示出了包括根據(jù)本發(fā)明的蒸汽調(diào)節(jié)設(shè)備的另一個蒸汽熨斗;圖3概略地示出了流引導管道的第一優(yōu)選實施例的縱截面,該流引導管道是根據(jù)本發(fā)明的蒸汽調(diào)節(jié)設(shè)備的部分;圖4概略地示出了流引導管道的第二優(yōu)選實施例的縱截面,該流引導管道是根據(jù)本發(fā)明的蒸汽調(diào)節(jié)設(shè)備的部分;圖5概略地示出了流引導管道的第三優(yōu)選實施例的縱截面,該流引導管道是根據(jù)本發(fā)明的蒸汽調(diào)節(jié)設(shè)備的部分;圖6概略地示出了流引導管道的部分的第一優(yōu)選總體形狀,該流引導管道是根據(jù)本發(fā)明的蒸汽調(diào)節(jié)設(shè)備的部分;圖7概略地示出了流引導管道的部分的第二優(yōu)選總體形狀,該流引導管道是根據(jù)本發(fā)明的蒸汽調(diào)節(jié)設(shè)備的部分;圖8概略地示出了流引導管道的部分的第三優(yōu)選總體形狀,該流引導管道是根據(jù)本發(fā)明的蒸汽調(diào)節(jié)設(shè)備的部分;圖9概略地示出了根據(jù)本發(fā)明的蒸汽調(diào)節(jié)設(shè)備的靠近所述的蒸汽調(diào)節(jié)設(shè)備的蒸汽出口的部分的縱截面;圖10概略地示出了在圖9中所示的蒸汽調(diào)節(jié)設(shè)備的部分的橫截面;
圖11概略地示出了圍繞根據(jù)本發(fā)明的蒸汽調(diào)節(jié)設(shè)備的蒸汽出口的區(qū)的頂視圖和釋放的蒸汽的流動方向;和圖12也概略地示出了圍繞根據(jù)本發(fā)明的蒸汽調(diào)節(jié)設(shè)備的蒸汽出口的區(qū)的頂視圖和釋放的蒸汽的流動方向。
圖1概略地示出了蒸汽熨斗1,它包括用于容納蒸汽熨斗1的不同部件的殼體10。蒸汽熨斗1的一些部件在圖1中概略地描繪,且將在如下討論。
蒸汽熨斗1在底側(cè)包括具有用于接觸待熨燙的對象的底板表面16的底板15。
蒸汽熨斗1包括常規(guī)的蒸汽室20和用于包含水且在蒸汽熨斗1的操作期間將水提供給蒸汽室20的水箱25。為使在蒸汽室20內(nèi)生成的蒸汽導出的目的,蒸汽出口21布置在底板15上。
此外,蒸汽熨斗1包括根據(jù)本發(fā)明的蒸汽調(diào)節(jié)設(shè)備30。在示出的配置中,蒸汽調(diào)節(jié)設(shè)備形成了底板15的部分,而它定位在蒸汽熨斗1的前側(cè)。
蒸汽調(diào)節(jié)設(shè)備30通過通道26和水泵27連接到水箱25,水泵27優(yōu)選地為電動的。在蒸汽調(diào)節(jié)設(shè)備30操作期間水泵27被啟動且水被提供到蒸汽調(diào)節(jié)設(shè)備30。為將水轉(zhuǎn)化為蒸汽的目的,蒸汽調(diào)節(jié)設(shè)備30包括加熱裝置40,加熱裝置40優(yōu)選地為電氣驅(qū)動的。優(yōu)選地,加熱裝置40包括平的電阻性加熱道。此外,蒸汽調(diào)節(jié)設(shè)備30包括用于釋放所生成的蒸汽的蒸汽出口33。
用于加熱蒸汽調(diào)節(jié)設(shè)備30的內(nèi)含物的加熱裝置40在防止蒸汽調(diào)節(jié)設(shè)備30滴落水滴上起到了重要作用。沒有加熱裝置40則包括蒸汽調(diào)節(jié)設(shè)備30的熨斗1的長期應用很可能導致在蒸汽調(diào)節(jié)設(shè)備30內(nèi)的熱損失。此熱損失可能導致蒸汽調(diào)節(jié)設(shè)備30的內(nèi)含物的凝結(jié),且凝結(jié)導致滴落水滴。在應用加熱裝置40的情況下,可能將蒸汽調(diào)節(jié)設(shè)備保持30內(nèi)的溫度保持為足夠高的程度。
根據(jù)本發(fā)明的重要方面,裝備蒸汽調(diào)節(jié)設(shè)備30為用于在操作期間存在的蒸汽流內(nèi)生成渦流,且將蒸汽流引導向蒸汽出口33。
在所示出的實施例中,根據(jù)本發(fā)明的蒸汽調(diào)節(jié)設(shè)備30包括兩個渦流室31、32。在兩個渦流室31、32內(nèi)存在結(jié)構(gòu)布置,它在蒸汽流中生成渦流中起到了作用。根據(jù)本發(fā)明,結(jié)構(gòu)布置成形為使得這些布置能在蒸汽流中制造局部壓力差異,基于此局部壓力差異獲得了希望的渦流。
在第一渦流室31,即具有用于從水箱25導入水的入口34的渦流室31內(nèi),提供了意圖于在大體上水平平面內(nèi),即在大體上平行于底板表面16的平面內(nèi)制造渦流的結(jié)構(gòu)布置。結(jié)構(gòu)布置的例子在圖3-圖5中示出。
根據(jù)在圖3中所示的第一例子,蒸汽流被引導通過具有管道部分51的管道50,管道部分51彼此不建立連續(xù)性,但是作為替代它們以交錯的方式互相連接。以此方式,在當蒸汽流通過時生成渦流的位置,每個管道部分51的兩端52用作死端或用作一種類型的穴。根據(jù)在圖4中所示的第二例子,蒸汽流被引導通過管道50,其中布置有擋板53。擋板53從管道50的壁延伸到蒸汽流路徑內(nèi)。在示出的例子中,擋板53布置為交替的方式,使得蒸汽流必須圍繞擋板53進行好像障礙移動。在每個擋板53的兩側(cè),當蒸汽流通過時生成了渦流。根據(jù)在圖5中示出的第三例子,蒸汽流被引導通過導管50,其中布置了U形通道區(qū)段54。U形通道區(qū)段54布置為在蒸汽流的中心延伸且逆著蒸汽流的方向開口。在每個U形通道區(qū)段54內(nèi)部,當蒸汽流通過時生成渦流。
在圖3-圖5中,為清晰起見,蒸汽流通過箭頭SF概略地描繪出,而渦流通過螺旋V概略地描繪出。
管道50和管道部分51的端52、擋板53或U形通道區(qū)段54定位且成形為使得渦流V在大體上水平的平面內(nèi)生成。為此,管道50的中心軸線在大體上水平的平面內(nèi)延伸,且在擋板53或通道區(qū)段54布置在管道50內(nèi)的情況下,擋板53或通道區(qū)段54在大體上垂直的方向延伸。
將理解到用于引導蒸汽流SF通過第一渦流室31的管道50可以具有不同的總體形狀。此形狀的三個例子在圖6-圖8中示出。根據(jù)在圖6中示出的第一例子,管道50作為單圈而布置在第一渦流室31內(nèi)。根據(jù)第二例子,管道50作為雙圈而布置在第一渦流室31內(nèi)。最后,根據(jù)第三例子,管道50作為螺旋圈布置在第二渦流室31內(nèi)。
在第二渦流室32內(nèi),提供了意圖于在垂直平面內(nèi),即在大體上垂直于底板表面16的平面內(nèi)制造渦流V的結(jié)構(gòu)布置。圖9和圖10示出了第二渦流室32提供有部分35,它相對于底板表面16凸起。每個凸起的部分35具有傾斜的壁且包括四個蒸汽出口33。第一渦流室31和第二渦流室32通過通道36互相連接,其中每個通道36定位在凸起的部分35的正上方。以此方式,實現(xiàn)了通過通道36提供到第二渦流室32內(nèi)的蒸汽在其一進入到第二渦流室32內(nèi)時就與凸起的部分35的頂碰撞,沿凸起的部分35的傾斜的壁流動,且隨后在凸起的部分35的不同側(cè)在大體上垂直的平面內(nèi)形成渦流V。
在凸起的部分35內(nèi)的蒸汽出口33的相互位置確定了剛好在第二渦流室32外部的蒸汽流SF的特征。圖11和圖12概略地示出了一個凸起的部分35的四個蒸汽出口33的相互位置與蒸汽流SF從第二渦流室32通過蒸汽出口33排出的方向的關(guān)系的例子。在圖中,這些方向以箭頭SF概略地指示出。
在圖11所示出的例子中,蒸汽出口33定位為使得所有釋放的蒸汽流SF被向蒸汽出口33的虛擬中心引導,以獲得蒸汽流SF的碰撞。
在圖12所示的例子中,蒸汽出口33定位為使得相鄰的釋放的蒸汽流SF發(fā)生側(cè)向碰撞,其結(jié)果是在凸起的部分35和底板表面16的水平之間存在的空間內(nèi)生成渦流。
圖2概略地示出了蒸汽熨斗2,它很大程度上類似于在圖1中所示出的蒸汽熨斗1。在蒸汽熨斗1和2之間的主要差異是在圖2中所示的蒸汽熨斗2中,蒸汽調(diào)節(jié)設(shè)備30布置且成形為形成底板15。
根據(jù)本發(fā)明的蒸汽調(diào)節(jié)設(shè)備30的重要優(yōu)點是它能產(chǎn)生霧蒸汽。此類蒸汽的應用在熨燙過程中形成了很大的幫助,因為它具有明顯的去褶皺的效果。
當水提供到第一渦流室31時,通過加熱元件40將它加熱。優(yōu)選地,蒸汽熨斗1、2包括控制裝置(未示出),一方面用于精確地控制提供的水的量且另一方面用于控制第一渦流室31內(nèi)的條件。在希望產(chǎn)生霧蒸汽的情況下,控制裝置控制了水的提供和加熱元件40,其控制方式使得獲得了根據(jù)預先確定的混合比的蒸汽和水的混合物。當混合物流過第一渦流室31時,在結(jié)構(gòu)布置的影響下生成了渦流V,結(jié)構(gòu)布置為此目的沿蒸汽流SF行進的路徑提供,結(jié)構(gòu)布置例如為死端52、擋板53或U形通道區(qū)段54,這已在上文中披露。渦流V的生成是在蒸汽流路徑中占優(yōu)的相對地高的壓力和在死端52、擋板53或U形通道區(qū)段54處占優(yōu)的相對地低的壓力之間的差異的結(jié)果。在渦流V中,蒸汽和水滴混合且水滴被分解為更小的小水滴。這些過程在第二渦流室32內(nèi)繼續(xù)。以此方式獲得了蒸汽和細小水滴的均一的混合物。當混合物通過蒸汽出口33排出第二渦流室32時,獲得了霧蒸汽云。
將理解的是蒸汽出口33的個數(shù)適合于生成此霧蒸汽云的任務,且此個數(shù)因此應不小于某一最小值。在凸起的部分35內(nèi)的蒸汽出口33相互地定位為在圖11中所圖示的方式的情況下,在凸起的部分35和底板表面16的水平之間存在的空間內(nèi),釋放的蒸汽流SF相互碰撞,使得小水滴進一步被分解。在凸起的部分35內(nèi)的蒸汽出口33相互地定位為在圖12中所圖示的方式的情況下,在凸起的部分35和底板表面16的水平之間存在的空間內(nèi)生成了渦流,使得蒸汽和小水滴發(fā)生進一步的混合過程。
控制裝置應用于確定霧蒸汽的濕度,換言之,霧蒸汽中的水含量,因為濕度一方面與通過加熱裝置40所提供的溫暖或熱的量有關(guān),且另一方面與提供的水的量有關(guān)。因此通過控制提供到加熱裝置40的電功率和水的流速,可將霧蒸汽的濕度置于希望的程度。以此方式,可以隨時間改變霧蒸汽的濕度。希望的濕度改變可以僅通過隨時間改變所提供的水的量,或僅通過改變提供到加熱裝置40的電功率而簡單地實現(xiàn)。然而,也可以隨時間改變提供的水的量和提供到加熱裝置40的電功率二者。
根據(jù)本發(fā)明的蒸汽調(diào)節(jié)設(shè)備30的另一個重要的優(yōu)點是它能產(chǎn)生干蒸汽。此類蒸汽的應用在某些熨燙過程期間形成了很大的幫助,特別是其中允許相對高的溫度的熨燙過程中。干蒸汽可以應用于干燥被處理的對象。
當水提供到第一渦流室31內(nèi)時,通過加熱裝置40將它加熱以產(chǎn)生蒸汽。給定某一溫度范圍,實際上不可能汽化所有的水。當蒸汽和水滴混合物被引導向通過渦流室31、32且生成了渦流V時,水滴被分解為更小的小水滴。因為更小的小水滴更容易汽化,可以最后獲得干蒸汽。
在水箱25和提供在第一渦流室31內(nèi)以導入水的入口34之間的位置,可以布置水預處理裝置,以至少部分地防止在蒸汽流路徑中水垢的形成。這些裝置的精確的位置不是本質(zhì)的;水預處理裝置可以布置在水泵27和入口34之間的位置,但是也可以布置在水泵27和水箱25之間的位置。
優(yōu)選地,在包括根據(jù)本發(fā)明的蒸汽調(diào)節(jié)設(shè)備30的蒸汽熨斗1、2中,布置了兩個分開地可控的加熱裝置,一個用于加熱蒸汽調(diào)節(jié)設(shè)備30的內(nèi)含物,且另一個用于加熱蒸汽熨燙1、2的底板15。僅在兩個加熱裝置獨立可控的情況下,可以獲得最佳的功率管理。在優(yōu)選的實施例中,提供了單個的控制裝置,其中一個控制裝置與蒸汽調(diào)節(jié)設(shè)備30的加熱裝置40有關(guān),而其中另一個控制裝置與底板15的加熱裝置有關(guān)。
使用具有兩個獨立地可控的加熱裝置在以下的例子中闡述。在其中底板15的溫度高于預先確定的上限的情況下,與底板15的加熱裝置相關(guān)的控制裝置受到控制使得停止到這些加熱裝置的功率供給。然而,同時霧蒸汽的供給可能是要求的。為避免在此情況下的可能導致底板15過熱或供給的蒸汽質(zhì)量差的沖突,重要的是蒸汽調(diào)節(jié)設(shè)備30的加熱裝置40和底板15的加熱裝置獨立地受控。
對于本領(lǐng)域技術(shù)人員將清楚的是本發(fā)明的范圍不限于在上文中所討論的例子,本發(fā)明的數(shù)個修正和修改可以不偏離本發(fā)明在附帶的權(quán)利要求書中限定的范圍。
本發(fā)明的重要方面是渦流生成裝置沿蒸汽流SF通過蒸汽調(diào)節(jié)設(shè)備30行進的路徑布置,該渦流生成裝置適合于在蒸汽流SF中生成局部壓力差異,以在蒸汽流SF中獲得渦流V。在上述的例子中,示出了五個結(jié)構(gòu)布置,更特定地為包括一系列以交錯的方式互相連接的管道部分51的布置,包括一系列布置為中斷蒸汽流SF的擋板53的布置,包括一系列布置為中斷蒸汽流SF的逆著蒸汽流SF的方向開口的U形通道區(qū)段54的布置,包括凸起的部分35的傾斜壁的布置和蒸汽出口33在所述的凸起的部分35中的一定的模式,這些布置將只被認為是許多可構(gòu)想的渦流生成裝置的實施例中的五個。
基于前段,將清楚的是與所示出的蒸汽調(diào)節(jié)設(shè)備30的實施例有關(guān)的多個詳細的描述不是本質(zhì)的。例如,蒸汽調(diào)節(jié)設(shè)備30包括兩個渦流室31、32不是本質(zhì)的。當存在至少一個用于容納渦流生成裝置的渦流室31、32時,蒸汽調(diào)節(jié)設(shè)備能執(zhí)行其功能。此外,其中生成渦流V的平面的取向不是本質(zhì)的;渦流V不必在大體上水平平面和大體上垂直平面二者內(nèi)形成。在渦流V在大體上水平平面和大體上垂直平面二者內(nèi)生成的情況下,為渦流V首先賦予哪個取向而最后賦予哪個取向是無關(guān)緊要的。
在管道50應用于在蒸汽調(diào)節(jié)設(shè)備30內(nèi)引導蒸汽流SF的情況下,管道50的總體形狀可以自由地選擇。
蒸汽調(diào)節(jié)設(shè)備30的至少一個渦流室31、32可以以任何合適的方式設(shè)計。例如,可以在渦流室31、32內(nèi)容納管道50的陣列。在另一個實施例中,渦流室31、32包括用于將蒸汽流SF向蒸汽調(diào)節(jié)設(shè)備30的蒸汽出口33引導的通道。在蒸汽調(diào)節(jié)設(shè)備30包括兩個渦流室31、32的情況下,兩個渦流室31、32優(yōu)選地連通。
蒸汽出口布置在凸起的部分35處不是必須的。蒸汽出口33甚至可以布置在蒸汽調(diào)節(jié)設(shè)備30的完全地平的底表面內(nèi)。在蒸汽出口33布置在凸起的部分35內(nèi)的情況下,每個凸起的部分35的蒸汽出口33的個數(shù)不是必須地為四個。凸起的部分35可以為蒸汽調(diào)節(jié)設(shè)備30的部分,但也可以為底板15的部分。
在操作期間,可以為蒸汽調(diào)節(jié)設(shè)備30提供水,需要通過加熱裝置40將水加熱以獲得蒸汽。然而,蒸汽調(diào)節(jié)設(shè)備30例如連接到用于提供蒸汽和水滴的混合物的蒸發(fā)器也是可以的。在此情況下,通過控制裝置以獲得預先確定的混合物比的方式來控制蒸汽調(diào)節(jié)設(shè)備30內(nèi)的條件。
將理解的是在本發(fā)明的范圍內(nèi),一個管道50可以提供不同類型的渦流生成裝置。例如管道50可以成形為類似在圖3中所示出的管道50,包括以交錯的方式互相連接的管道部分51,且也提供有擋板53和/或U形通道區(qū)段54。
根據(jù)本發(fā)明的蒸汽調(diào)節(jié)設(shè)備30可以應用于不同類型的熨斗和蒸汽熨燙設(shè)備中,例如在冷水系統(tǒng)、蒸發(fā)器系統(tǒng)或具有發(fā)蒸汽功能的熨燙板中。此外,蒸汽調(diào)節(jié)設(shè)備30也例如應用于面部蒸汽器中。
在前文中已披露了蒸汽熨斗1、2,它包括具有兩個渦流室31、32的蒸汽調(diào)節(jié)設(shè)備30。在渦流室31、32內(nèi)布置了例如管道50的引導裝置,用于向蒸汽調(diào)節(jié)設(shè)備30的蒸汽出口33引導蒸汽流SF。進一步地,在渦流室31、32內(nèi)布置了渦流生成裝置,它們沿蒸汽流SF行進的路徑布置且適合于在蒸汽流SF中生成局部壓力差異以在蒸汽流SF中獲得局部渦流V。在蒸汽調(diào)節(jié)設(shè)備30的操作期間,通過渦流V將存在于蒸汽流SF中的水滴分解為更小的微粒尺寸。以此方式,蒸汽調(diào)節(jié)設(shè)備30能產(chǎn)生霧蒸汽或干蒸汽。
根據(jù)本發(fā)明的第一重要方面,蒸汽調(diào)節(jié)設(shè)備30包括多個蒸汽出口和多個凸起的部分35,其中蒸汽出口33提供在凸起的部分35內(nèi)。凸起的部分35的蒸汽出口33的相互位置例如可以適合于向蒸汽出口33的虛擬中心引導所有釋放的蒸汽流SF,以獲得蒸汽流SF的碰撞或獲得相鄰的釋放的蒸汽流SF的側(cè)向碰撞,以生成渦流V。
根據(jù)本發(fā)明的第二重要方面,蒸汽調(diào)節(jié)設(shè)備30包括用于通過控制在蒸汽調(diào)節(jié)設(shè)備30內(nèi)占優(yōu)的條件來精確地控制蒸汽流SF的水的量與蒸汽的量的比例的控制裝置。
根據(jù)本發(fā)明的第三重要方面,蒸汽調(diào)節(jié)設(shè)備30包括用于加熱蒸汽調(diào)節(jié)設(shè)備30的內(nèi)含物的加熱裝置40。優(yōu)選地,加熱裝置40包括平的電阻性加熱道。
根據(jù)本發(fā)明的第四重要方面,渦流生成裝置適合于首先在大體上水平的平面和大體上垂直的平面的一個內(nèi)生成渦流V,隨后在大體上水平的平面和大體上垂直的平面的另一個內(nèi)生成渦流V。
權(quán)利要求
1.蒸汽調(diào)節(jié)設(shè)備(30),其包括-至少一個蒸汽出口(33);-用于將蒸汽流(SF)沿蒸汽流路徑引導向至少一個蒸汽出口(33)的引導裝置(50);和-沿蒸汽流路徑布置且適合于在蒸汽流(SF)中制造局部壓力差異以在蒸汽流(SF)中獲得渦流(V)的渦流生成裝置。
2.根據(jù)權(quán)利要求1所述的蒸汽調(diào)節(jié)設(shè)備(30),包括用于中斷蒸汽流(SF)的阻礙構(gòu)件(52、53、54)。
3.根據(jù)權(quán)利要求1或2所述的蒸汽調(diào)節(jié)設(shè)備(30),包括用于引導蒸汽流(SF)的管道(50),該管道(50)具有以交錯的方式互相連接的管道部分(51),其中渦流生成裝置包括每個管道部分(51)的兩端(52)。
4.根據(jù)權(quán)利要求1至3中的任意權(quán)利要求所述的蒸汽調(diào)節(jié)設(shè)備(30),包括用于中斷蒸汽流路徑的擋板(53)。
5.根據(jù)權(quán)利要求1至4中的任意權(quán)利要求所述的蒸汽調(diào)節(jié)設(shè)備(30),包括用于中斷蒸汽流路徑的通道區(qū)段(54),該通道區(qū)段(54)布置為逆著蒸汽流(SF)的方向開口。
6.根據(jù)權(quán)利要求1至5中的任意權(quán)利要求所述的蒸汽調(diào)節(jié)設(shè)備(30),包括至少一個具有傾斜壁的凸起的部分(35)和用于將蒸汽流向凸起的部分(35)的頂引導的裝置(36)。
7.根據(jù)權(quán)利要求1至6中的任意權(quán)利要求所述的蒸汽調(diào)節(jié)設(shè)備(30),其中渦流生成裝置適合于在至少兩個不同的平面內(nèi)生成渦流(V)。
8.根據(jù)權(quán)利要求1至7中的任意權(quán)利要求所述的蒸汽調(diào)節(jié)設(shè)備(30),包括兩個用于容納渦流生成裝置的渦流室(31、32),其中在第一渦流室(31)內(nèi)的渦流生成裝置適合于在兩個不同的平面的一個內(nèi)生成渦流(V),且其中在第二渦流室(32)內(nèi)的渦流生成裝置適合于在兩個不同的平面的另一個內(nèi)生成渦流(V)。
9.根據(jù)權(quán)利要求1至8中的任意權(quán)利要求所述的蒸汽調(diào)節(jié)設(shè)備(30),包括用于加熱蒸汽調(diào)節(jié)設(shè)備(30)的內(nèi)含物的加熱裝置(40)。
10.根據(jù)權(quán)利要求1至9中的任意權(quán)利要求所述的蒸汽調(diào)節(jié)設(shè)備(30),適合用在例如蒸汽熨斗(1、2)、具有發(fā)蒸汽功能的熨燙板或面部蒸汽器的蒸汽用具中。
11.蒸汽熨斗(1、2),其包括具有用于接觸待熨燙的對象的底板平面(16)的底板(15),和根據(jù)權(quán)利要求1至10的任意權(quán)利要求的所述蒸汽調(diào)節(jié)設(shè)備(30)。
12.根據(jù)權(quán)利要求11所述的蒸汽熨斗(1、2),其中蒸汽調(diào)節(jié)設(shè)備(30)布置且成形為形成底板(15)。
13.根據(jù)權(quán)利要求11或12所述的蒸汽熨斗(1、2),包括用于加熱底板(15)的加熱裝置和用于加熱蒸汽調(diào)節(jié)設(shè)備(30)的內(nèi)含物的加熱裝置(40),其中所述的兩個加熱裝置單獨地可控。
全文摘要
蒸汽熨斗(1)包括具有兩個渦流室(31、32)的蒸汽調(diào)節(jié)設(shè)備(30)。在渦流室(31、32)內(nèi)布置了例如管道的引導裝置,用于向蒸汽調(diào)節(jié)設(shè)備(30)的出口(33)引導蒸汽流。進一步地,在渦流室(31、32)內(nèi)布置了渦流生成裝置,渦流生成裝置沿蒸汽流所行進的路徑布置且適合于在蒸汽流中制造局部壓力差異,以在蒸汽流中獲得局部渦流。通過渦流,在蒸汽調(diào)節(jié)設(shè)備(30)的操作期間,在蒸汽流中存在的水滴被分解為更小的微粒尺寸。以此方式,蒸汽調(diào)節(jié)設(shè)備(30)能產(chǎn)生霧蒸汽或干蒸汽。
文檔編號B01D45/16GK1938472SQ200580010087
公開日2007年3月28日 申請日期2005年3月21日 優(yōu)先權(quán)日2004年3月29日
發(fā)明者Y·姜, M·法利雅姆巴思克里施南, M·T·馬 申請人:皇家飛利浦電子股份有限公司
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