專利名稱：超低碳硫痕量分析專用坩堝的制作方法
技術(shù)領(lǐng)域：
本實(shí)用新型涉及一種冶金分析用的超低碳硫痕量分析專用坩堝。
背景技術(shù)：
隨著社會(huì)的發(fā)展和技術(shù)的不斷進(jìn)步，現(xiàn)有技術(shù)的冶金分析用坩堝由于規(guī)格品種較少和技術(shù)性能有限，已不能滿足實(shí)際需要，有待進(jìn)一步改進(jìn)和創(chuàng)新。
實(shí)用新型內(nèi)容本實(shí)用新型要解決的技術(shù)問題是，針對現(xiàn)有技術(shù)的不足，提出一種超低碳硫痕量分析專用坩堝，它具有自身熱損小、體積小、重量輕而相對容積大、能有效提高標(biāo)樣熔融溫度等特點(diǎn)，在產(chǎn)品規(guī)格上填補(bǔ)了空白。
本實(shí)用新型的技術(shù)解決方案是，所述超低碳硫痕量分析專用坩堝有帶空腔的坩堝體，所述坩堝體外底面中部有帶小圓形凹坑的圓臺(tái)，其結(jié)構(gòu)特點(diǎn)是，所述坩堝體上端口的外徑是24.5±0.3mm而內(nèi)徑是19±0.3mm，所述內(nèi)腔的深度和底部直徑分別是19±0.3mm和16±0.3mm，坩堝體的高度是24±0.3mm。
以下做出進(jìn)一步說明。
參見圖2，本實(shí)用新型有帶空腔2的坩堝體1，所述坩堝體1外底面中部有帶小圓形凹坑4的圓臺(tái)3，其結(jié)構(gòu)特點(diǎn)是，所述坩堝體1上端口的外徑是24.5±0.3mm而內(nèi)徑(即其內(nèi)腔的上端口直徑)是19±0.3mm，所述內(nèi)腔2的深度和底部直徑分別是19±0.3mm和16±0.3mm，坩堝體的高度(不含圓臺(tái)3的高度)是24±0.3mm。本實(shí)用新型產(chǎn)品可采用已有技術(shù)的原材料和制造工藝批量生產(chǎn)。上述尺寸(即圖2所標(biāo)基本尺寸)的公差保持在±0.3mm為宜。
由以上可知，本實(shí)用新型為一種超低碳硫痕量分析專用坩堝，它的優(yōu)點(diǎn)有由于所述結(jié)構(gòu)，較傳統(tǒng)產(chǎn)品減小了坩堝體壁厚；并提出了適合實(shí)際需要的又一種規(guī)格坩堝，填補(bǔ)了市場空白，更適用于超低碳低硫痕量分析，完全可以使用兩次，節(jié)約成本50％；由此使坩堝體積減小、重量減輕而容積不變，其熱損相應(yīng)減?。辉谑褂弥?，高頻振蕩加熱時(shí)能使熱量集中在標(biāo)樣上，有效提高了熔融溫度(使標(biāo)樣熔融)。


圖1是本實(shí)用新型產(chǎn)品的俯視結(jié)構(gòu)；圖2是本實(shí)用新型產(chǎn)品的正視(剖視)結(jié)構(gòu)圖。
在附圖中 1-坩堝體，2-內(nèi)腔，3-圓臺(tái)，4-小圓形凹坑。
具體實(shí)施方式
參見圖案1和圖2，本實(shí)用新型產(chǎn)品的實(shí)際大小尺寸參照圖2所標(biāo)注尺寸制作，公差在±0.3mm，其余制作于已有技術(shù)內(nèi)容相同。
權(quán)利要求1.一種超低碳硫痕量分析專用坩堝，有帶空腔(2)的坩堝體(1)，所述坩堝體(1)外底面中部有帶小圓形凹坑(4)的圓臺(tái)(3)，其特征是，所述坩堝體(1)上端口的外徑是24.5±0.3mm而內(nèi)徑是19±0.3mm，所述內(nèi)腔(2)的深度和底部直徑分別是19±0.3mm和16±0.3mm，坩堝體的高度是24±0.3mm。
專利摘要本實(shí)用新型為一種超低碳硫痕量分析專用坩堝，有帶空腔2的坩堝體1，所述坩堝體1外底面中部有帶小圓形凹坑4的圓臺(tái)3，其特征是，所述坩堝體1上端口的外徑是24.5±0.3mm而內(nèi)徑是19±0.3mm，所述內(nèi)腔2的深度和底部直徑分別是19±0.3mm和16±0.3mm，坩堝體的高度是24±0.3mm。本實(shí)用新型較傳統(tǒng)產(chǎn)品減小了坩堝體壁厚；是填補(bǔ)了市場空白的又一種規(guī)格坩堝，更適用于超低碳低硫痕量分析，完全可以使用兩次，節(jié)約成本50％；由此使坩堝體積減小、重量減輕而容積不變，其熱損相應(yīng)減小；在使用中，高頻振蕩加熱時(shí)能使熱量集中在標(biāo)樣上，有效提高了熔融溫。
文檔編號(hào)B01L3/04GK2656003SQ200320113850
公開日2004年11月17日 申請日期2003年10月14日 優(yōu)先權(quán)日2003年10月14日
發(fā)明者榮金相 申請人:榮金相