專利名稱:高純度氫氧化鎂氣流粉碎裝置制造方法
【專利摘要】本實(shí)用新型涉及一種高純度氫氧化鎂氣流粉碎裝置，包括粉碎筒體，粉碎筒體固定在氣流粉碎機(jī)的機(jī)架上，所述粉碎筒體外側(cè)設(shè)有配氣盤，所述配氣盤通過(guò)氣管與壓縮空氣源連接，壓縮空氣通過(guò)所述配氣盤分配后供給噴孔與粉碎筒體內(nèi)腔連通的一定數(shù)量的螺旋噴嘴，所述螺旋噴嘴成對(duì)安裝在粉碎筒體側(cè)壁上，該螺旋噴嘴沿粉碎筒體回轉(zhuǎn)軸線的圓周方向均布設(shè)置，且以粉碎筒體回轉(zhuǎn)軸線為中心呈放射狀排列；所述配氣盤由外層和套裝在外側(cè)內(nèi)側(cè)的內(nèi)層組成，內(nèi)、外層之間形成密閉的填充夾層，所述填充夾層內(nèi)設(shè)有具有彈性的填充物。本實(shí)用新型不會(huì)產(chǎn)生死角現(xiàn)象，提高物料的粉碎效率，提高進(jìn)入配氣盤氣流的壓力穩(wěn)定性，提高粉碎產(chǎn)品的質(zhì)量。
【專利說(shuō)明】高純度氫氧化鎂氣流粉碎裝置

【技術(shù)領(lǐng)域】
[0001]本實(shí)用新型涉及一種氣流粉碎機(jī)粉碎裝置，特別涉及一種高純度氫氧化鎂氣流粉碎裝置。

【背景技術(shù)】
[0002]目前，國(guó)內(nèi)外在粉末冶煉行業(yè)中采用氣流粉碎機(jī)是較理想的粉碎設(shè)備，現(xiàn)在常用的氣流粉碎機(jī)包括靶式、對(duì)撞式、扁平式、循環(huán)管式、流化床式氣流粉碎機(jī)，上述氣流粉碎機(jī)是利用高速氣流或過(guò)熱蒸汽的能力是顆粒相互產(chǎn)生沖擊、碰撞和摩擦，從而導(dǎo)致固體物料粉碎。高隨氣流是通過(guò)安裝在磨機(jī)周邊的噴嘴將高壓空氣或高壓熱氣噴出后來(lái)產(chǎn)生的。物料從固定的方向進(jìn)入上述氣流粉碎機(jī)的粉碎空間，氣流噴嘴從固定的方向射入高壓氣流，受物料比重、顆粒大小、硬度等影響，進(jìn)入粉碎空間的物料不能及時(shí)地被超音速氣流所粉碎，粉碎空間底部容易形成粉碎死角，出現(xiàn)粉碎效率低、能耗高的缺點(diǎn)。并且一般現(xiàn)有的氣流粉碎機(jī)上會(huì)采用配氣盤，通過(guò)配氣盤將高壓氣體分配給噴嘴，配氣盤會(huì)產(chǎn)生壓力波動(dòng)，并不影響氣流粉碎機(jī)的正常工作，但是會(huì)造成粉碎的產(chǎn)品細(xì)度不均勻，顆粒表面不光滑，影響產(chǎn)品質(zhì)量。
實(shí)用新型內(nèi)容
[0003]本實(shí)用新型針對(duì)現(xiàn)有技術(shù)存在的不足和缺陷，提供一高純度氫氧化鎂氣流粉碎裝置。
[0004]為實(shí)現(xiàn)上述目的，本實(shí)用新型所采用的技術(shù)方案是:一種高純度氫氧化鎂氣流粉碎裝置，包括粉碎筒體，粉碎筒體固定在氣流粉碎機(jī)的機(jī)架上，所述粉碎筒體外側(cè)設(shè)有配氣盤，所述配氣盤通過(guò)氣管與壓縮空氣源連接，壓縮空氣通過(guò)所述配氣盤分配后供給噴孔與粉碎筒體內(nèi)腔連通的一定數(shù)量的螺旋噴嘴，所述螺旋噴嘴成對(duì)安裝在粉碎筒體側(cè)壁上，該螺旋噴嘴沿粉碎筒體回轉(zhuǎn)軸線的圓周方向均布設(shè)置，且以粉碎筒體回轉(zhuǎn)軸線為中心呈放射狀排列；所述配氣盤由外層和套裝在外側(cè)內(nèi)側(cè)的內(nèi)層組成，內(nèi)、外層之間形成密閉的填充夾層，所述填充夾層內(nèi)設(shè)有具有彈性的填充物。
[0005]在上述結(jié)構(gòu)中，所述的填充物采用塑料泡沫或海綿。
[0006]在上述結(jié)構(gòu)中，所述的填充物為彈簧，彈簧一端固定在外層內(nèi)壁上，另一端固定在內(nèi)層外壁上。
[0007]在上述結(jié)構(gòu)中，為了防止螺旋噴嘴進(jìn)氣時(shí)氣流產(chǎn)生壓力波動(dòng)，提高進(jìn)入螺旋噴嘴氣流壓力的穩(wěn)定性，在所述的螺旋噴嘴與配氣盤連接的進(jìn)氣管上設(shè)有氣流穩(wěn)壓機(jī)構(gòu)，所述氣流穩(wěn)壓機(jī)構(gòu)含有氣壓傳感器和用于調(diào)節(jié)壓縮氣體流量的伺服閥，所述氣壓傳感器的信號(hào)輸出端與信號(hào)處理控制電路的信號(hào)輸入端連接，信號(hào)處理控制電路的信號(hào)輸出端與伺服閥的信號(hào)輸入端連接。
[0008]本實(shí)用新型的有益效果是:
[0009]1.本實(shí)用新型的螺旋噴嘴將壓縮氣體變成不規(guī)則的錐形氣流噴入粉碎筒體內(nèi)，將粉碎筒體底部的物料吹起卷入超音速氣流中進(jìn)行粉碎，且螺旋噴嘴成對(duì)安裝在粉碎筒體側(cè)壁上，并以粉碎筒體回轉(zhuǎn)軸線為中心呈放射狀排列，噴入的氣流形成超音速氣流的同時(shí)也形成了渦流，進(jìn)一步將粉碎筒體底部的物料吹起卷入超音速氣流中進(jìn)行粉碎，不會(huì)產(chǎn)生死角現(xiàn)象，提高物料的粉碎效率。
[0010]2.本實(shí)用新型的配氣盤的內(nèi)、外側(cè)之間設(shè)有具有彈性的填充物，填充物用來(lái)消減壓縮氣體進(jìn)入配氣盤時(shí)產(chǎn)生的壓力波動(dòng)，避免配氣盤因?yàn)閴毫Σ▌?dòng)產(chǎn)生震動(dòng)，提高進(jìn)入配氣盤氣流的壓力穩(wěn)定性，提高粉碎產(chǎn)品的質(zhì)量。
[0011]3、本實(shí)用新型的氣流穩(wěn)壓機(jī)構(gòu)溫度進(jìn)入噴嘴的壓縮氣體的壓力穩(wěn)定性，提高粉碎的產(chǎn)品細(xì)度均勻形、顆粒表面光滑性，提高產(chǎn)品質(zhì)量。

【附圖說(shuō)明】

[0012]圖1是本實(shí)用高純度氫氧化鎂氣流粉碎裝置的結(jié)構(gòu)示意圖；
[0013]圖2是本實(shí)用新型高純度氫氧化鎂氣流粉碎裝置的配氣盤的結(jié)構(gòu)示意圖。
[0014]圖中標(biāo)號(hào)所代表的意義為:1、粉碎筒體，2、配氣盤，3、進(jìn)氣管，4、螺旋噴嘴，其中，201、外層、202、填充物，203、內(nèi)層。

【具體實(shí)施方式】
[0015]下面結(jié)合附圖及【具體實(shí)施方式】對(duì)本實(shí)用新型作進(jìn)一步詳細(xì)描述:
[0016]實(shí)施例一:參見(jiàn)圖1和圖2，一種高純度氫氧化鎂氣流粉碎裝置，包括粉碎筒I體，粉碎筒體I固定在氣流粉碎機(jī)的機(jī)架上(圖未畫出)，所述粉碎筒體I外側(cè)設(shè)有配氣盤2，所述配氣盤2通過(guò)氣管與壓縮空氣源連接(圖未畫出)，壓縮空氣通過(guò)所述配氣盤2分配后供給噴孔與粉碎筒體I內(nèi)腔連通的一定數(shù)量的螺旋噴嘴4，所述螺旋噴嘴4成對(duì)安裝在粉碎筒體I側(cè)壁上，該螺旋噴嘴4沿粉碎筒體I回轉(zhuǎn)軸的圓周方向均布設(shè)置，且以粉碎筒體I回轉(zhuǎn)軸為中心呈放射狀排列；所述配氣盤2由外層201和套裝在外側(cè)內(nèi)側(cè)的內(nèi)層202組成，內(nèi)、外層之間形成密閉的填充夾層，所述填充夾層內(nèi)設(shè)有具有彈性的填充物203。所述的填充物203采用塑料泡沫或海綿。
[0017]實(shí)施例二:圖未畫出，實(shí)施例二與實(shí)施例一結(jié)構(gòu)基本相同，相同之處不重述，不同的是:所述的填充物203為彈簧，彈簧一端固定在外層201內(nèi)壁上，另一端固定在內(nèi)層203
外壁上。
[0018]實(shí)施例三:參見(jiàn)圖1，實(shí)施例三與實(shí)施例一結(jié)構(gòu)基本相同，相同之處不重述，不同的是:為了防止螺旋噴嘴進(jìn)氣時(shí)氣流產(chǎn)生壓力波動(dòng)，提高進(jìn)入螺旋噴嘴氣流壓力的穩(wěn)定性，在所述的螺旋噴嘴4與配氣盤2連接的進(jìn)氣管3上設(shè)有氣流穩(wěn)壓機(jī)構(gòu)(圖未畫出)，所述氣流穩(wěn)壓機(jī)構(gòu)含有氣壓傳感器和用于調(diào)節(jié)壓縮氣體流量的伺服閥，所述氣壓傳感器的信號(hào)輸出端與信號(hào)處理控制電路的信號(hào)輸入端連接，信號(hào)處理控制電路的信號(hào)輸出端與伺服閥的信號(hào)輸入端連接。所述信號(hào)處理控制電路采用現(xiàn)有技術(shù)的信號(hào)處理控制電路，在此不贅述。
【權(quán)利要求】
1.高純度氫氧化鎂氣流粉碎裝置，包括粉碎筒體，粉碎筒體固定在氣流粉碎機(jī)的機(jī)架上，所述粉碎筒體外側(cè)設(shè)有配氣盤，所述配氣盤通過(guò)氣管與壓縮空氣源連接，壓縮空氣通過(guò)所述配氣盤分配后供給噴孔與粉碎筒體內(nèi)腔連通的一定數(shù)量的螺旋噴嘴，其特征在于:所述螺旋噴嘴成對(duì)安裝在粉碎筒體側(cè)壁上，該螺旋噴嘴沿粉碎筒體回轉(zhuǎn)軸線的圓周方向均布設(shè)置，且以粉碎筒體回轉(zhuǎn)軸線為中心呈放射狀排列；所述配氣盤由外層和套裝在外側(cè)內(nèi)側(cè)的內(nèi)層組成，內(nèi)、外層之間形成密閉的填充夾層，所述填充夾層內(nèi)設(shè)有具有彈性的填充物。2.根據(jù)權(quán)利要求1所述的高純度氫氧化鎂氣流粉碎裝置，其特征在于:所述的填充物采用塑料泡沫或海綿。3.根據(jù)權(quán)利要求1所述的高純度氫氧化鎂氣流粉碎裝置，其特征在于:所述的填充物為彈簧，彈簧一端固定在外層內(nèi)壁上，另一端固定在內(nèi)層外壁上。4.根據(jù)權(quán)利要求1所述的高純度氫氧化鎂氣流粉碎裝置，其特征在于:所述的螺旋噴嘴通過(guò)進(jìn)氣管與配氣盤連接，所述進(jìn)氣管上設(shè)有氣流穩(wěn)壓機(jī)構(gòu)，所述氣流穩(wěn)壓機(jī)構(gòu)含有氣壓傳感器和用于調(diào)節(jié)壓縮氣體流量的伺服閥，所述氣壓傳感器的信號(hào)輸出端與信號(hào)處理控制電路的信號(hào)輸入端連接，信號(hào)處理控制電路的信號(hào)輸出端與伺服閥的信號(hào)輸入端連接。
【文檔編號(hào)】B02C19-06GK204276097SQ201420746619
【發(fā)明者】康志強(qiáng), 王世波, 王偉新 [申請(qǐng)人]鞏義市強(qiáng)宏鎂業(yè)科技有限責(zé)任公司