一種硅料清洗裝置的制造方法
【技術(shù)領(lǐng)域】
[0001]本發(fā)明涉及太陽(yáng)能電池制造技術(shù)領(lǐng)域，更具體地說(shuō)，涉及一種硅料清洗裝置。
【背景技術(shù)】
[0002]目前光伏行業(yè)在鑄錠過(guò)程中用到的多晶硅主要分為免洗的原生多晶硅和回爐使用的單晶硅料或多晶硅料，其中，回爐使用的單晶硅料或多晶硅料中由于金屬和碳化物等雜質(zhì)含量相對(duì)較高，如果直接投爐使用的話會(huì)大大影響鑄錠質(zhì)量甚至因少子壽命不合格而導(dǎo)致硅錠報(bào)廢，所以需要根據(jù)不同種類(lèi)的回爐料進(jìn)行不同的酸堿清洗工藝進(jìn)行除雜后才能投爐。
[0003]在硅料清洗的過(guò)程中需要使用大量的酸(例如氫氟酸、硝酸)或者堿(例如氫氧化鈉)對(duì)回爐硅料進(jìn)行清洗，清洗過(guò)程中的反應(yīng)時(shí)間比較長(zhǎng)，在現(xiàn)有的反應(yīng)容器內(nèi)反應(yīng)時(shí)，產(chǎn)生的腐蝕性氣體會(huì)不斷溢出，這些氣體不僅對(duì)操作人員的身體造成傷害，而且極大地影響周邊環(huán)境。

【發(fā)明內(nèi)容】

[0004]為解決上述技術(shù)問(wèn)題，本發(fā)明提供了一種硅料清洗裝置，能夠提高硅料清洗裝置的密封性，避免腐蝕性氣體溢出造成對(duì)操作人員的傷害和環(huán)境的污染。
[0005]本發(fā)明提供的一種硅料清洗裝置，包括清洗容器和頂蓋，所述清洗容器的外周部的上表面設(shè)置有凹槽，所述頂蓋的下表面靠近邊緣處設(shè)置有與所述凹槽相配合的凸臺(tái)，所述頂蓋設(shè)置有開(kāi)口，所述開(kāi)口與用于盛放中和液體的溶液槽連接。
[0006]優(yōu)選的，在上述硅料清洗裝置中，所述凹槽內(nèi)設(shè)置有純水。
[0007]優(yōu)選的，在上述硅料清洗裝置中，所述凹槽包括位于所述清洗容器的邊緣處的第一阻擋部和被所述第一阻擋部包圍的第二阻擋部，其中，所述第一阻擋部的高度大于所述第二阻擋部的高度。
[0008]優(yōu)選的，在上述硅料清洗裝置中，所述開(kāi)口和所述溶液槽之間為可拆卸式的連接。
[0009]優(yōu)選的，在上述硅料清洗裝置中，所述開(kāi)口和所述溶液槽之間通過(guò)軟管連接。
[0010]優(yōu)選的，在上述硅料清洗裝置中，所述頂蓋設(shè)置有頂部開(kāi)口，所述頂部開(kāi)口的上部可拆卸式的設(shè)置有密封蓋。
[0011 ] 優(yōu)選的，在上述硅料清洗裝置中，所述密封蓋與所述頂部開(kāi)口之間通過(guò)螺紋連接。
[0012]優(yōu)選的，在上述硅料清洗裝置中，所述溶液槽與所述清洗容器之間為可拆卸式的連接。
[0013]優(yōu)選的，在上述硅料清洗裝置中，所述清洗容器的底部設(shè)置有放液口。
[0014]優(yōu)選的，在上述硅料清洗裝置中，所述清洗容器為聚四氟乙烯容器，所述頂蓋為聚四氟乙烯頂蓋。
[0015]從上述技術(shù)方案可以看出，本發(fā)明所提供的一種硅料清洗裝置，由于所述清洗容器的外周部的上表面設(shè)置有凹槽，所述頂蓋的下表面靠近邊緣處設(shè)置有與所述凹槽相配合的凸臺(tái)，能夠延長(zhǎng)清洗容器內(nèi)外密封通道的路徑，且由于所述頂蓋設(shè)置有開(kāi)口，所述開(kāi)口與用于盛放中和液體的溶液槽連接，能夠進(jìn)一步將泄漏的微量揮發(fā)性氣體與所述中和液體進(jìn)行中和，避免進(jìn)入空氣中。從而，上述硅料清洗裝置能夠提高硅料清洗裝置的密封性，避免腐蝕性氣體溢出造成對(duì)操作人員的傷害和環(huán)境的污染。
【附圖說(shuō)明】
[0016]為了更清楚地說(shuō)明本發(fā)明實(shí)施例或現(xiàn)有技術(shù)中的技術(shù)方案，下面將對(duì)實(shí)施例或現(xiàn)有技術(shù)描述中所需要使用的附圖作簡(jiǎn)單地介紹，顯而易見(jiàn)地，下面描述中的附圖僅僅是本發(fā)明的實(shí)施例，對(duì)于本領(lǐng)域普通技術(shù)人員來(lái)講，在不付出創(chuàng)造性勞動(dòng)的前提下，還可以根據(jù)提供的附圖獲得其他的附圖。
[0017]圖1為本申請(qǐng)實(shí)施例提供的一種硅料清洗裝置的主視圖；
[0018]圖2為本申請(qǐng)實(shí)施例提供的一種硅料清洗裝置的俯視圖。
【具體實(shí)施方式】
[0019]下面將結(jié)合本發(fā)明實(shí)施例中的附圖，對(duì)本發(fā)明實(shí)施例中的技術(shù)方案進(jìn)行清楚、完整地描述，顯然，所描述的實(shí)施例僅僅是本發(fā)明一部分實(shí)施例，而不是全部的實(shí)施例?；诒景l(fā)明中的實(shí)施例，本領(lǐng)域普通技術(shù)人員在沒(méi)有做出創(chuàng)造性勞動(dòng)前提下所獲得的所有其他實(shí)施例，都屬于本發(fā)明保護(hù)的范圍。
[0020]本申請(qǐng)實(shí)施例提供的一種硅料清洗裝置如圖1和圖2所示，圖1為本申請(qǐng)實(shí)施例提供的一種硅料清洗裝置的主視圖，圖2為本申請(qǐng)實(shí)施例提供的一種硅料清洗裝置的俯視圖。該硅料清洗裝置包括清洗容器I和頂蓋2，所述清洗容器I的外周部的上表面設(shè)置有凹槽3，所述頂蓋2的下表面靠近邊緣處設(shè)置有與所述凹槽3相配合的凸臺(tái)4，所述頂蓋2設(shè)置有開(kāi)口 5，所述開(kāi)口 5與用于盛放中和液體的溶液槽6連接。
[0021]另外從圖2可以更加明顯的看出，本申請(qǐng)實(shí)施例提供的硅料清洗裝置中，清洗容器I的外周部的上表面具有凹槽3，且所述凹槽3環(huán)繞清洗容器上表面一圈。此處還需要說(shuō)明的是，所述溶液槽6中盛放的中和液體是與清洗容器I中的溶液相配合的，也就是說(shuō)，當(dāng)清洗容器I中的溶液為酸性溶液時(shí)，則中和液體為非揮發(fā)性堿性溶液，用于中和揮發(fā)出的酸性氣體，而當(dāng)清洗容器I中的溶液為堿性溶液時(shí)，則中和液體為非揮發(fā)性酸性溶液，用于中和揮發(fā)出的堿性氣體，從而避免揮發(fā)出的反應(yīng)氣體進(jìn)入周?chē)h(huán)境中。
[0022]從上述技術(shù)方案可以看出，本申請(qǐng)實(shí)施例所提供的一種硅料清洗裝置，由于所述清洗容器I的外周部的上表面設(shè)置有凹槽3，所述頂蓋2的下表面靠近邊緣處設(shè)置有與所述凹槽3相配合的凸臺(tái)4，能夠延長(zhǎng)清洗容器I內(nèi)外密封通道的路徑，以增強(qiáng)密封效果，且由于所述頂蓋2設(shè)置有開(kāi)口 5，所述開(kāi)口 5與用于盛放中和液體的溶液槽6連接，能夠進(jìn)一步將泄漏的微量揮發(fā)性氣體與所述中和液體進(jìn)行中和，避免進(jìn)入周?chē)h(huán)境中。從而，上述硅料清洗裝置能夠提高硅料清洗裝置的密封性，避免腐蝕性氣體溢出造成對(duì)操作人員的傷害和環(huán)境的污染。
[0023]優(yōu)選的，在上述硅料清洗裝置中，所述凹槽3內(nèi)設(shè)置有純水。這樣就能夠進(jìn)一步對(duì)進(jìn)入該凹槽3內(nèi)的揮發(fā)性氣體形成阻擋，增大揮發(fā)性氣體溢出的難度，從而進(jìn)一步增強(qiáng)該硅料清洗裝置的密封特性，另外，所述純水還具有一定的吸收功能，能夠