專利名稱：對含有液體、氣體和顆粒物質(zhì)的流體進(jìn)行處理的裝置以及裝有這種處理裝置的污水凈化裝置的制作方法
技術(shù)領(lǐng)域：
本發(fā)明涉及一種對含有液體、氣體和顆粒物質(zhì)的流體進(jìn)行處理的裝置，包括·一個處理室，其中被注滿了流體，至少設(shè)有一個用于捕獲氣泡的隔板，所述隔板具有朝下開口和朝上的脊，·排液口，設(shè)置在接近流體水平面的位置處，·供應(yīng)口，在處理室的底部向處理室中供應(yīng)流體，和·排氣器，把在隔板下方捕獲的處理室中的氣泡排出。
這種處理裝置在專利申請EP-A1-0244029和EP-A1-0193999中是熟知的。在這些專利申請的說明書中介紹了隔板的布局方式，各隔板在水平方向上以交錯的方式進(jìn)行設(shè)置，并形成了發(fā)酵室的上側(cè)壁，從而在發(fā)酵室的上方又形成了處理室。隔板可以捕獲來自發(fā)酵室的上浮的氣泡，流體可以經(jīng)隔板之間的間隙向上方流動。氣泡被捕獲后，處理室中的流體相對比較平靜，而發(fā)酵室內(nèi)的流體則處于翻動狀態(tài)，從而使氣泡上浮。處理室內(nèi)的流體相對處于平靜狀態(tài)的事實(shí)意味著可以對由發(fā)酵室而來的流體中的顆粒進(jìn)行處理，這些顆?？梢越?jīng)隔板之間的間隔而落回至發(fā)酵室內(nèi)。然而，這種處理裝置具有缺點(diǎn)，就是當(dāng)翻動劇烈時，氣泡容易經(jīng)隔板之間的間隔而混入處理室中，從而對處理室中的處理操作帶來不利的影響。特別是，小的氣泡更容易混入處理室中。
本發(fā)明的目的是消除上述缺點(diǎn)。
本發(fā)明的基本目的是提供一種處理裝置，在該裝置中，液體、氣體和顆粒物質(zhì)可以被除去，從而，在處理裝置的上方可以得到不含大量顆粒物質(zhì)，尤其是不含氣體的液體。
本發(fā)明的這個目的是這樣實(shí)現(xiàn)的，就是至少設(shè)置一個隔板，該隔板的縱向軸線與水平面呈一個角度，從而由處理室的底部進(jìn)入的流體可以向斜上方流動，而且是沿著所述隔板的底面進(jìn)行流動，流體中的氣泡匯集在所述隔板的脊的位置處，在水平面的下方設(shè)置了排氣器，匯集在所述隔板的脊處的氣泡可以被該排氣器捕獲。
由于在處理室的底部供應(yīng)流體，在處理室的上方排出液體，在處理室內(nèi)形成了向上的液體流動。傾斜設(shè)置的隔板使得流體沿傾斜的軌跡向上方流動。在液體的向斜上方流動的過程中，其中所含的氣泡就上浮，而且氣泡上浮的速度比流體的流動速度要快一些，最后，氣泡與傾斜的隔板相接觸。傾斜的隔板使得氣泡沿著隔板的脊的方向繼續(xù)向上浮動。隨著流體的向斜上方的流動，其中的氣泡匯集在隔板的脊的位置處。氣泡在位于水平面下方的隔板的脊的位置處被捕獲，從而避免了處于水平面處的流體的翻動。處于處理室上部的流體會相對地處于靜止?fàn)顟B(tài)，從而混入流體中的顆粒會更容易地被沉淀。所述的傾斜的隔板是說該隔板的縱向軸線與水平面(即水平方向)呈一個角度，而該隔板的底面，即在垂直于縱向軸線的方向上看到的表面也與水平面(即水平方向)呈一定的角度。在這種情況下，隔板的脊位于其底面的另一側(cè)，也與水平方向呈一個傾角。
本發(fā)明的處理裝置的進(jìn)一步的優(yōu)點(diǎn)是，在傾斜的隔板的下方可以出現(xiàn)層流，這有利于流體中所含顆粒的沉淀。層流尤其是這樣的實(shí)現(xiàn)的，就是層流中的氣泡可與流體相分離，可以單獨(dú)地被排出。
這里需指出的是，所謂的具有傾斜隔板的處理裝置在現(xiàn)行技術(shù)中是熟知的，在現(xiàn)行技術(shù)中，使用了數(shù)個平板，各平板以傾斜的方式交錯地排開。這種平板的底面沿著與水平面(即水平方向)平行的方向延伸，所述底面垂直于平板的縱向軸線(即沿著平板的橫向線軸)。這種具有傾斜板的處理裝置適用于處理含有液體和顆粒的流體。然而，如果流體中含有氣泡，氣泡就會使沿傾斜板流動的流體有附加的蠕動，從而不利于對含有顆粒的流體進(jìn)行處理，也不利于形成層流。
本發(fā)明的處理裝置的一個有利的實(shí)施例包括一排以傾斜方式設(shè)置的隔板，各隔板相互交錯并且相互平行。流體可被迫地在兩個相鄰的相互交錯的隔板之間向上方流動。流體中所含的氣體會更快地與隔板相接觸并隨后匯集在脊的位置處，因而，氣泡對顆粒沉淀的影響可以很快地被消除。
捕獲和排放匯集在脊的位置處的氣體的方式多種多樣。例如可以在隔板的內(nèi)側(cè)的脊的位置處設(shè)置氣體的通道。該通道的狹窄的出口可與一個管相通，該管沿著脊向斜上方延伸，以由另一個管向上方排出氣體，從而防止接近水平面處的流體被激擾。根據(jù)本發(fā)明的一個有利的實(shí)施例，排氣器包括集氣管，該集氣管沿著一塊水平隔板的脊的方向在本質(zhì)上水平地延伸，在該隔板的內(nèi)側(cè)靠近脊的位置處，設(shè)有氣體入口，該人口也可以是倒置的槽式的結(jié)構(gòu)。本發(fā)明的另一個結(jié)構(gòu)簡單的實(shí)施例是，排氣器包括一個集氣隔板，該集氣隔板的脊在本質(zhì)上水平地延伸。該集氣隔板的形狀可以與傾斜的隔板的形狀相似，但其寬度小于傾斜的隔板的寬度。集氣管或集氣隔板沿水平方向延伸的優(yōu)點(diǎn)是，該集氣管或集氣隔板可以同時是位于處理室中的傾斜的隔板的支承和定位元件。在集氣隔板的脊水平延伸的情況下，有可能用簡單的方式收集和排除可浮動的顆粒。若使集氣管或集氣隔板略微與水平面即水平方向呈一個小的角度，則排放氣體和排除可浮動的顆粒的效果就會更好。
本發(fā)明的處理裝置的傾斜隔板與水平方向的夾角通常在30°至80°之間。該角度尤其是55°至65°之間。如果該角度太大，流體中所含的氣泡就不能充分地被隔板捕獲。如果該角度太小，流體向上的流動又太慢。該角度的合適的值在很大程度上取決于處理條件和要被處理的流體的成份。在不利的處理條件和要被處理的流體具有不利的成份時，在55°至65°之間的某個角度被證明可以產(chǎn)生良好的效果，例如，該角度可以在60°左右。
根據(jù)一個有利的實(shí)施例，隔板的橫截面在本質(zhì)上呈V形，其兩個側(cè)面之間的夾角可以在大約100°至130°之間，但尤其是在大約110°至120°之間。這種V形的隔板可以簡單地由兩塊板組成，也可由一塊板折成一個適當(dāng)?shù)慕嵌取?br> 根據(jù)本發(fā)明，在隔板之間可以形成層流，流體中所含的顆?？梢院苋菀椎氐玫教幚恚舭逯g的水平間隔在大約2至8cm之間，但尤其是在6cm左右。
本發(fā)明進(jìn)一步涉及一種凈化裝置，如對污水進(jìn)行的厭氧凈化裝置，這種裝置包括·一個發(fā)酵室，·本發(fā)明的處理裝置，設(shè)置在發(fā)酵室的上方，·除氣室，位于處理裝置一旁，由隔板分成第一室和第二室，第一室中氣體含量較多，第二室中氣體含量較少，在隔板的上方處兩個室是相通的，該除氣室設(shè)有排氣管，含氣體量多的第一室與發(fā)酵室相通，含氣體量少的第二室在處理裝置的處理室的底部設(shè)有出口，和
·分隔元件，設(shè)置在發(fā)酵室和處理裝置的處理室之間，該分隔元件可以捕獲由發(fā)酵室上浮的氣泡，并使之排入除氣室的第一室中，而且可以使沉淀在處理室內(nèi)的顆粒再返回至發(fā)酵室內(nèi)。
在發(fā)酵室內(nèi)裝有污水，該污水是從厭氧環(huán)境中注入至發(fā)酵室內(nèi)進(jìn)行凈化的。在發(fā)酵室內(nèi)產(chǎn)生了上浮的氣泡，使發(fā)酵室內(nèi)的流體處于翻動狀態(tài)，該流體中含有污水及其他的顆粒。氣泡被分隔元件捕獲并被導(dǎo)入與發(fā)酵室相通的除氣室的第一室內(nèi)。氣泡在第一室內(nèi)會上浮，結(jié)果在第一室內(nèi)形成了含有大量氣泡的向上流動的流體。在除氣室的上方，氣體會脫離流體，較大的可浮動的顆粒會不斷地從流體中浮動出來。脫離流體的氣體及浮動的顆?？稍诖藭r被排除，隨后，流體中殘留的氣體和顆粒就更少了。含有較少氣體和顆粒的流體隨后進(jìn)入第二室中，從而到達(dá)處理裝置的處理室的底部。在流體進(jìn)入第二室的過程中，流體向下方流動，就意味著仍溶于流體中的部分氣泡會向上浮動，從而在除氣室的上部脫離出流體并被排出。當(dāng)流體在處理裝置中流動時，仍溶于流體的氣體會進(jìn)一步排出，仍混入流體中的顆粒會繼續(xù)沉淀。沉淀的顆粒下落至處理裝置的底部并落在分隔元件上，該分隔元件介于發(fā)酵室和處理室之間。然后，沉淀的顆粒又落回至發(fā)酵室內(nèi)。通過這種凈化裝置，可對污水進(jìn)行很好地凈化，所述污水可以是啤酒廠排放的廢水或含有污泥的廢水。根據(jù)污水的種類不同，可以在發(fā)酵室內(nèi)添入各種細(xì)菌和細(xì)菌的載體。在這種凈化裝置中，排出的氣體通常包括O2、CO2和H2，可以是其中一種氣體，也可以是幾種氣體，還可以帶有其他的氣體。
根據(jù)一個很有利的實(shí)施例，分隔元件在本質(zhì)上是幾塊水平設(shè)置的集氣隔板，各集氣隔板以相鄰的方式進(jìn)行設(shè)置，它們的下端略微交錯，從而在兩相鄰的集氣隔板的下端之間形成了垂直的間隙，以使沉淀于處理室內(nèi)的顆?？梢苑祷刂涟l(fā)酵室內(nèi)。
對于集氣隔板來說，可以采用數(shù)種在現(xiàn)行技術(shù)中熟知的集氣隔板。尤其是可以參考?xì)W洲專利申請EP-A1-0193999和EP-A1-0244029中介紹的集氣隔板，其內(nèi)容也包含在此說明書中以供參考。
本發(fā)明還進(jìn)一步涉及用本發(fā)明的裝置對污水進(jìn)行厭氧或有氧凈化的方法。
下面結(jié)合附圖對本發(fā)明進(jìn)行更詳細(xì)的說明。本發(fā)明的凈化裝置用附圖中的實(shí)施例進(jìn)行了說明，附圖包括

圖1是根據(jù)本發(fā)明的凈化裝置的示意透視圖；圖2是圖1的局部示意側(cè)視圖；圖3是在圖2中沿III-III線的橫截面圖；圖4是圖1中局部的詳細(xì)圖，在該圖中隔板1 2按另外的不同的方式進(jìn)行設(shè)置；和圖5圖示了在處理裝置中上浮的氣泡的示意軌跡。
附圖中圖示了本發(fā)明的凈化裝置1，該凈化裝置1尤其是包括本發(fā)明的處理裝置2。
凈化裝置包括一個反應(yīng)室，例如發(fā)酵室3，該反應(yīng)室設(shè)置在處置裝置2的下方。發(fā)酵室3和處理裝置2由分隔板4相互隔開(圖中僅進(jìn)行了示意表示)，這在專利申請EP-A1-0244029和EP-A1-0193999中是熟知的(其內(nèi)容也包含在本說明書中以供參考)。凈化裝置進(jìn)一步包括除氣室5，該除氣室5包括第一室6和第二室7，第一室6和第二室7由斜置的分隔板8相互隔開。在分隔板8的上側(cè)，第一室6和第二室7是相通的。在除氣室5的上方，設(shè)置了排氣管9和噴淋器10，噴淋器10用于噴水去除浮動的顆粒上的氣泡。在除氣室的上方，在水平面23的位置上，設(shè)置了類似的浮動顆粒的排放口(沒有示出)。
處理裝置2包括數(shù)個V形隔板12，各隔板12與水平面11呈60°的傾角。每個隔板12具有向下開口的側(cè)板13和脊14。V形隔板的兩個側(cè)板的夾角β為110°。在處理裝置的處理室的上方，靠近水平面11的位置處，設(shè)置了排液口，該排液口就是溢流孔15。溢流孔15與排液槽16相通。兩個相鄰的傾斜的隔板之間的水平距離Z大約為6cm。各傾斜隔板12在本質(zhì)上相互之間相對于V形的收集隔板17以水平方向一字排開，并懸置于處理裝置中的處理室的那些收集隔板17上。收集隔板17穿過脊14延伸，依次與各隔板12的一部分相貫。恰好在收集隔板17的脊的下方，在傾斜隔板14的脊的位置處，設(shè)置了通道18，該通道18尤其是用于使氣體通過。收集隔板17最好朝著除氣室5的方向略微傾斜，并與除去室5相通。在收集隔板17的下方收集的氣體和浮動顆?？梢宰詣拥嘏湃氤龤馐抑小?br> 在所示的實(shí)施例中，分隔板4包括個完整的V形隔板30和兩個半邊V形隔板19，半邊V形隔板19固定在旁邊的殼體上，隔板19與隔板30呈略微的交錯結(jié)構(gòu)。隔板30和隔板19的交錯結(jié)構(gòu)形成了間隙20，該間隙20位于上方的隔板19的下方和下方的隔板18的上表面之間。通過間隙20，顆粒和流體可流回至下方的發(fā)酵室內(nèi)。
上述的凈化裝置在總體上是按如下過程工作的發(fā)酵室3中舉例來說容納有細(xì)菌、細(xì)菌的載體、污水及其他顆粒。污水最好由某個元件(沒有示出)連續(xù)地提供給發(fā)酵室。污水可由細(xì)菌和/或發(fā)酵室中的其他化學(xué)物質(zhì)進(jìn)行凈化，從而產(chǎn)生象O2、CO2、H2一類的氣體。氣體的產(chǎn)生使得發(fā)酵室中的液體開始劇烈翻動，從而使發(fā)酵室中的顆粒開始四處浮動。上浮的氣泡大部分被分隔元件4捕獲。如箭頭21和22所示，被捕獲的氣體被引導(dǎo)至除氣室5的第一室6中。在這里，氣體將進(jìn)一步上浮，從而產(chǎn)生了向上的流動。發(fā)酵室3的流體不斷地被導(dǎo)入上方，流體中的顆粒也隨之被帶入上方。大一點(diǎn)的氣泡在除氣室5的上方就會脫離流體并經(jīng)排氣管9被排出。來自發(fā)酵室3的流體中攜帶的浮動著的顆粒在除氣室上方的水平面23處停止上浮。浮動的顆?？梢员徊粩嗟嘏懦觯w粒上的氣泡可由噴淋器10除去。
然后，來自發(fā)酵室和分隔元件4的氣體及流體按箭頭24所示的方向進(jìn)一步朝斜下方進(jìn)入處理裝置2底部的第二室7中。隨著流體在第二室中的向下流動，仍存在于流體中的氣體就會形成向上浮動的氣泡并目集中在除氣室5的上方，從而由排氣管9排出。如箭頭25所示，在處理裝置2的底部，部分流體經(jīng)由間隙20而流回至發(fā)酵室內(nèi)，沉淀于處理裝置2中的顆粒也被隨之帶入發(fā)酵室內(nèi)。如箭頭26所示，另一部分流體被迫沿著傾斜的隔板12向上流動，最后到達(dá)處理裝置的上方，經(jīng)過凈化的流體由溢流孔15排出。
在流體被迫使從傾斜的隔板12的底部向上方流動的過程中，將形成層流狀態(tài)，仍混在流體中的較大的顆粒會很容易地向下沉淀。仍溶于流體中的氣泡和較小的可浮動的顆粒會垂直上升，在任何情況下，氣泡上浮都比流體本身的流動要快一些。這些氣泡和較輕的顆粒隨后被迫使與隔板的傾斜的側(cè)面相接觸，隔板的脊14對這些氣泡和較輕的顆粒起著導(dǎo)向作用。這些氣泡和較輕的顆粒沿著脊14的內(nèi)側(cè)而繼續(xù)上浮，直到被設(shè)置在水平面11下方的排氣器所捕獲，在該實(shí)施例中，排氣器就是在本質(zhì)上水平設(shè)置的收集隔板17。氣泡和較輕的顆粒在收集隔板17處被捕獲，經(jīng)由孔18沿著收集隔板17的底面流動至除氣室5，氣泡在除氣室5中由排氣管9排放，較輕的顆粒也由相應(yīng)的排放口(沒有示出)排出。位于收集隔板17上方的流體在本質(zhì)上不含有氣泡和較輕的顆粒，從而可以對仍混于流體中的較大的顆粒進(jìn)行進(jìn)一步的處理。位于處理裝置中的最上層的流體，也就是接近水平面11的流體，很少有仍含有浮動顆粒的情況。這種含顆粒極少的流體可以作為凈化后的流體由溢流孔15和排出槽16進(jìn)一步地排出。
應(yīng)當(dāng)清楚的是，本發(fā)明的處理裝置可有多種實(shí)施例。這里所述的用于凈化裝置的實(shí)施例的優(yōu)點(diǎn)是很多的，但這并不意味著僅有一個實(shí)施例。還應(yīng)當(dāng)清楚，分隔板12的傾斜角度是可以改變的。也就是說，如圖1和圖2所示，分隔板12也可以向右側(cè)傾斜(而不是圖示的向左傾斜)，或者向前或向后傾斜，當(dāng)然也可以向其他的方向傾斜。
圖4圖示了根據(jù)本發(fā)明的處理裝置的另一個實(shí)施例。與圖1至圖3所示的實(shí)施例不同的是，傾斜的隔板12的方向相對于縱向軸轉(zhuǎn)動了180°，該隔板12在圖4中為隔板112。隔板112的縱向邊與處理室2的側(cè)壁120密封。每個隔板112包括兩個上開口的側(cè)面113和兩個脊114。脊114位于處理室的側(cè)壁120上。該實(shí)施例不是用V形的收集隔板17，而是在每個脊114處設(shè)置了本質(zhì)上水平延伸的板斜置的117，板117的上側(cè)邊緣設(shè)置在處理室2的側(cè)壁120上。在圖4所示的實(shí)施例中，每個(V形的)隔板112包括兩個側(cè)板。
圖5是圖4的更詳細(xì)的圖，圖示了本發(fā)明的處理裝置中氣泡的軌跡。在區(qū)域121中，氣泡在本質(zhì)上垂直上浮，直至氣泡與隔板112相接觸。在區(qū)域122中，氣泡沿著隔板112的底面向脊114處匯集。在到達(dá)脊114處時，氣泡沿著脊114的底面向收集隔板117(區(qū)域123)處匯集，隨后沿收集隔板117(區(qū)域124)排出。
權(quán)利要求
1.流體的處理裝置，該流體中含有液體、氣體和顆粒物質(zhì)，所述處理裝置包括·處理室，其中被注滿了流體，至少設(shè)有一個用于捕獲氣泡的隔板，該隔板具有朝下開口和朝上的脊，·排液口，設(shè)置在接近流體水平面的位置處，·供液口，在處理室的底部向處理室中供應(yīng)流體，和·排氣器，把在隔板下方捕獲的處理室中的氣泡排出，其特征在于，至少設(shè)置一個隔板，其縱向軸與水平面呈一個角度，從而，在處理室的底部注入的流體可以向斜上方流動，并且是被迫使沿著至少一個隔板的下側(cè)面流動，從而在至少一個隔板的脊的位置處匯集的溶于流體中的氣泡也隨之向斜上方流動，排氣器在水平面的下方捕獲在至少一個隔板的脊的位置處匯集的氣體。
2.如權(quán)利要求1所述的處理裝置，其特征在于，該處理裝置包括數(shù)個隔板，各隔板呈一字排開，均以傾斜的方式進(jìn)行設(shè)置，相鄰的隔板相互交錯并且相互平行。
3.如權(quán)利要求2所述的處理裝置，其特征在于，排氣器包括一個集氣管，該集氣管在本質(zhì)上穿過脊而水平地延伸，在隔板的內(nèi)側(cè)的靠近脊的位置處設(shè)有氣體的入口。
4.如權(quán)利要求2所述的處理裝置，其特征在于，排氣器包括一個集氣管，該集氣管在本質(zhì)上穿過脊而水平地延伸。
5.如上述任何一條權(quán)利要求所述的處理裝置，其特征在于，隔板與水平方向的夾角在30°至80°之間，尤其是在55°至65°之間，可以是60°。
6.如上述任何一條權(quán)利要求所述的處理裝置，其特征在于，隔板的橫截面在本質(zhì)上呈V形，其兩個側(cè)面的夾角在大約100°至130°之間，尤其是在大約110°至120之間。
7.如權(quán)利要求2至4其中之一所述的處理裝置，其特征在于，相鄰隔板之間的水平間距在2至8cm之間，尤其是在6cm左右。
8.凈化裝置，可對污水進(jìn)行有氧或厭氧凈化，該裝置包括·反應(yīng)室，可以是一種發(fā)酵室，·根據(jù)上述權(quán)利要求之一的處理裝置，設(shè)置在反應(yīng)室的上方，·除氣室，位于處理裝置的一旁，由分隔板分成第一室和第二室，第一室中含氣量較多，第二室中含氣量較少，在分隔板的上方，第一室和第二室是相通的，該除氣室設(shè)有一個排氣管，含氣量多的第一室與反應(yīng)室相通，含氣量少的第二室在處理裝置的處理室的底部設(shè)有出口，和·分隔元件，設(shè)置在反應(yīng)室和處理裝置的處理室之間，可以捕獲在反應(yīng)室內(nèi)上浮的氣泡，并把該氣泡排入除氣室的第一室中，而沉淀在處理室內(nèi)的顆粒則可以返回至反應(yīng)室中。
9.如權(quán)利要求8所述的凈化裝置，其中，分隔元件在本質(zhì)上包括水平設(shè)置的各集氣隔板，各集氣隔板以相鄰的方式進(jìn)行設(shè)置，它們的下端略微相互交錯，從而在相鄰的集氣隔板的下端之間就形成了垂直的空隙，以使沉淀在處理室內(nèi)的顆?？梢苑祷刂练磻?yīng)室內(nèi)。
10.對污水進(jìn)行厭氧凈化的方法，采用了如上述權(quán)利要求之一所述的裝置。
全文摘要
本發(fā)明涉及對含有液體、氣體和顆粒物質(zhì)進(jìn)行處理的處理裝置(2)。裝置(2)包括排液口(15)和供液口,排液口(15)位于靠近流體的水平面處,而供液口設(shè)置在處理室的底部。在處理室內(nèi)設(shè)置了一個或多個隔板(12),隔板(12)的縱向軸線與水平面呈一定的角度,在處理室的底部注入的流體向斜上方流動,并且是被迫沿著隔板的底面流動。流體內(nèi)含有的氣泡匯集在隔板的脊(17)的位置處。匯集在隔板的脊處的氣體由排氣器(18)捕獲,該排氣器(18)位于流體的水平面之下。尤其是,數(shù)個隔板(12)一字排開,以傾斜的方式進(jìn)行設(shè)置,相鄰的隔板相互交錯并且相互平行。隔板(12)與水平面的夾角呈60°,相鄰的兩隔板的間距大約為6cm。本發(fā)明還進(jìn)一步涉及包括處理裝置在內(nèi)的凈化裝置,以及用本發(fā)明的處理裝置或凈化裝置對污水進(jìn)行厭氧凈化的方法。
文檔編號C02F3/28GK1181026SQ96193107
公開日1998年5月6日 申請日期1996年4月10日 優(yōu)先權(quán)日1995年4月10日
發(fā)明者舒爾德·許貝特斯·約瑟夫·韋利尼格 申請人:帕克公司