本技術(shù)涉及永磁生產(chǎn),尤其涉及一種永磁雙水槽清洗裝置。
背景技術(shù):
1、永磁又稱“硬磁材料”,指的是一經(jīng)磁化即能保持恒定磁性的材料,實(shí)用中,永磁材料工作于深度磁飽和及充磁后磁滯回線的第二象限退磁部分,常用的永磁材料分為鋁鎳鈷系永磁合金、鐵鉻鈷系永磁合金、永磁鐵氧體、稀土永磁材料和復(fù)合永磁材料等。
2、現(xiàn)有技術(shù)中,公開號為cn218982514u的專利申請中公開了一種永磁鐵氧體磁瓦雙水槽清洗機(jī),包括浸潤箱、大水箱和振盒,浸潤箱固定設(shè)置于大水箱的一側(cè),振盒固定設(shè)置于大水向的內(nèi)側(cè)壁,將永磁放置到浸潤箱內(nèi),經(jīng)過醋酸溶液的侵泡后再利用板鏈放到大水箱內(nèi),啟動振盒和水共頻對永磁進(jìn)行清理,進(jìn)一步的提高清洗的效率和質(zhì)量。
3、但在前述的現(xiàn)有技術(shù)中,板鏈運(yùn)輸時間過快,不便于振盒對永磁進(jìn)行清理,容易出現(xiàn)清理不干凈的情況,增加工作人員的工作量。
技術(shù)實(shí)現(xiàn)思路
1、本實(shí)用新型的目的在于提供一種永磁雙水槽清洗裝置,旨在解決了現(xiàn)有技術(shù)中板鏈運(yùn)輸時間過快,不便于振盒對永磁進(jìn)行清理,容易出現(xiàn)清理不干凈的情況,增加工作人員工作量的問題。
2、為實(shí)現(xiàn)上述目的,本實(shí)用新型提供了一種永磁雙水槽清洗裝置,包括浸潤箱、大水箱、振盒和運(yùn)輸組件,所述運(yùn)輸組件包括第一支架、第二支架、導(dǎo)軌架、齒條、導(dǎo)軌座、電機(jī)、主動輪、安裝架、機(jī)械抓手、電動滑軌和滑座,所述浸潤箱設(shè)置于所述大水箱的一側(cè),所述振盒與所述大水箱固定連接,并位于所述大水箱的內(nèi)側(cè)壁,所述第一支架與所述浸潤箱固定連接,并位于所述浸潤箱的上方,所述第二支架與所述大水箱固定連接,并位于所述大水箱的上方,所述導(dǎo)軌架分別與所述第一支架和所述第二支架固定連接,并位于所述第一支架和所述第二支架的上方,所述導(dǎo)軌座與所述導(dǎo)軌架滑動連接,并位于所述導(dǎo)軌架的上方,所述齒條與所述導(dǎo)軌架固定連接,并位于所述導(dǎo)軌架的內(nèi)底壁,所述電機(jī)與所述導(dǎo)軌座拆卸連接,并位于所述導(dǎo)軌座的上方,所述電機(jī)的輸出端貫穿所述導(dǎo)軌座,所述主動輪與所述電機(jī)固定連接,并位于所述電機(jī)的輸出端,且所述主動輪與所述齒條嚙合,所述安裝架與所述導(dǎo)軌座固定連接,并位于所述導(dǎo)軌座的上方,所述電動滑軌與所述安裝架固定連接,并位于所述安裝架的一側(cè),所述滑座與所述電動滑軌滑動連接,并位于所述電動滑軌的輸出端,所述機(jī)械抓手與所述滑座拆卸連接,并位于所述滑座的一側(cè)。
3、其中,所述運(yùn)輸組件還包括控制面板,所述控制面板與所述大水箱固定連接,并位于所述大水箱的外側(cè)壁,且所述控制面板均與所述機(jī)械抓手和所述電機(jī)電性連接。
4、其中,所述永磁雙水槽清洗裝置還包括限位組件,所述限位組件設(shè)置于所述導(dǎo)軌架的一側(cè)。
5、其中,所述限位組件包括限位板、軟墊和多個緊固螺栓,所述限位板與所述導(dǎo)軌架拆卸連接,并位于所述導(dǎo)軌架的一端,所述軟墊與所述限位板固定連接,并位于所述限位板的一側(cè),多個所述緊固螺栓均貫穿所述限位板和所述導(dǎo)軌架。
6、其中,所述永磁雙水槽清洗裝置還包括置物組件,所述置物組件設(shè)置于所述大水箱的一側(cè)。
7、其中,所述置物組件包括兩個斜架和多個圓桿,兩個所述斜架均與所述大水箱固定連接,并分別位于所述大水箱的外側(cè)壁,多個所述圓桿均與兩個所述斜架固定連接,并分別位于兩個所述斜架之間。
8、本實(shí)用新型的一種永磁雙水槽清洗裝置,啟動所述電機(jī),使其帶動所述主動輪旋轉(zhuǎn),由于所述主動輪與所述齒條嚙合,會驅(qū)使所述導(dǎo)軌座在所述導(dǎo)軌架上進(jìn)行移動,再啟動所述電動滑軌,使其帶動所述滑座一側(cè)所述機(jī)械抓手上下調(diào)節(jié)高度,然后再控制所述機(jī)械抓手,抓取永磁材料,通過這樣的方式提高所述振盒對永磁清理的時間,避免出現(xiàn)清理不干凈的情況,能有效的減少工作人員的工作量。
1.一種永磁雙水槽清洗裝置,包括浸潤箱、大水箱和振盒,所述浸潤箱設(shè)置于所述大水箱的一側(cè),所述振盒與所述大水箱固定連接,并位于所述大水箱的內(nèi)側(cè)壁,其特征在于,
2.如權(quán)利要求1所述的永磁雙水槽清洗裝置,其特征在于,
3.如權(quán)利要求2所述的永磁雙水槽清洗裝置,其特征在于,
4.如權(quán)利要求3所述的永磁雙水槽清洗裝置,其特征在于,
5.如權(quán)利要求4所述的永磁雙水槽清洗裝置,其特征在于,
6.如權(quán)利要求5所述的永磁雙水槽清洗裝置,其特征在于,