本技術(shù)涉及等離子清洗，尤其涉及一種真空清洗設(shè)備。

背景技術(shù)：

1、等離子清洗機(jī)(plasma?cleaner)也叫等離子清潔機(jī)，或者等離子表面處理儀，是一種全新的高科技技術(shù)，利用等離子體來(lái)達(dá)到常規(guī)清洗方法無(wú)法達(dá)到的效果，現(xiàn)有的等離子清洗機(jī)的結(jié)構(gòu)較為簡(jiǎn)單，目前等離子清洗機(jī)上下料不方便，工作效率低，清洗速度慢。

技術(shù)實(shí)現(xiàn)思路

1、本實(shí)用新型提供一種真空清洗設(shè)備，用以解決現(xiàn)有技術(shù)中等離子清洗機(jī)上下料不方便，工作效率低，清洗速度慢的問(wèn)題。

2、一種真空清洗設(shè)備，包括上料接駁臺(tái)、等離子清洗機(jī)本體和下料接駁臺(tái)；所述等離子清洗機(jī)本體的進(jìn)料口設(shè)置有所述上料接駁臺(tái)，所述等離子清洗機(jī)本體的出料口設(shè)置有下料接駁臺(tái)。

3、根據(jù)本實(shí)用新型的真空清洗設(shè)備，所述等離子清洗機(jī)本體包括電氣柜、等離子清洗腔體和真空泵；所述等離子清洗機(jī)本體下部設(shè)置有所述電氣柜，所述等離子清洗機(jī)本體上部設(shè)置有所述等離子清洗腔體，所述真空泵設(shè)置在所述等離子清洗機(jī)本體的外部。

4、根據(jù)本實(shí)用新型的真空清洗設(shè)備，還包括斷路保護(hù)器和變頻器，所述等離子清洗機(jī)本體下部側(cè)邊設(shè)置有所述斷路保護(hù)器和變頻器。

5、根據(jù)本實(shí)用新型的真空清洗設(shè)備，還包括多個(gè)腳輪和多個(gè)支撐臺(tái)，所述等離子清洗機(jī)本體的底部設(shè)置有所述腳輪和所述支撐臺(tái)，所述支撐臺(tái)為可升降支撐臺(tái)。

6、根據(jù)本實(shí)用新型的真空清洗設(shè)備，還包括顯示器和報(bào)警燈，所述等離子清洗機(jī)本體還設(shè)置有顯示器和報(bào)警燈。

7、根據(jù)本實(shí)用新型的真空清洗設(shè)備，還包括觀(guān)察窗，所述等離子清洗機(jī)本體的前面板設(shè)置有觀(guān)察窗的窗口。

8、根據(jù)本實(shí)用新型的真空清洗設(shè)備，所述觀(guān)察窗包括第一法蘭、視窗管和第二法蘭；所述第一法蘭設(shè)置在所述等離子清洗機(jī)本體的前面板，所述第二法蘭設(shè)置在所述等離子清洗腔體上，所述視窗管固定連接所述第一法蘭和所述第二法蘭。

9、根據(jù)本實(shí)用新型的真空清洗設(shè)備，所述下料接駁臺(tái)包括驅(qū)動(dòng)機(jī)構(gòu)、同步帶和接駁臺(tái)框架；所述同步帶設(shè)置在所述接駁臺(tái)框架上，所述驅(qū)動(dòng)機(jī)構(gòu)驅(qū)動(dòng)所述同步帶。

10、根據(jù)本實(shí)用新型的真空清洗設(shè)備，還包括升降機(jī)構(gòu)，所述升降機(jī)構(gòu)固定在所述接駁臺(tái)框架上，所述升降機(jī)構(gòu)對(duì)所述同步帶進(jìn)行升降。

11、根據(jù)本實(shí)用新型的真空清洗設(shè)備，還包括限位軸，所述限位軸設(shè)置在所述同步帶的兩側(cè)。

12、與現(xiàn)有技術(shù)相比，本實(shí)用新型的有益效果是：

13、通過(guò)上料接駁臺(tái)和下料接駁臺(tái)上下料方便，工作效率高，清洗速度快。當(dāng)需要移動(dòng)時(shí)，支撐臺(tái)收回來(lái)，腳輪支撐移動(dòng)，當(dāng)需要支撐時(shí)，支撐臺(tái)立起來(lái)進(jìn)行支撐，腳輪不著地，移動(dòng)方便并且支撐力大。觀(guān)察窗能夠?qū)崟r(shí)清晰地觀(guān)察清洗情況。

技術(shù)特征：

1.一種真空清洗設(shè)備，其特征在于，包括上料接駁臺(tái)、等離子清洗機(jī)本體和下料接駁臺(tái)；所述等離子清洗機(jī)本體的進(jìn)料口設(shè)置有所述上料接駁臺(tái)，所述等離子清洗機(jī)本體的出料口設(shè)置有下料接駁臺(tái)。

2.根據(jù)權(quán)利要求1所述的真空清洗設(shè)備，其特征在于，所述等離子清洗機(jī)本體包括電氣柜、等離子清洗腔體和真空泵；所述等離子清洗機(jī)本體下部設(shè)置有所述電氣柜，所述等離子清洗機(jī)本體上部設(shè)置有所述等離子清洗腔體，所述真空泵設(shè)置在所述等離子清洗機(jī)本體的外部。

3.根據(jù)權(quán)利要求2所述的真空清洗設(shè)備，其特征在于，還包括斷路保護(hù)器和變頻器，所述等離子清洗機(jī)本體下部側(cè)邊設(shè)置有所述斷路保護(hù)器和變頻器。

4.根據(jù)權(quán)利要求2所述的真空清洗設(shè)備，其特征在于，還包括多個(gè)腳輪和多個(gè)支撐臺(tái)，所述等離子清洗機(jī)本體的底部設(shè)置有所述腳輪和所述支撐臺(tái)，所述支撐臺(tái)為可升降支撐臺(tái)。

5.根據(jù)權(quán)利要求2所述的真空清洗設(shè)備，其特征在于，還包括顯示器和報(bào)警燈，所述等離子清洗機(jī)本體還設(shè)置有顯示器和報(bào)警燈。

6.根據(jù)權(quán)利要求2所述的真空清洗設(shè)備，其特征在于，還包括觀(guān)察窗，所述等離子清洗機(jī)本體的前面板設(shè)置有觀(guān)察窗的窗口。

7.根據(jù)權(quán)利要求6所述的真空清洗設(shè)備，其特征在于，所述觀(guān)察窗包括第一法蘭、視窗管和第二法蘭；所述第一法蘭設(shè)置在所述等離子清洗機(jī)本體的前面板，所述第二法蘭設(shè)置在所述等離子清洗腔體上，所述視窗管固定連接所述第一法蘭和所述第二法蘭。

8.根據(jù)權(quán)利要求1所述的真空清洗設(shè)備，其特征在于，所述下料接駁臺(tái)包括驅(qū)動(dòng)機(jī)構(gòu)、同步帶和接駁臺(tái)框架；所述同步帶設(shè)置在所述接駁臺(tái)框架上，所述驅(qū)動(dòng)機(jī)構(gòu)驅(qū)動(dòng)所述同步帶。

9.根據(jù)權(quán)利要求8所述的真空清洗設(shè)備，其特征在于，還包括升降機(jī)構(gòu)，所述升降機(jī)構(gòu)固定在所述接駁臺(tái)框架上，所述升降機(jī)構(gòu)對(duì)所述同步帶進(jìn)行升降。

10.根據(jù)權(quán)利要求8所述的真空清洗設(shè)備，其特征在于，還包括限位軸，所述限位軸設(shè)置在所述同步帶的兩側(cè)。

技術(shù)總結(jié)
本技術(shù)涉及等離子清洗技術(shù)領(lǐng)域，提供一種真空清洗設(shè)備，包括上料接駁臺(tái)、等離子清洗機(jī)本體和下料接駁臺(tái)；所述等離子清洗機(jī)本體的進(jìn)料口設(shè)置有所述上料接駁臺(tái)，所述等離子清洗機(jī)本體的出料口設(shè)置有下料接駁臺(tái)。通過(guò)上料接駁臺(tái)和下料接駁臺(tái)上下料方便，工作效率高，清洗速度快。

技術(shù)研發(fā)人員：張延忠,趙永先,鄧燕
受保護(hù)的技術(shù)使用者：泰姆瑞（北京）精密技術(shù)有限公司
技術(shù)研發(fā)日：20240412
技術(shù)公布日：2024/12/19