本技術(shù)涉及等離子清洗，尤其涉及一種清洗裝置。

背景技術(shù)：

1、等離子清洗機(jī)是利用等離子對(duì)產(chǎn)品進(jìn)行清洗的清洗裝置?，F(xiàn)有的清洗裝置包括用于放置電極板的腔體以及設(shè)置在腔體內(nèi)的電極板和托架，由于電極板通過(guò)電離釋放等離子體從而達(dá)到對(duì)腔體內(nèi)的產(chǎn)品進(jìn)行清洗。現(xiàn)有的等離子清洗不能適應(yīng)多種寬度工件并且兩面清洗的目的。

技術(shù)實(shí)現(xiàn)思路

1、本實(shí)用新型提供一種清洗裝置，用以解決現(xiàn)有技術(shù)中等離子清洗不能適應(yīng)多種寬度工件并且兩面清洗的目的的問(wèn)題。

2、一種清洗裝置，包括上蓋、下腔體、多個(gè)密封組件、上電極板、下電極板和至少一個(gè)傳動(dòng)組件；所述上蓋和所述下腔體形成真空腔體，所述密封組件設(shè)置在所述真空腔體的進(jìn)口端和出口端，所述密封組件用于對(duì)所述真空腔體進(jìn)行密封，所述傳動(dòng)組件設(shè)置在所述真空腔體內(nèi)部，所述上蓋的下部設(shè)置有所述上電極板，所述下腔體設(shè)置有所述下電極板。

3、根據(jù)本實(shí)用新型的清洗裝置，所述密封組件包括密封板、密封氣缸連接桿和至少一個(gè)導(dǎo)向機(jī)構(gòu)；所述密封氣缸連接桿固定在所述密封板的下邊側(cè)，所述導(dǎo)向機(jī)構(gòu)對(duì)稱(chēng)設(shè)置在所述密封氣缸連接桿的兩側(cè)，所述密封板的左右兩側(cè)設(shè)置有斜凹槽。

4、根據(jù)本實(shí)用新型的清洗裝置，所述傳動(dòng)組件包括驅(qū)動(dòng)組件和調(diào)整組件；所述調(diào)整組件設(shè)置在所述驅(qū)動(dòng)組件的兩側(cè)。

5、根據(jù)本實(shí)用新型的清洗裝置，所述驅(qū)動(dòng)組件包括第二驅(qū)動(dòng)、傳輸帶、驅(qū)動(dòng)輪和驅(qū)動(dòng)軸；所述第二驅(qū)動(dòng)驅(qū)動(dòng)所述驅(qū)動(dòng)軸，所述驅(qū)動(dòng)軸驅(qū)動(dòng)所述驅(qū)動(dòng)輪，所述驅(qū)動(dòng)輪驅(qū)動(dòng)所述傳輸帶。

6、根據(jù)本實(shí)用新型的清洗裝置，所述調(diào)整組件包括第一驅(qū)動(dòng)、至少一個(gè)絲杠和至少一個(gè)導(dǎo)向光軸；所述第一驅(qū)動(dòng)驅(qū)動(dòng)所述絲杠調(diào)整，所述絲杠和所述導(dǎo)向光軸穿設(shè)設(shè)置在所述調(diào)整支撐座上，所述導(dǎo)向光軸導(dǎo)向作用。

7、根據(jù)本實(shí)用新型的清洗裝置，還包括電極和氣體管，所述上蓋的上部設(shè)置有所述電極和所述氣體管。

8、根據(jù)本實(shí)用新型的清洗裝置，還包括上蓋冷卻水路，所述上蓋的上部設(shè)置上蓋冷卻水路，所述上蓋冷卻水路為凹形。

9、根據(jù)本實(shí)用新型的清洗裝置，還包括進(jìn)物料檢測(cè)傳感器安裝座和出物料檢測(cè)傳感器安裝座；所述下腔體的進(jìn)料口上方設(shè)置有進(jìn)物料檢測(cè)傳感器安裝座，所述下腔體的出料口上方設(shè)置出物料檢測(cè)傳感器安裝座。

10、根據(jù)本實(shí)用新型的清洗裝置，還包括支撐組件，所述下腔體內(nèi)部傳輸方向?qū)ΨQ(chēng)設(shè)置有所述支撐組件。

11、根據(jù)本實(shí)用新型的清洗裝置，所述支撐組件包括支撐輪、支撐金屬絲、多孔固定座和支撐座，所述支撐輪設(shè)置在所述支撐座上，所述支撐金屬絲設(shè)置在所述支撐座的上部，所述支撐座的下部設(shè)置在所述多孔固定座上，所述支撐座下部為t形。

12、本實(shí)用新型具有以下優(yōu)點(diǎn)：

13、通過(guò)傳輸帶和支撐金屬絲的傳輸，對(duì)工件能進(jìn)行兩面清洗，提高了清洗效率。

14、2、通過(guò)第一驅(qū)動(dòng)驅(qū)動(dòng)絲杠，能夠根據(jù)工件的寬度進(jìn)行調(diào)整，適用多種寬度的工件。

技術(shù)特征：

1.一種清洗裝置，其特征在于，包括上蓋、下腔體、多個(gè)密封組件、上電極板、下電極板和至少一個(gè)傳動(dòng)組件；所述上蓋和所述下腔體形成真空腔體，所述密封組件設(shè)置在所述真空腔體的進(jìn)口端和出口端，所述密封組件用于對(duì)所述真空腔體進(jìn)行密封，所述傳動(dòng)組件設(shè)置在所述真空腔體內(nèi)部，所述上蓋的下部設(shè)置有所述上電極板，所述下腔體設(shè)置有所述下電極板。

2.根據(jù)權(quán)利要求1所述的清洗裝置，其特征在于，所述密封組件包括密封板、密封氣缸連接桿和至少一個(gè)導(dǎo)向機(jī)構(gòu)；所述密封氣缸連接桿固定在所述密封板的下邊側(cè)，所述導(dǎo)向機(jī)構(gòu)對(duì)稱(chēng)設(shè)置在所述密封氣缸連接桿的兩側(cè)，所述密封板的左右兩側(cè)設(shè)置有斜凹槽。

3.根據(jù)權(quán)利要求1所述的清洗裝置，其特征在于，所述傳動(dòng)組件包括驅(qū)動(dòng)組件和調(diào)整組件；所述調(diào)整組件設(shè)置在所述驅(qū)動(dòng)組件的兩側(cè)。

4.根據(jù)權(quán)利要求3所述的清洗裝置，其特征在于，所述驅(qū)動(dòng)組件包括第二驅(qū)動(dòng)、傳輸帶、驅(qū)動(dòng)輪和驅(qū)動(dòng)軸；所述第二驅(qū)動(dòng)驅(qū)動(dòng)所述驅(qū)動(dòng)軸，所述驅(qū)動(dòng)軸驅(qū)動(dòng)所述驅(qū)動(dòng)輪，所述驅(qū)動(dòng)輪驅(qū)動(dòng)所述傳輸帶。

5.根據(jù)權(quán)利要求3所述的清洗裝置，其特征在于，所述調(diào)整組件包括第一驅(qū)動(dòng)、調(diào)整支撐座、至少一個(gè)絲杠和至少一個(gè)導(dǎo)向光軸；所述第一驅(qū)動(dòng)驅(qū)動(dòng)所述絲杠調(diào)整，所述絲杠和所述導(dǎo)向光軸穿設(shè)設(shè)置在所述調(diào)整支撐座上，所述導(dǎo)向光軸導(dǎo)向作用。

6.根據(jù)權(quán)利要求1所述的清洗裝置，其特征在于，還包括電極和氣體管，所述上蓋的上部設(shè)置有所述電極和所述氣體管。

7.根據(jù)權(quán)利要求1所述的清洗裝置，其特征在于，還包括上蓋冷卻水路，所述上蓋的上部設(shè)置上蓋冷卻水路，所述上蓋冷卻水路為凹形。

8.根據(jù)權(quán)利要求1所述的清洗裝置，其特征在于，還包括進(jìn)物料檢測(cè)傳感器安裝座和出物料檢測(cè)傳感器安裝座；所述下腔體的進(jìn)料口上方設(shè)置有進(jìn)物料檢測(cè)傳感器安裝座，所述下腔體的出料口上方設(shè)置出物料檢測(cè)傳感器安裝座。

9.根據(jù)權(quán)利要求1所述的清洗裝置，其特征在于，還包括支撐組件，所述下腔體內(nèi)部傳輸方向?qū)ΨQ(chēng)設(shè)置有所述支撐組件。

10.根據(jù)權(quán)利要求9所述的清洗裝置，其特征在于，所述支撐組件包括支撐輪、支撐金屬絲、多孔固定座和支撐座，所述支撐輪設(shè)置在所述支撐座上，所述支撐金屬絲設(shè)置在所述支撐座的上部，所述支撐座的下部設(shè)置在所述多孔固定座上，所述支撐座下部為t形。

技術(shù)總結(jié)
本技術(shù)涉及等離子清洗技術(shù)領(lǐng)域，提供一種清洗裝置，包括上蓋、下腔體、多個(gè)密封組件、上電極板、下電極板和至少一個(gè)傳動(dòng)組件；所述上蓋和所述下腔體形成真空腔體，所述密封組件設(shè)置在所述真空腔體的進(jìn)口端和出口端，所述密封組件用于對(duì)所述真空腔體進(jìn)行密封，所述傳動(dòng)組件設(shè)置在所述真空腔體內(nèi)部，所述上蓋的下部設(shè)置有所述上電極板，所述下腔體設(shè)置有所述下電極板。通過(guò)傳輸帶和支撐金屬絲的傳輸，對(duì)工件能進(jìn)行兩面清洗，提高了清洗效率。通過(guò)第一驅(qū)動(dòng)驅(qū)動(dòng)絲杠，能夠根據(jù)工件的寬度進(jìn)行調(diào)整，適用多種寬度的工件。

技術(shù)研發(fā)人員：張延忠,趙永先,鄧燕
受保護(hù)的技術(shù)使用者：泰姆瑞（北京）精密技術(shù)有限公司
技術(shù)研發(fā)日：20240412
技術(shù)公布日：2024/12/19