本發(fā)明涉及儲(chǔ)罐輔助設(shè)備的，尤其涉及一種恒溫恒壓儲(chǔ)料罐的除垢裝置。

背景技術(shù)：

1、恒溫恒壓儲(chǔ)料罐是一種具有恒溫和恒壓內(nèi)部環(huán)境控制功能的儲(chǔ)料設(shè)備，通常用于存儲(chǔ)易燃易爆、有毒或其他特殊性質(zhì)的化工產(chǎn)品。這種罐體的日常除垢工作對(duì)防止儲(chǔ)罐內(nèi)部污垢積聚，保持儲(chǔ)罐日常使用的安全性，并且延長(zhǎng)設(shè)備使用壽命有較大幫助。

2、恒溫恒壓的儲(chǔ)料罐內(nèi)部需要保持穩(wěn)定的物料狀態(tài)，在物料儲(chǔ)存過程中不便于進(jìn)行除垢操作，通常是在更新儲(chǔ)罐容納物料之前，利用外部的除垢裝置來保證其恒溫恒壓儲(chǔ)料罐內(nèi)部的清潔，從而實(shí)現(xiàn)恒溫恒壓儲(chǔ)料罐的長(zhǎng)期穩(wěn)定、安全運(yùn)行。

技術(shù)實(shí)現(xiàn)思路

1、鑒于上述現(xiàn)有恒溫恒壓儲(chǔ)料罐的除垢裝置存在的問題，提出了本發(fā)明。

2、因此，本發(fā)明提供一種恒溫恒壓儲(chǔ)料罐的除垢裝置，其目的在于：解決恒溫恒壓的儲(chǔ)料罐內(nèi)部需要保持穩(wěn)定的物料狀態(tài)，在物料儲(chǔ)存過程中不便于進(jìn)行除垢操作，通常在更新儲(chǔ)罐容納物料之前，需要利用外部的除垢裝置來保證其恒溫恒壓儲(chǔ)料罐內(nèi)部的清潔的技術(shù)問題。

3、為解決上述技術(shù)問題，本發(fā)明提供如下技術(shù)方案：一種恒溫恒壓儲(chǔ)料罐的除垢裝置，包括基座單元、控制單元，以及除垢單元。

4、其中，基座單元，包括基座、設(shè)置于所述基座上的控制部，以及設(shè)置于所述基座上，且與儲(chǔ)料罐單元對(duì)應(yīng)設(shè)置的固定部；控制單元，包括設(shè)置于所述基座上的控制臂，以及設(shè)置于所述控制臂上的控制氣缸；以及，除垢單元，包括設(shè)置于所述控制氣缸活塞端的調(diào)節(jié)組件、設(shè)置于所述調(diào)節(jié)組件上的除垢導(dǎo)向組件、滑動(dòng)設(shè)置于所述除垢導(dǎo)向組件上的除垢組件，以及設(shè)置于所述除垢導(dǎo)向組件上的供水組件。

5、作為本發(fā)明所述恒溫恒壓儲(chǔ)料罐的除垢裝置的一種優(yōu)選方案，其中：所述調(diào)節(jié)組件，包括設(shè)置于所述控制氣缸上的轉(zhuǎn)動(dòng)座、設(shè)置于所述轉(zhuǎn)動(dòng)座上，且轉(zhuǎn)動(dòng)軸與所述轉(zhuǎn)動(dòng)座之間呈°夾角的轉(zhuǎn)動(dòng)電機(jī)，以及設(shè)置于所述轉(zhuǎn)動(dòng)電機(jī)驅(qū)動(dòng)端，且與所述轉(zhuǎn)動(dòng)座之間轉(zhuǎn)動(dòng)連接的安裝座。

6、作為本發(fā)明所述恒溫恒壓儲(chǔ)料罐的除垢裝置的一種優(yōu)選方案，其中：所述除垢導(dǎo)向組件，包括轉(zhuǎn)動(dòng)設(shè)置于所述安裝座上的噴水柱，以及設(shè)置于所述噴水柱上的導(dǎo)向部。

7、作為本發(fā)明所述恒溫恒壓儲(chǔ)料罐的除垢裝置的一種優(yōu)選方案，其中：所述噴水柱上設(shè)置有用于設(shè)置供水組件的凹槽，所述噴水柱上設(shè)置有用于對(duì)所述除垢組件進(jìn)行清潔的凸塊。

8、作為本發(fā)明所述恒溫恒壓儲(chǔ)料罐的除垢裝置的一種優(yōu)選方案，其中：所述導(dǎo)向部，包括設(shè)置于所述噴水柱上的導(dǎo)向安裝桿、設(shè)置于所述導(dǎo)向安裝桿上的導(dǎo)向桿，以及設(shè)置于所述導(dǎo)向安裝桿上，且與所述導(dǎo)向桿平行設(shè)置的絲杠電機(jī)。

9、作為本發(fā)明所述恒溫恒壓儲(chǔ)料罐的除垢裝置的一種優(yōu)選方案，其中：所述除垢組件，包括與所述噴水柱和所述導(dǎo)向桿滑動(dòng)連接，且與所述絲杠電機(jī)螺紋連接的除垢座，以及設(shè)置于所述除垢座上的除垢部。

10、作為本發(fā)明所述恒溫恒壓儲(chǔ)料罐的除垢裝置的一種優(yōu)選方案，其中：所述除垢部，包括轉(zhuǎn)動(dòng)設(shè)置于所述除垢座上的除垢轉(zhuǎn)軸，以及設(shè)置于所述除垢轉(zhuǎn)軸上的除垢片。

11、作為本發(fā)明所述恒溫恒壓儲(chǔ)料罐的除垢裝置的一種優(yōu)選方案，其中：所述供水組件，包括設(shè)置于所述噴水柱上的供水管，以及設(shè)置于所述噴水柱上的高壓噴嘴。

12、作為本發(fā)明所述恒溫恒壓儲(chǔ)料罐的除垢裝置的一種優(yōu)選方案，其中：所述控制部，包括設(shè)置于所述基座上的定位桿、設(shè)置于所述定位桿上的驅(qū)動(dòng)底座，以及設(shè)置于所述驅(qū)動(dòng)底座上的伸縮氣缸。

13、作為本發(fā)明所述恒溫恒壓儲(chǔ)料罐的除垢裝置的一種優(yōu)選方案，其中：所述固定部，包括設(shè)置于所述基座上的固定基座、設(shè)置于所述伸縮氣缸活塞端的升降座、轉(zhuǎn)動(dòng)設(shè)置于所述升降座上，且一端轉(zhuǎn)動(dòng)設(shè)置于所述固定基座上的連桿，以及轉(zhuǎn)動(dòng)設(shè)置于所述連桿上的固定爪。

14、本發(fā)明的有益效果：通過設(shè)置基座單元，將控制單元和除垢單元設(shè)置在恒溫恒壓的儲(chǔ)料罐上，實(shí)現(xiàn)儲(chǔ)料罐更新內(nèi)部容納物料之前的徹底清潔，避免影響儲(chǔ)料罐內(nèi)部的容納空間一體性，利用控制單元對(duì)除垢單元相對(duì)于儲(chǔ)料罐內(nèi)部的位置進(jìn)行調(diào)節(jié)，并且利用除垢導(dǎo)向組件對(duì)除垢組件的姿態(tài)和位置進(jìn)行控制，實(shí)現(xiàn)對(duì)儲(chǔ)料罐內(nèi)部的全方位除垢，配合供水組件，在除垢組件直接清理的同時(shí)，配合高壓水柱，進(jìn)一步提高對(duì)儲(chǔ)料罐內(nèi)壁的除垢，提高除垢的自動(dòng)化，避免在儲(chǔ)料罐內(nèi)部設(shè)置除垢組件，減少儲(chǔ)料罐內(nèi)壁的除垢死角。

15、附圖說明

16、為了更清楚地說明本發(fā)明實(shí)施例的技術(shù)方案，下面將對(duì)實(shí)施例描述中所需要使用的附圖作簡(jiǎn)單的介紹，顯而易見地，下面描述中的附圖僅僅是本發(fā)明的一些實(shí)施例，對(duì)于本領(lǐng)域普通技術(shù)人員來講，在不付出創(chuàng)造性勞動(dòng)的前提下，還可以根據(jù)這些附圖獲得其他的附圖。

17、圖1為本發(fā)明恒溫恒壓儲(chǔ)料罐的除垢裝置的整體結(jié)構(gòu)示意圖。

18、圖2為本發(fā)明恒溫恒壓儲(chǔ)料罐的除垢裝置的剖視圖一。

19、圖3為本發(fā)明恒溫恒壓儲(chǔ)料罐的除垢裝置的剖視圖二。

20、圖4為本發(fā)明恒溫恒壓儲(chǔ)料罐的除垢裝置中控制單元和除垢單元的結(jié)構(gòu)示意圖。

21、圖5為本發(fā)明恒溫恒壓儲(chǔ)料罐的除垢裝置中基座單元的結(jié)構(gòu)示意圖。

22、圖6為本發(fā)明恒溫恒壓儲(chǔ)料罐的除垢裝置中控制單元和除垢單元的爆炸圖。

23、圖7為本發(fā)明恒溫恒壓儲(chǔ)料罐的除垢裝置中除垢導(dǎo)向組件的結(jié)構(gòu)示意圖。

24、圖8為本發(fā)明恒溫恒壓儲(chǔ)料罐的除垢裝置中除垢組件的結(jié)構(gòu)示意圖。

技術(shù)特征：

1.一種恒溫恒壓儲(chǔ)料罐的除垢裝置，其特征在于：包括，

2.根據(jù)權(quán)利要求1所述的恒溫恒壓儲(chǔ)料罐的除垢裝置，其特征在于：所述調(diào)節(jié)組件（301），包括設(shè)置于所述控制氣缸（202）上的轉(zhuǎn)動(dòng)座（301a）、設(shè)置于所述轉(zhuǎn)動(dòng)座（301a）上，且轉(zhuǎn)動(dòng)軸與所述轉(zhuǎn)動(dòng)座（301a）之間呈45°夾角的轉(zhuǎn)動(dòng)電機(jī)（301b），以及設(shè)置于所述轉(zhuǎn)動(dòng)電機(jī)（301b）驅(qū)動(dòng)端，且與所述轉(zhuǎn)動(dòng)座（301a）之間轉(zhuǎn)動(dòng)連接的安裝座（301c）。

3.根據(jù)權(quán)利要求2所述的恒溫恒壓儲(chǔ)料罐的除垢裝置，其特征在于：所述除垢導(dǎo)向組件（302），包括轉(zhuǎn)動(dòng)設(shè)置于所述安裝座（301c）上的噴水柱（302a），以及設(shè)置于所述噴水柱（302a）上的導(dǎo)向部（302b）。

4.根據(jù)權(quán)利要求3所述的恒溫恒壓儲(chǔ)料罐的除垢裝置，其特征在于：所述噴水柱（302a）上設(shè)置有用于設(shè)置供水組件（304）的凹槽（302a-1），所述噴水柱（302a）上設(shè)置有用于對(duì)所述除垢組件（303）進(jìn)行清潔的凸塊（302a-2）。

5.根據(jù)權(quán)利要求3或4所述的恒溫恒壓儲(chǔ)料罐的除垢裝置，其特征在于：所述導(dǎo)向部（302b），包括設(shè)置于所述噴水柱（302a）上的導(dǎo)向安裝桿（302b-1）、設(shè)置于所述導(dǎo)向安裝桿（302b-1）上的導(dǎo)向桿（302b-2），以及設(shè)置于所述導(dǎo)向安裝桿（302b-1）上，且與所述導(dǎo)向桿（302b-2）平行設(shè)置的絲杠電機(jī)（302b-3）。

6.根據(jù)權(quán)利要求5所述的恒溫恒壓儲(chǔ)料罐的除垢裝置，其特征在于：所述除垢組件（303），包括與所述噴水柱（302a）和所述導(dǎo)向桿（302b-2）滑動(dòng)連接，且與所述絲杠電機(jī)（302b-3）螺紋連接的除垢座（303a），以及設(shè)置于所述除垢座（303a）上的除垢部（303b）。

7.根據(jù)權(quán)利要求6所述的恒溫恒壓儲(chǔ)料罐的除垢裝置，其特征在于：所述除垢部（303b），包括轉(zhuǎn)動(dòng)設(shè)置于所述除垢座（303a）上的除垢轉(zhuǎn)軸（303b-1），以及設(shè)置于所述除垢轉(zhuǎn)軸（303b-1）上的除垢片（303b-2）。

8.根據(jù)權(quán)利要求7所述的恒溫恒壓儲(chǔ)料罐的除垢裝置，其特征在于：所述供水組件（304），包括設(shè)置于所述噴水柱（302a）上的供水管（304a），以及設(shè)置于所述噴水柱（302a）上的高壓噴嘴（304b）。

9.根據(jù)權(quán)利要求8所述的恒溫恒壓儲(chǔ)料罐的除垢裝置，其特征在于：所述控制部（102），包括設(shè)置于所述基座（101）上的定位桿（102a）、設(shè)置于所述定位桿（102a）上的驅(qū)動(dòng)底座（102b），以及設(shè)置于所述驅(qū)動(dòng)底座（102b）上的伸縮氣缸（102c）。

10.根據(jù)權(quán)利要求9所述的恒溫恒壓儲(chǔ)料罐的除垢裝置，其特征在于：所述固定部（103），包括設(shè)置于所述基座（101）上的固定基座（103a）、設(shè)置于所述伸縮氣缸（102c）活塞端的升降座（103b）、轉(zhuǎn)動(dòng)設(shè)置于所述升降座（103b）上，且一端轉(zhuǎn)動(dòng)設(shè)置于所述固定基座（103a）上的連桿（103c），以及轉(zhuǎn)動(dòng)設(shè)置于所述連桿（103c）上的固定爪（103d）。

技術(shù)總結(jié)
本發(fā)明涉及儲(chǔ)罐輔助設(shè)備的技術(shù)領(lǐng)域，公開了一種恒溫恒壓儲(chǔ)料罐的除垢裝置，包括基座單元、控制單元，以及除垢單元。該恒溫恒壓儲(chǔ)料罐的除垢裝置，通過設(shè)置基座單元，將控制單元和除垢單元設(shè)置在恒溫恒壓的儲(chǔ)料罐上，實(shí)現(xiàn)儲(chǔ)料罐更新內(nèi)部容納物料之前的徹底清潔，利用控制單元對(duì)除垢單元相對(duì)于儲(chǔ)料罐內(nèi)部的位置進(jìn)行調(diào)節(jié)，并且利用除垢導(dǎo)向組件對(duì)除垢組件的姿態(tài)和位置進(jìn)行控制，實(shí)現(xiàn)對(duì)儲(chǔ)料罐內(nèi)部的全方位除垢，配合供水組件，在除垢組件直接清理的同時(shí)，配合高壓水柱，進(jìn)一步提高對(duì)儲(chǔ)料罐內(nèi)壁的除垢，提高除垢的自動(dòng)化，避免在儲(chǔ)料罐內(nèi)部設(shè)置除垢組件，減少儲(chǔ)料罐內(nèi)壁的除垢死角。

技術(shù)研發(fā)人員：毛偉杰,吳凱,朱小龍,侯艷華,鐘敏,顧議文,徐燁清
受保護(hù)的技術(shù)使用者：江蘇揚(yáng)陽化工設(shè)備制造有限公司
技術(shù)研發(fā)日：
技術(shù)公布日：2024/12/19