本實(shí)用新型涉及一種刻蝕液廢液領(lǐng)域，具體是一種銅刻蝕液廢液的安全儲(chǔ)存裝置。
背景技術(shù)：
液晶顯示裝置（LCD，Liquid Crystal Display）具有機(jī)身薄、省電、無(wú)輻射等眾多優(yōu)點(diǎn)，得到廣泛的應(yīng)用，現(xiàn)有液晶顯示器包括液晶顯示面板及背光模組，通常液晶顯示面板又包括TFT陣列基板、CF基板、及在陣列和CF基板之間的液晶。通過(guò)給TFT陣列基板供電與否來(lái)控制液晶分子改變方向，將背光模組的光線(xiàn)投射到CF基板產(chǎn)生畫(huà)面，TFT陣列基板上的導(dǎo)電層需要通過(guò)刻蝕工藝制成。液晶面板（LCD）電極（Gate、S/D）有兩種，一種鋁，一種銅，相比較，銅較鋁具有優(yōu)異的電學(xué)性能； TFT陣列基板常規(guī)采用鋁電極，隨著液晶顯示終端大尺寸化、高解析度以及驅(qū)動(dòng)頻率高速化的發(fā)展趨勢(shì)及要求。目前通過(guò)監(jiān)控刻蝕液中Cu2+濃度來(lái)進(jìn)行刻蝕液的更替；隨著刻蝕反應(yīng)的不斷進(jìn)行，刻蝕液中的銅絡(luò)合物量增加，絡(luò)合劑的量逐漸減少，刻蝕中Cu2+濃度不斷增加，會(huì)導(dǎo)致刻蝕液中H2O2在Cu2+的催化下分解，而產(chǎn)生安全問(wèn)題，目前銅刻蝕液是通過(guò)監(jiān)控刻蝕液中銅離子的濃度來(lái)進(jìn)行更替，目前按照4000ppm~8000ppm管控。因此該制程廢液含H2O2（10%~23%）、Cu2+（0.4%~0.8%）。
技術(shù)實(shí)現(xiàn)要素：
本實(shí)用新型目的是提供了一種解決稀釋耗水量大，安全性低，處置費(fèi)用高的問(wèn)題，提出了一種反復(fù)用分解后的回水稀釋的銅刻蝕液廢液的安全儲(chǔ)存裝置。
本實(shí)用新型解決技術(shù)問(wèn)題提供如下方案：
一種銅刻蝕液廢液的安全儲(chǔ)存裝置，包括產(chǎn)線(xiàn)廢液池，其特征在于：所述產(chǎn)線(xiàn)廢液池上連接有原廢液進(jìn)液管道，所述原廢液進(jìn)液管道連接原廢液進(jìn)液泵，所述原廢液進(jìn)液泵連接分解罐，所述分解罐上還通過(guò)排液管道連接有后儲(chǔ)罐，所述分解罐上連接有溢液管，所述溢液管連接后儲(chǔ)罐，所述分解罐上端部設(shè)有廢氣排出管道，所述后儲(chǔ)罐的底部通過(guò)稀釋液進(jìn)液管道連接分解罐。
所述分解罐上連接的排管道連接有分解罐排液閥，所述分解罐排液閥連接有熱交換器。
本實(shí)用新型1、當(dāng)面板廠Cu刻蝕廢液排放至儲(chǔ)液池時(shí)系統(tǒng)啟動(dòng)，否則停止運(yùn)行。
2、系統(tǒng)啟動(dòng)后，原廢液進(jìn)液泵、循環(huán)稀釋進(jìn)液泵工作，將儲(chǔ)液池廢液、后儲(chǔ)罐稀釋液同步注入分解罐（首次運(yùn)行需加2m3純水）。
3、稀釋后廢液在分解罐內(nèi)分解，產(chǎn)生氣體經(jīng)引風(fēng)機(jī)排入面板廠廢氣管道：
4、廢液完成熱交換后，經(jīng)在線(xiàn)溫度監(jiān)測(cè)1#監(jiān)測(cè)溫度：1）低于設(shè)計(jì)要求時(shí)，廢液排入后儲(chǔ)罐，同時(shí)根據(jù)情況，適當(dāng)調(diào)大原廢液進(jìn)液閥開(kāi)度，提升廢液處置量；2）高于設(shè)計(jì)要求時(shí)，系統(tǒng)調(diào)小原廢液進(jìn)液閥開(kāi)度，減少?gòu)U液進(jìn)液量。
5、后儲(chǔ)罐中廢液達(dá)到溢液口，廢液排出。
附圖說(shuō)明
圖1為本實(shí)用新型的結(jié)構(gòu)示意圖。
具體實(shí)施方式
參見(jiàn)附圖，一種銅刻蝕液廢液的安全儲(chǔ)存裝置，包括產(chǎn)線(xiàn)廢液池1，所述產(chǎn)線(xiàn)廢液池1上連接有原廢液進(jìn)液管道2，所述原廢液進(jìn)液管道2連接原廢液進(jìn)液泵3，所述原廢液進(jìn)液泵3連接分解罐4，所述分解罐4上還通過(guò)排液管道5連接有后儲(chǔ)罐6，所述分解罐4上連接有溢液管7，所述溢液管7連接后儲(chǔ)罐6，所述分解罐4上端部設(shè)有廢氣排出管道8，所述后儲(chǔ)罐6的底部通過(guò)稀釋液進(jìn)液管道9連接分解罐4。
所述分解罐4上連接的排管道5連接有分解罐排液閥10，所述分解罐排液閥10連接有熱交換器11。