本發(fā)明涉及的富氫水的制作設(shè)備技術(shù)領(lǐng)域，具體而言，涉及具有加熱功能的富氫水生成機(jī)。

背景技術(shù)：

富氫水，顧名思義就是富含氫氣的水。英文是hydrogen Rich water，日文是“水素水”。作為一種選擇性抗氧化物質(zhì)，氫氣對(duì)很多疾病具有治療作用，具有十分廣泛的應(yīng)用前景。

近年來，國內(nèi)市場(chǎng)上富氫水、水素水產(chǎn)品漸多，富氫水、水素水的杯具也有所見，其中采用電解制氫的技術(shù)占有相當(dāng)比例，包括相關(guān)的專利技術(shù)的涌現(xiàn)。在這些電解制氫杯具及其專利技術(shù)中，常見有水平布置的電極結(jié)構(gòu)，如中國專利:申請(qǐng)?zhí)?01510366113.8、申請(qǐng)?zhí)?01510126957.5、201520051049.X等；也有上下布置的電極結(jié)構(gòu)，如中國專利:申請(qǐng)?zhí)?01520786526.7等。這兩種布置的電極結(jié)構(gòu)其產(chǎn)品經(jīng)實(shí)驗(yàn)或?qū)嵱?，仍發(fā)現(xiàn)其不足現(xiàn)象。

現(xiàn)有技術(shù)中，富氫水生成機(jī)制成的保健水中僅具有氫保健這一單一的保健功能，保健功能單一。而且，現(xiàn)有技術(shù)中，富氫水生成機(jī)通常所制成的氫氣和氧氣均分散在水中，無法實(shí)現(xiàn)氫氣和氧氣的分離，

技術(shù)實(shí)現(xiàn)要素：

為了克服現(xiàn)有技術(shù)的不足，本發(fā)明提供了具有加熱功能的富氫水生成機(jī)。具體地，其技術(shù)方案如下：

具有加熱功能的富氫水生成機(jī)，包括水杯和制氫裝置，所述制氫裝置包括殼體、水杯連接部和氫氧分離組件，所述水杯連接部設(shè)置在所述殼體的一側(cè)，所述氫氧分離組件設(shè)置在所述殼體內(nèi)；

所述富氫水生成機(jī)還包括加熱組件，用于將水加熱；

所述氫氧分離組件包括電解室，所述電解室內(nèi)設(shè)有陰極片、陽極片和設(shè)置于所述陰極片和陽極片之間的透水隔氣膜，所述陰極片、陽極片圍成一電解區(qū)，所述透水隔氣膜用于將所述電解區(qū)分隔成氫產(chǎn)生區(qū)和氧產(chǎn)生區(qū)，所述氫產(chǎn)生區(qū)連通所述水杯連接部。

作為對(duì)技術(shù)方案的改進(jìn)，所述加熱組件為電加熱棒，所述電加熱棒設(shè)置在所述陰極片和所述水杯連接部之間。

作為對(duì)技術(shù)方案的改進(jìn)，所述電加熱棒的外表面設(shè)置有導(dǎo)熱絕緣外層。

作為對(duì)技術(shù)方案的改進(jìn)，所述水杯連接部具有階梯孔式的接口，用于匹配多種尺寸類型的水杯。

作為對(duì)技術(shù)方案的改進(jìn)，所述殼體內(nèi)設(shè)置有支架，所述電解室設(shè)置在所述支架上。

作為對(duì)技術(shù)方案的改進(jìn)，所述透水隔氣膜為離子膜、自增濕膜或微濾膜。

作為對(duì)技術(shù)方案的改進(jìn)，所述陰極片和/或所述陽極片為鈦片。

作為對(duì)技術(shù)方案的改進(jìn)，所述電解室包括電解室底座和電解室上蓋，所述電解室底座和所述電解室上蓋蓋合以形成一容置所述陰極片、所述透水隔氣膜和所述陽極片的容置腔。

作為對(duì)技術(shù)方案的改進(jìn)，所述電解室還包括用于安裝陽極片并且設(shè)置于所述電解區(qū)外的陽極安裝蓋；

所述電解室還包括用于安裝陰極片并且設(shè)置于所述電解區(qū)外的陰極安裝蓋。

作為對(duì)技術(shù)方案的改進(jìn)，所述電解室上蓋和所述陰極安裝蓋之間設(shè)置有若干墊片；

和/或，所述陽極片和所述陽極安裝蓋之間設(shè)置有陽極密封圈，所述陰極片和所述陰極安裝蓋之間設(shè)置有陰極密封圈；

和/或，所述電解室底座和所述電解室上蓋之間設(shè)置有電解室蓋內(nèi)密封圈，所述電解室上蓋和所述水杯連接部之間設(shè)置有電解室蓋外密封圈。

本發(fā)明至少具有以下有益效果：

(1)通過設(shè)置加熱組件，在制氫的同時(shí)還能將水體加熱，使富氫水生成機(jī)具有多重保健作用；

(2)在制氫時(shí)，陰極片產(chǎn)生的氫氣富集在氫產(chǎn)生區(qū)，陽極片產(chǎn)生的氧氣富集在氧產(chǎn)生區(qū)，透水隔氣膜阻隔了氫氣向氧產(chǎn)生區(qū)的擴(kuò)散以及阻隔了氧氣向氫產(chǎn)生區(qū)的擴(kuò)散，氫氣從水杯連接部進(jìn)入水杯，由此達(dá)到了氫氣和氧氣的分離。

為使本發(fā)明的上述目的、特征和優(yōu)點(diǎn)能更明顯易懂，下文特舉較佳實(shí)施例，并配合所附附圖，作詳細(xì)說明如下。

附圖說明

為了更清楚地說明本發(fā)明實(shí)施例的技術(shù)方案，下面將對(duì)實(shí)施例中所需要使用的附圖作簡(jiǎn)單地介紹，應(yīng)當(dāng)理解，以下附圖僅示出了本發(fā)明的某些實(shí)施例，因此不應(yīng)被看作是對(duì)范圍的限定，對(duì)于本領(lǐng)域普通技術(shù)人員來講，在不付出創(chuàng)造性勞動(dòng)的前提下，還可以根據(jù)這些附圖獲得其他相關(guān)的附圖。

圖1是本發(fā)明實(shí)施例中富氫水生成機(jī)中制氫裝置的前示圖；

圖2是本發(fā)明實(shí)施例中富氫水生成機(jī)中制氫裝置的整體爆炸圖；

圖3是本發(fā)明實(shí)施例中氫氧分離組件的爆炸圖；

圖4是本發(fā)明實(shí)施例中水杯連接部的示意圖；

圖5是本發(fā)明實(shí)施例中陽極片的示意圖。

主要元件符號(hào)說明：

1000-制氫裝置，0110-外殼，0120-底座，0130-殼蓋，0200-水杯連接部，0300-氫氧分離組件，0310-電解室底座，0320-電解室上蓋，0331-陽極片，0332-陰極片，0341-陽極安裝蓋，0342-陰極安裝蓋，0351-陽極密封圈，0352-陰極密封圈，0353-電解室蓋內(nèi)密封圈，0354-電解室蓋外密封圈，0360-墊片，0370-透水隔氣膜，0400-控制面板，0500-支架，0600-加熱組件。

具體實(shí)施方式

在下文中，將更全面地描述本發(fā)明的各種實(shí)施例。本發(fā)明可具有各種實(shí)施例，并且可在其中做出調(diào)整和改變。然而，應(yīng)理解：不存在將本發(fā)明的各種實(shí)施例限于在此公開的特定實(shí)施例的意圖，而是應(yīng)將本發(fā)明理解為涵蓋落入本發(fā)明的各種實(shí)施例的精神和范圍內(nèi)的所有調(diào)整、等同物和/或可選方案。

在下文中，可在本發(fā)明的各種實(shí)施例中使用的術(shù)語“包括”或“可包括”指示所公開的功能、操作或元件的存在，并且不限制一個(gè)或更多個(gè)功能、操作或元件的增加。此外，如在本發(fā)明的各種實(shí)施例中所使用，術(shù)語“包括”、“具有”及其同源詞僅意在表示特定特征、數(shù)字、步驟、操作、元件、組件或前述項(xiàng)的組合，并且不應(yīng)被理解為首先排除一個(gè)或更多個(gè)其它特征、數(shù)字、步驟、操作、元件、組件或前述項(xiàng)的組合的存在或增加一個(gè)或更多個(gè)特征、數(shù)字、步驟、操作、元件、組件或前述項(xiàng)的組合的可能性。

在本發(fā)明的各種實(shí)施例中，表述“或”或“A或/和B中的至少一個(gè)”包括同時(shí)列出的文字的任何組合或所有組合。例如，表述“A或B”或“A或/和B中的至少一個(gè)”可包括A、可包括B或可包括A和B二者。

在本發(fā)明的各種實(shí)施例中使用的表述(諸如“第一”、“第二”等)可修飾在各種實(shí)施例中的各種組成元件，不過可不限制相應(yīng)組成元件。例如，以上表述并不限制所述元件的順序和/或重要性。以上表述僅用于將一個(gè)元件與其它元件區(qū)別開的目的。例如，第一用戶裝置和第二用戶裝置指示不同用戶裝置，盡管二者都是用戶裝置。例如，在不脫離本發(fā)明的各種實(shí)施例的范圍的情況下，第一元件可被稱為第二元件，同樣地，第二元件也可被稱為第一元件。

應(yīng)注意到：在本發(fā)明中，除非另有明確的規(guī)定和定義，“安裝”、“連接”、“固定”等術(shù)語應(yīng)做廣義理解，例如，可以是固定連接、也可以是可拆卸連接、或者一體地連接；可以是機(jī)械連接，也可以是電連接；可以是直接連接，也是可以通過中間媒介間接相連；可以是兩個(gè)元件內(nèi)部的連通。對(duì)于本領(lǐng)域的普通技術(shù)人員而言，可以根據(jù)具體情況理解上述術(shù)語在本發(fā)明中的具體含義。

在本發(fā)明中，本領(lǐng)域的普通技術(shù)人員需要理解的是，文中指示方位或者位置關(guān)系的術(shù)語為基于附圖所示的方位或者位置關(guān)系，僅是為了便于描述本發(fā)明和簡(jiǎn)化描述，而不是指示或暗示所指的裝置或者元件必須具有特定的方位、以特定的方位構(gòu)造和操作，因此不能理解為對(duì)本發(fā)明的限制。

在本發(fā)明的各種實(shí)施例中使用的術(shù)語僅用于描述特定實(shí)施例的目的并且并非意在限制本發(fā)明的各種實(shí)施例。如在此所使用，單數(shù)形式意在也包括復(fù)數(shù)形式，除非上下文清楚地另有指示。除非另有限定，否則在這里使用的所有術(shù)語(包括技術(shù)術(shù)語和科學(xué)術(shù)語)具有與本發(fā)明的各種實(shí)施例所屬領(lǐng)域普通技術(shù)人員通常理解的含義相同的含義。所述術(shù)語(諸如在一般使用的詞典中限定的術(shù)語)將被解釋為具有與在相關(guān)技術(shù)領(lǐng)域中的語境含義相同的含義并且將不被解釋為具有理想化的含義或過于正式的含義，除非在本發(fā)明的各種實(shí)施例中被清楚地限定。

實(shí)施例1

請(qǐng)參閱圖1，提供了具有加熱功能的富氫水生成機(jī)，包括水杯(圖中未示出)和制氫裝置1000。制氫裝置1000包括殼體，在本實(shí)施例中，殼體具有多種結(jié)構(gòu)形式，圖1、圖2示出了一種示例性的結(jié)構(gòu)形式，其包括外殼0110和底座0120。

制氫裝置1000還包括水杯連接部0200，水杯連接部0200設(shè)置在殼體的一側(cè)。如圖2所示，當(dāng)殼體包括外殼0110、底座0120和殼蓋0130時(shí)，水杯連接部0200設(shè)置在外殼0110朝向殼蓋0130的一側(cè)。

優(yōu)選地，如圖4所示，水杯連接部0200具有階梯孔式的接口，用于匹配多種尺寸類型的水杯。具體地，階梯孔式的接口內(nèi)的每一級(jí)都設(shè)有內(nèi)螺紋，各級(jí)螺紋能夠分別與對(duì)應(yīng)尺寸杯口的外螺紋配合，以實(shí)現(xiàn)密封。

如圖2、圖3所示，制氫裝置1000還包括氫氧分離組件0300，氫氧分離組件設(shè)置在殼體內(nèi)。具體地，氫氧分離組件設(shè)置在外殼0110、底座0120和殼蓋0130圍成的容納空間內(nèi)。

具體地，氫氧分離組件0300包括電解室，電解室內(nèi)設(shè)有陰極片0332、陽極片0331和設(shè)置于陰極片0332和陽極片0331之間的透水隔氣膜0370。陰極片0332、陽極片0331圍成一電解區(qū)，透水隔氣膜0370用于將電解區(qū)分隔成氫產(chǎn)生區(qū)和氧產(chǎn)生區(qū)，氫產(chǎn)生區(qū)連通水杯連接部0200。

本實(shí)施例中的富氫水生成機(jī)還包括加熱組件0600，用于將水加熱。通過設(shè)置加熱組件0600，當(dāng)在冬天等氣溫寒冷的時(shí)候使用富氫水生成機(jī)，或者使用者身體不舒服需要和熱水時(shí)，可以通過控制面板0400上的相應(yīng)開關(guān)啟動(dòng)加熱組件0600將水加熱，供使用者飲用。

作為一種優(yōu)選的加熱組件0600，本實(shí)施例中的加熱組件0600為電加熱棒。具體地，電加熱棒設(shè)置在陰極片0332和水杯連接部0200之間。

優(yōu)選地，電加熱棒的外表面設(shè)置有導(dǎo)熱絕緣外層。通過設(shè)置導(dǎo)熱絕緣外層，能夠避免金屬材料的電加熱棒在通電時(shí)對(duì)氫氧分離組件0300產(chǎn)生干擾。優(yōu)選地，導(dǎo)熱絕緣外層為陶瓷材料，例如氧化鋁陶瓷。

上述實(shí)施例中，在制氫時(shí)，陰極片0332產(chǎn)生的氫氣富集在氫產(chǎn)生區(qū)，陽極片0331產(chǎn)生的氧氣富集在氧產(chǎn)生區(qū)，透水隔氣膜0370阻隔了氫氣向氧產(chǎn)生區(qū)的擴(kuò)散以及阻隔了氧氣向氫產(chǎn)生區(qū)的擴(kuò)散，由此達(dá)到了氫氣和氧氣的分離。

術(shù)語“電解區(qū)”是指具有電流通過的區(qū)域。術(shù)語“電解室”是指實(shí)施電解的物件。陰極片0332、陽極片0331和透水隔氣膜0370被放置于電解室內(nèi)。

上述透水隔氣膜0370是指具有透水隔氣功能的膜。需要注意的是，此處隔氣是指隔離以氣泡形式存在的氣體，而非以分子狀態(tài)存在。電解水所產(chǎn)生的氫氣的機(jī)理是，水中的氫離子在陰極片0332上得到電子而發(fā)生還原反應(yīng)產(chǎn)生氣相，由于氣相與水相之間的界面差，所以生產(chǎn)的氫氣以氫氣泡分散在水中。以陰極的電流密度為2～6mA/cm²、電解在常壓下和電解水為中性為例，所產(chǎn)生的氫氣泡的尺寸呈高斯隨機(jī)分布在20～80微米范圍內(nèi)。陽極片產(chǎn)生的氧氣也以氣泡的形式存在，以陽極電流密度為2～6mA/cm2并且電解在常壓下為例，所產(chǎn)生的氣泡分布在40～100微米范圍內(nèi)。因此，透水隔氣膜的實(shí)現(xiàn)形式可以是具有截留尺寸小于氫氣泡和氧氣泡大小的任何形式的膜，即具有截留尺寸(或稱為濾孔)在10微米以下。

具體而言，作為其中一種實(shí)施方式，透水隔氣膜0370為離子膜。離子膜是一種含離子基團(tuán)的、對(duì)溶液里的離子具有選擇透過能力的高分子膜。因?yàn)橐话阍趹?yīng)用時(shí)主要是利用它的離子選擇透過性，所以也稱為離子選擇透過性膜。本實(shí)施例中的離子膜為對(duì)氫離子具有選擇透過性的離子膜。

作為另外的實(shí)施方式，透水隔氣膜0370可以為截留尺寸(或稱為濾孔)在10微米以下的濾膜。例如，微濾膜。微濾膜是指濾孔徑在0.1～1微米之間的過濾膜。微濾膜可以使用無機(jī)膜和有機(jī)高分子膜。無機(jī)膜可以為陶瓷膜和金屬膜。有機(jī)高分子膜可以為天然高分子膜和合成高分子膜，例如聚偏氟乙烯(PVDF)、聚砜(PSF)、聚丙烯腈(PAN)、聚氯乙烯(PVC)、聚丙烯(PP)等。根據(jù)膜的形式又分為平板膜、管式膜、卷式膜和中空纖維膜；根據(jù)制膜原理，高分子膜的制備方法分為溶出法(干-濕法)、拉伸成孔法、相轉(zhuǎn)化法、熱致相法，浸涂法、輻照法、表面化學(xué)改性法、核徑跡法、動(dòng)力形成法等，無機(jī)膜的制備方法主要有溶膠—凝膠法、燒結(jié)法、化學(xué)沉淀法等。溶劑理解的是，此處采用的是具有絕緣性的微濾膜，較佳是有機(jī)高分子微濾膜。當(dāng)然，濾膜還可以使用超濾膜等。

作為另外的實(shí)施方式，透水隔氣膜0370為自增濕膜。自增濕膜是能允許液體水透過而其它介質(zhì)無法通過的膜。自增濕膜可使用親水物質(zhì)(例如二氧化鈦、二氧化硅、三氧化二鋁粒子摻雜修飾的nafion膜)。

在本實(shí)施例中，陰極片0332、透水隔氣膜0370和陽極片0331三者可以不抵接，也可以是三者以抵接的方式，例如陰極片0332、透水隔氣膜0370和陽極片0331依次疊加設(shè)置。

這里，“疊加設(shè)置”可以理解的是指多個(gè)具有層結(jié)構(gòu)的物件(例如薄膜等)采用一者貼合于另一者表面的堆疊方式。以A、B、C、D依次疊加設(shè)置為例，是指A的一個(gè)表面設(shè)置B、B的表面設(shè)置C、C的表面設(shè)置D，即按照某一方向(例如從上至下)，A、B、C、D依次排列。

陰極片0332和陽極片0331可以是鈦片。為了增強(qiáng)陰極片0332和陽極片0331的活性，可以在表面涂覆一些氧化物，如中國專利CN104562078A，具體為：涂層至少包含底層涂層和表層涂層，底層涂層包含鈦氧化物、銥氧化物和釕氧化物，表層涂層包含銥氧化物、釕氧化物、鈦氧化物、以及鈀、鉑中的一種或兩種元素的金屬或氧化物。底層涂層中釕、銥和鈦的摩爾百分比為：釕：銥：鈦＝30～50％：10～25％：30～45％；表層涂層中釕、銥、鈦和鈀的摩爾百分比為：釕：銥：鈦：鈀＝30～50％：10～25％：30～45％：2.5～20％。底層涂層中釕、銥和鈦的摩爾百分比為：釕：銥：鈦＝30～50％：10～25％：30～45％；表層涂層中釕、銥、鈦和鉑的摩爾百分比為：釕：銥：鈦：鉑＝30～50％：10～25％：30～45％：2.5～20％。底層涂層中釕、銥和鈦的摩爾百分比為：釕：銥：鈦＝30～50％：10～25％：30～45％；表層涂層中釕、銥、鈦、鈀和鉑的摩爾百分比為：釕：銥：鈦：鈀：鉑＝30～50％：10～25％：30～45％：2.5～20％：2.5～20％。底層涂層中還包括鋯氧化物，底層涂層中釕、銥、鈦和鋯的摩爾百分比為：釕：銥：鈦：鋯＝30～50％：10～25％：30～45％：2～10％；表層涂層中釕、銥、鈦和鈀的摩爾百分比為：釕：銥：鈦：鈀＝30～50％：10～25％：30～45％：2.5～20％。底層涂層中還包括鋯氧化物，底層涂層中釕：銥：鈦和鋯的摩爾比百分為：釕：銥：鈦：鋯＝30～50％：10～25％：30～45％：2～10％；表層涂層中釕、銥、鈦和鉑的摩爾百分比為，釕：銥：鈦：鉑＝30～50％：10～25％：30～45％：2.5～20％。底層涂層中還包括鋯氧化物，底層涂層中釕：銥：鈦和鋯的摩爾百分比為釕：銥：鈦：鋯＝30～50％：10～25％：30～45％：2～10％；表層涂層中釕、銥、鈦、鈀和鉑的摩爾百分比為，釕：銥：鈦：鈀：鉑＝30～50％：10～25％：30～45％：2.5～20％：2.5～20％。底層涂層的厚度為5～15微米，表層涂層的厚度為1～5微米。

如圖5所示，陰極片0332和陽極片0331可設(shè)置多孔，例如可設(shè)置蜂窩結(jié)構(gòu)，以保證與水接觸的充分性。

優(yōu)選地，制氫裝置1000還包括用于封閉水杯連接部的殼蓋0130，殼蓋0130可拆卸地設(shè)置在殼體上。當(dāng)殼體包括外殼0110和底座0120時(shí)，殼蓋0130可拆卸地設(shè)置在外殼0110上。在本實(shí)施例中，通過設(shè)置殼蓋0130，當(dāng)水杯與制氫裝置1000分離時(shí)，殼蓋0130可以封住水杯連接部0200，避免制氫裝置1000內(nèi)部受到污染。

優(yōu)選地，外殼0110和底座0120圍成的容納空間內(nèi)設(shè)置有支架0500，電解室設(shè)置在支架0500上。

優(yōu)選地，電解室包括電解室底座0310和電解室上蓋0320，電解室底座0310和電解室上蓋0320蓋合以形成一容置陰極片0332、陽極片0331和透水隔氣膜0370的容置腔。

優(yōu)選地，電解室還包括用于安裝陽極片0331并且設(shè)置于電解區(qū)外的陽極安裝蓋0341。電解室還包括用于安裝陰極片0332并且設(shè)置于電解區(qū)外的陰極安裝蓋0342。陰極安裝蓋0342和陽極安裝蓋0341蓋合以容置陰極片0332、陽極片0331和透水隔氣膜0370。

優(yōu)選地，電解室上蓋0320和陰極安裝蓋0342之間設(shè)置有若干墊片0360。通過設(shè)置墊片0360能夠起到防滑的作用。

優(yōu)選地，陽極片0331和陽極安裝蓋0341之間設(shè)置有陽極密封圈0351，陰極片0332和陰極安裝蓋0342之間設(shè)置有陰極密封圈0352。

優(yōu)選地，電解室底座0310和電解室上蓋0320之間設(shè)置有電解室蓋內(nèi)密封圈0353，電解室上蓋0320和水杯連接部0200之間設(shè)置有電解室蓋外密封圈0354。

在本實(shí)施例中，電解室底座0310和電解室上蓋0320之間，以及電解室內(nèi)部結(jié)構(gòu)的安裝，可以采用可拆卸方式，以方便對(duì)陰極片0332、陽極片0331和透水隔氣膜0370的更換。可拆卸的方式，可以是緊固件、滑接件、卡接件。此處，緊固件可列舉出法蘭件、螺接件等。

可舉出上述卡接件的一種實(shí)施結(jié)構(gòu)，具體為：卡接件包括設(shè)置于第一安裝件的卡扣和設(shè)置于第二安裝件的卡孔，該卡扣與卡孔相配合。卡扣包括設(shè)置于第一安裝件的連接部以及位于連接部一端的彈性的卡扣部，卡孔周圍環(huán)繞有彈性的卡持部?？鄄繛橐磺蝮w，卡扣為中空結(jié)構(gòu)，形成有自連接部延伸至卡扣部的育孔，從而允許該第一卡扣件受到擠壓時(shí)發(fā)生彈性形變?？劭膳c第一安裝件一體成型。卡持部形成有多個(gè)缺口，缺口將卡持部分隔成相互獨(dú)立的卡持，從而使卡持部在受到外力作用時(shí)產(chǎn)生彈性形變。卡扣孔的直徑小于卡扣部的球徑?？鄄坎迦肟讜r(shí)，卡持塊受到卡扣部的推力發(fā)生彈性變形向外擴(kuò)張，使卡扣部穿過卡扣孔?？鄄看┻^卡孔，卡持塊及卡扣部均恢復(fù)原狀，卡扣部被卡持塊阻擋于卡孔外以將第一安裝件與第二安裝件固定?？ǔ植慷瞬啃纬捎械菇?，以便拆卸第一殼體與第二安裝件時(shí)使卡扣部在外力作用下易于回至卡孔內(nèi)。

上述卡接件還可列舉第二種實(shí)施結(jié)構(gòu)(圖中未示出)。具體為：卡接件可包括卡舌和卡扣?？ㄉ喟ǖ谝豢ú?、第二卡槽和位于第一卡槽和第二卡槽之間的鉤形的鉤體，該第一卡槽、第二卡槽、鉤槽均為彈性的結(jié)構(gòu)的槽?？郯ǖ谝徊鍡l、第二插條和位于第一插條、第二插條之間的鉤槽。該第一卡槽、第二卡槽、鉤槽均為彈性的槽。該第一卡槽、第二卡槽、鉤槽均為彈性的槽。當(dāng)要實(shí)現(xiàn)卡舌同卡扣的卡緊時(shí)，該第一插條插入第一卡槽內(nèi)，第二插條插入第二卡槽內(nèi)，鉤體插入鉤槽，第一卡槽、第二卡槽、鉤槽的彈性保證第一插條、第二插條和鉤體的緊密接觸而達(dá)到了卡緊效果。

上述卡接件還可列舉第三種實(shí)施結(jié)構(gòu)(圖中未示出)。具體為：卡接件可包括卡座和卡舌，該卡座和卡舌相配合。于此，卡座和卡舌的形狀不做特別的限定，其結(jié)構(gòu)的實(shí)施方式有很多。其中第一種實(shí)施方式為應(yīng)用于背包帶的卡扣。具體為，卡座包括一卡槽?？ㄉ嗫蔀镋字型，也就是說，該結(jié)構(gòu)的卡舌包括第一插條、第三插條，和位于第一插條、第三插條之間的第二插條，第一插條和第三插條為彈性結(jié)構(gòu)，在外力作用下二者可向第二插條靠攏，撤銷外力后，二者回復(fù)到原來的位置。第二插條可為彈性結(jié)構(gòu)，也可為非彈性。與插舌結(jié)構(gòu)對(duì)應(yīng)地，卡槽的前部要寬于后部。此處，“前”指沿插舌進(jìn)入方向。卡槽前部的寬度要略小于插舌的寬度，卡槽的后部寬度要明顯地小于插舌的寬度，如此可使得卡舌插入卡槽的過程中，當(dāng)進(jìn)入至卡槽的前部時(shí)，第一插條和第三插條被壓縮向第二插條靠攏，當(dāng)進(jìn)入至卡槽的后部時(shí)，由于卡槽的厚度為開放體，第一插條和第三插條自動(dòng)向外彈開以從卡座內(nèi)外露出?？ú鄣漠?dāng)要實(shí)現(xiàn)卡舌和卡座的卡扣時(shí)，將卡舌插入卡槽中，這時(shí)，第一插條和第三插條外露于卡座；當(dāng)要實(shí)現(xiàn)卡舌和卡座的拆卸時(shí)，只需捏合第一插條和第三插條以使得卡舌拔出于卡槽。

滑接件可包括設(shè)置在滑舌和與該滑舌配合以供滑舌滑動(dòng)的滑軌?；壍男问娇闪信e出二種，第一種是兩條平行的凸條，凸條之間形成供滑舌卡入的滑動(dòng)腔。為了使得滑舌更好地卡入滑動(dòng)腔內(nèi)，滑動(dòng)腔為“凸”字形，于此對(duì)應(yīng)地，滑舌也為該“凸”字形?；壍牡诙N形式為開設(shè)在底座內(nèi)部的滑孔。同理地，為了使得滑舌更好地卡入滑孔內(nèi)，滑孔為“凸”字形，于此對(duì)應(yīng)地，滑舌也為該“凸”字形?；嗪突壷兄辽僖徽呖蔀閺椥越Y(jié)構(gòu)。即，滑舌為可發(fā)生彈性形變的材質(zhì)制成，諸如以丁腈橡膠、三元乙丙橡膠等為代表的高彈性模量的橡膠材質(zhì)，滑軌為剛性的金屬材質(zhì)。或者地，滑軌為可發(fā)生彈性形變的材質(zhì)制成，滑舌為剛性的金屬材質(zhì)?；蛘叩?，二者均為可發(fā)生彈性形變的材質(zhì)制成。

除此，本實(shí)施例中的富氫水生成機(jī)還可包括如本領(lǐng)域其它的結(jié)構(gòu)部件，例如用于提供電解所需源相關(guān)控制電路(基于恒流或恒壓的目的)、支架等。于此不再詳述。

上述未述及之處，適用于現(xiàn)有技術(shù)。

盡管以上較多使用了表示結(jié)構(gòu)的術(shù)語，例如“透水隔氣膜”、“氫產(chǎn)生區(qū)”、“氧產(chǎn)生區(qū)”等，但并不排除使用其它術(shù)語的可能性。使用這些術(shù)語僅僅是為了更方便地描述和解釋本發(fā)明的本質(zhì)；把它們解釋成任何一種附加的限制都是與本發(fā)明精神相違背的。

本領(lǐng)域技術(shù)人員可以理解附圖只是一個(gè)優(yōu)選實(shí)施場(chǎng)景的示意圖，附圖中的模塊或流程并不一定是實(shí)施本發(fā)明所必須的。

本領(lǐng)域技術(shù)人員可以理解實(shí)施場(chǎng)景中的裝置中的模塊可以按照實(shí)施場(chǎng)景描述進(jìn)行分布于實(shí)施場(chǎng)景的裝置中，也可以進(jìn)行相應(yīng)變化位于不同于本實(shí)施場(chǎng)景的一個(gè)或多個(gè)裝置中。上述實(shí)施場(chǎng)景的模塊可以合并為一個(gè)模塊，也可以進(jìn)一步拆分成多個(gè)子模塊。

上述本發(fā)明序號(hào)僅僅為了描述，不代表實(shí)施場(chǎng)景的優(yōu)劣。

以上公開的僅為本發(fā)明的幾個(gè)具體實(shí)施場(chǎng)景，但是，本發(fā)明并非局限于此，任何本領(lǐng)域的技術(shù)人員能思之的變化都應(yīng)落入本發(fā)明的保護(hù)范圍。