所屬技術(shù)領(lǐng)域
本發(fā)明涉及一種光學(xué)儀器清洗設(shè)備和清洗方法技術(shù)領(lǐng)域，具體是一種用于光譜類儀器中反射光柵的清洗裝置及其清洗方法。也可以用于鍍鋁反射鏡的清洗。
背景技術(shù)：
隨著時代的發(fā)展、科學(xué)的進(jìn)步，我國光譜類儀器日益普及。特別是大型光譜儀器大量應(yīng)用于檢驗(yàn)檢測領(lǐng)域及實(shí)驗(yàn)室。我國檢驗(yàn)檢測技術(shù)實(shí)現(xiàn)快速發(fā)展，推動檢驗(yàn)檢測高技術(shù)服務(wù)業(yè)健康發(fā)展。光譜類儀器在檢驗(yàn)檢測領(lǐng)域及實(shí)驗(yàn)室發(fā)揮著重要作用。
隨著光譜類儀器在檢驗(yàn)檢測領(lǐng)域及實(shí)驗(yàn)室使用頻次的增加、使用時間的推移，光譜儀器測試性能會逐漸的退化，其中原因之一是光譜類儀器中反射光柵及光學(xué)元器件上附著的灰塵及有機(jī)污物，影響光柵的色散性能，造成光學(xué)性能的退化。為了恢復(fù)其光學(xué)性能，常規(guī)的方法是對反射光柵和光學(xué)元器件進(jìn)行清洗?？赏ㄟ^清洗反射光柵表面去除刻痕內(nèi)的灰塵及有機(jī)污物，恢復(fù)光譜類儀器的測試性能。有文獻(xiàn)介紹利用火棉膠加熱倒在反射光柵或光學(xué)元器件上待其冷卻揭去火棉膠。此種做法本人嘗試過，能夠部分改善反射光柵及光學(xué)元器件的光學(xué)特性，但是效果不理想。還有一些處理的方法，大都比較復(fù)雜。因此，需要提出一種結(jié)構(gòu)簡簡，使用方便的反射光柵的清洗裝置和清洗方法。
技術(shù)實(shí)現(xiàn)要素：
本發(fā)明為了解決上述技術(shù)問題，提出一種光譜類儀器中反射光柵清洗裝置及其清洗方法。該清洗裝置采用自動控制部件，結(jié)構(gòu)簡單而完善，利用表面活性劑的特性，通過控制適當(dāng)?shù)臏囟群瓦m當(dāng)?shù)臎_洗方式和沖洗時間，實(shí)現(xiàn)了自控操作，并獲得理想的清潔效果。
為了實(shí)現(xiàn)上述目的，本發(fā)明采用以下技術(shù)方案：
一種光譜類儀器中反射光柵清洗裝置，其特征是：設(shè)有支架，該支架設(shè)有帶底座的立柱、前端帶有夾子的橫向螺桿和控制箱和控制開關(guān)，所述立柱和螺桿在控制箱內(nèi)交插穿過，在該控制箱內(nèi)設(shè)有控制螺桿左右移動、上下移動和上下旋轉(zhuǎn)的可控機(jī)械執(zhí)行部件，所述螺桿端頭設(shè)置的夾子用來夾持反射光柵，在反射光柵位置的上方，設(shè)有清洗劑罐和去離子水罐，在清洗劑罐和去離子水罐中設(shè)有可控加熱和溫度調(diào)控器及溫度傳感器、可控增壓和壓力調(diào)節(jié)器、可控開關(guān)沖洗管及流量調(diào)節(jié)器；另外設(shè)有給射光柵加熱的可控加熱器；在反射光柵位置的下方設(shè)有集液和排液槽。
本發(fā)明進(jìn)一步完善和實(shí)施的補(bǔ)充方案是：
所述控制箱的可控機(jī)械執(zhí)行部件為電機(jī)和配套傳動部件，開關(guān)控制功能為手動控制，所述控制開關(guān)為手動控制桿；所述加熱器為加熱吹風(fēng)機(jī)。
另外設(shè)有plc控制器，該控制器設(shè)有人機(jī)交互操作面板，并與所述控制箱中的可控機(jī)械執(zhí)行部件、可控加熱和溫度調(diào)控器及溫度傳感器、可控增壓和壓力調(diào)節(jié)器、可控開關(guān)沖洗管及流量調(diào)節(jié)器、可控加熱器進(jìn)行控制連接。
上述的清洗裝置的清洗方法，其特征是設(shè)有以下步驟：
1)在清洗劑罐中加注清洗液：配比為中性表面活性劑比去離子水為50：1000，配制后攪拌均勻；加注量根據(jù)需要，每清洗一個反射光柵需1000ml清洗液；
2)在去離子水罐中加注去離子水：根據(jù)需要加注，每清洗一個反射光柵需2000ml去離子水；
3)給清洗液和去離子水加熱：分別啟動清洗液罐和去離子水罐的加熱和溫度調(diào)節(jié)器，分別將清洗液和去離子水加熱到42℃并保溫；
4)給反射光柵預(yù)熱：取出反射光柵，放置夾子中，操作控制箱，將反射光柵移至加熱器下方，開啟加熱器，將反射光柵加熱到42℃；
5)用清洗液沖洗：操作控制箱，將反射光柵移至清洗箱沖洗管下方，并與沖洗管呈30°角，在沖洗口距反射光柵10cm距離，打開沖洗管開始沖洗，并以200ml/min速度，逐漸拉大沖洗口與反射光柵的距離，至到50cm的距離，控制沖洗液沖洗量為1000ml以上。
6)用去離子水沖洗：操作控制箱，將反射光柵移至去離子水箱沖洗管下方，并與沖洗管呈30°角，在沖洗口距反射光柵10cm距離，打開沖洗管開始沖洗，并以200ml/min速度，逐漸拉大沖洗口與反射光柵的距離，至到50cm的距離，控制沖洗液沖洗量為2000ml以上。
7)將反射光柵吹干：操作控制箱，將反射光柵移至加熱器下方，打開加熱器將反射光柵加熱2分鐘烘干，清洗操作結(jié)束。
本發(fā)明的有益效果：
1、裝置結(jié)構(gòu)完善，能手動操作也可以自控操作，操作簡便；
2、清洗效果好，功能恢復(fù)好，不損傷反射光柵；
3、成本低，便于廣泛推廣應(yīng)用。
附圖說明
圖1為本發(fā)明的結(jié)構(gòu)示意圖。
具體實(shí)施方式
下面結(jié)合實(shí)例和附圖對本發(fā)明進(jìn)行說明，實(shí)施例1：參見附圖，一種光譜類儀器中反射光柵清洗裝置，設(shè)有支架，該支架設(shè)有帶底座的立柱4、前端帶有夾子15的橫向螺桿2和控制箱3和控制開關(guān)，所述立柱和螺桿在控制箱內(nèi)交插穿過，在該控制箱內(nèi)設(shè)有控制螺桿左右移動、上下移動和上下旋轉(zhuǎn)的可控機(jī)械執(zhí)行部件，所述螺桿端頭設(shè)置的夾子用來夾持反射光柵，在反射光柵位置的上方，設(shè)有清洗劑罐9和去離子水罐10，在清洗劑罐和去離子水罐中設(shè)有可控加熱和溫度調(diào)控器及溫度傳感器11、12、可控增壓和壓力調(diào)節(jié)器7、8、可控開關(guān)沖洗管及流量調(diào)節(jié)器5、6；另外設(shè)有給射光柵加熱的可控加熱器13；在反射光柵位置的下方設(shè)有集液和排液槽14。
本實(shí)施例中所述控制箱的可控機(jī)械執(zhí)行部件為電機(jī)和配套傳動部件，開關(guān)控制功能為手動控制，所述控制開關(guān)為手動控制桿；所述加熱器為加熱吹風(fēng)機(jī)。
上述的清洗裝置的清洗方法，其特征是設(shè)有以下步驟：
1)在清洗劑罐中加注清洗液：配比為中性表面活性劑比去離子水為50：1000，配制后攪拌均勻；加注量根據(jù)需要，每清洗一個反射光柵需1000ml清洗液；
2)在去離子水罐中加注去離子水：根據(jù)需要加注，每清洗一個反射光柵需2000ml去離子水；
3)給清洗液和去離子水加熱：分別啟動清洗液罐和去離子水罐的加熱和溫度調(diào)節(jié)器，分別將清洗液和去離子水加熱到42℃并保溫；
4)給反射光柵預(yù)熱：取出反射光柵，放置夾子中，操作控制箱，將反射光柵移至加熱器下方，開啟加熱器，將反射光柵加熱到42℃；
5)用清洗液沖洗：操作控制箱，為手動通過手動控制桿操作，以下同，將反射光柵移至清洗箱沖洗管下方，并與沖洗管呈30°角，在沖洗口距反射光柵10cm距離，打開沖洗管開始沖洗，并以200ml/min速度，逐漸拉大沖洗口與反射光柵的距離，至到50cm的距離，控制沖洗液沖洗量為1000ml以上。
6)用去離子水沖洗：操作控制箱，將反射光柵移至去離子水箱沖洗管下方，并與沖洗管呈30°角，在沖洗口距反射光柵10cm距離，打開沖洗管開始沖洗，并以200ml/min速度，逐漸拉大沖洗口與反射光柵的距離，至到50cm的距離，控制沖洗液沖洗量為2000ml以上。
7)將反射光柵吹干：操作控制箱，將反射光柵移至加熱器下方，打開加熱器將反射光柵加熱2分鐘烘干，清洗操作結(jié)束。
8)上述的操作方法中的控制箱的操作可以是手動操作，也可以是由plc控制器進(jìn)行自控操作，用后者操作時，要在操作開始前，通過人機(jī)交互操作面板預(yù)先設(shè)置所需溫度、流量、反射光柵的位置、移動速度和移動距離，以及清洗液和去離子水的沖洗量；
9)當(dāng)開啟增壓和壓力調(diào)節(jié)器時，將清洗液和去離子水的壓力設(shè)置為2個大氣壓時，操作中可省去上下移動反射光柵的操作，只需將反射光柵固定在距離沖洗管5－10cm的下方位置即可。
實(shí)施例2：參見附圖，一種光譜類儀器中反射光柵清洗裝置，設(shè)有plc控制器(1)，該控制器設(shè)有人機(jī)交互操作面板，并與所述控制箱中的可控機(jī)械執(zhí)行部件、可控加熱和溫度調(diào)控器及溫度傳感器、可控增壓和壓力調(diào)節(jié)器、可控開關(guān)沖洗管及流量調(diào)節(jié)器、可控加熱器進(jìn)行控制連接。其他結(jié)構(gòu)與實(shí)施例1相同。
本實(shí)施例的清洗裝置的清洗方法，其特征是有以下步驟：
步驟1)－7)與實(shí)施例1相同，只是上述的操作方法中的控制箱的操作是由plc控制器進(jìn)行自控操作，要在操作開始前，通過人機(jī)交互操作面板預(yù)先設(shè)置所需溫度、流量、反射光柵的位置、移動速度和移動距離，以及清洗液和去離子水的沖洗量；另外開啟增壓和壓力調(diào)節(jié)器，將清洗液和去離子水的壓力設(shè)置為2個大氣壓時，操作中可省去上下移動反射光柵的操作，只將反射光柵固定在距離沖洗管5－10cm的下方位置。
通過上述實(shí)施例的方法進(jìn)行了50臺光譜儀的反射光柵的清洗試用，效果非常好，反射光柵的功能基本恢復(fù)如初。
應(yīng)當(dāng)指出，對于本技術(shù)領(lǐng)域的普通技術(shù)人員來說，在不脫離本發(fā)明原理的前提下，還可以做出若干改進(jìn)和變化，這些改進(jìn)和變化也應(yīng)視為本發(fā)明的保護(hù)范圍。