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一種新型氧化塔的制作方法

文檔序號:4865385閱讀:361來源:國知局
一種新型氧化塔的制作方法
【專利摘要】本實用新型涉及一種新型氧化塔,通過上方進液、下方進氣并在加壓條件下形成氣液逆流式接觸,待處理漿液從氧化塔上部進液,由上至下經過催化劑料板,通過第二通孔處的降液管到達氣液分布板的下方,與從氧化塔下部通入的氣體相遇,由于第三通孔具有一定阻力,將在所述氣液分布板的下方形成氣室,從而氣室下方液體中的氣泡上升進入氣室后,氣泡破碎與氣室內的空氣混合,之后經過第三通孔并被分割成新的氣泡,再與氣液分布板上方的液體接觸,根據(jù)氣液傳質原理,液體中氣泡的破碎和新氣泡的形成,將加快傳質過程,且大量小氣泡的產生有利于增加氣液接觸面;從而本實用新型所述氧化塔,有效提升傳質速率,增加氣液接觸面,氧化處理效率較高。
【專利說明】一種新型氧化塔

【技術領域】
[0001]本實用新型涉及一種新型氧化塔,屬于氧化塔的【技術領域】。

【背景技術】
[0002]隨著城市化進程的加快,城市污水的排放也日益增加,目前,活性污泥法由于成本低、耗能少等優(yōu)點,仍然是普遍使用的污水處理方法。然而,上述污水處理方法副產大量污泥。污泥是在污水處理系統(tǒng)的各個單元中所產生的固液混合物,是污水處理過程的附屬產物,含水率高,易腐爛,有強烈臭味,并且含有大量病原菌、寄生蟲卵以及鎘、鉻、鉛、汞等重金屬和難以降解的有毒有害及致癌物質。由此,未經適當處理的污泥進入環(huán)境后,直接給水體、土壤和大氣帶來二次污染,會對我國的生態(tài)環(huán)境和人們的活動構成嚴重的威脅。另一方面,污泥中來自土壤的有機質不能安全回歸土壤,造成土質越來越貧瘠。
[0003]傳統(tǒng)污水處理方法主要是經濃縮、厭氧消化處理后,農用、填埋或焚燒。但由于污泥中含有較多的有毒物質和重金屬離子,厭氧消化率低,污泥中有機物的分解率只有25%-45%,農用污泥易產生二次污染,從而污泥最終只能以填埋、焚燒為主。填埋占用大量土地,焚燒對污泥的減量化和穩(wěn)定化雖然效果較好,但存在能量消耗大、二次污染嚴重等問題。
[0004]濕式氧化法是目前對污泥處理比較有效的方法,具體是指在加溫加壓條件下,采用氣液接觸的方式,在氧化塔內利用空氣中的氧氣將污水中的高分子有機物氧化為co2、n2或氮氧化合物,最終使污泥中的蛋白質、脂肪部分分解成小分子,從而有效提高污泥可生化性。然而,在進行濕式氧化處理的過程中,由于氧化塔中氣液接觸面小,傳質速率小,導致氣液接觸時間過長,最終導致對污泥進行氧化處理的效率低。
實用新型內容
[0005]本實用新型所要解決的技術問題是現(xiàn)有技術中氧化塔中氣液接觸面小,傳質速率小,對污泥進行氧化處理的效率低,從而提供一種氣液充分接觸、氧化處理效率高的新型氧化塔。
[0006]為解決上述技術問題,本實用新型是通過以下技術方案實現(xiàn)的:
[0007]—種新型氧化塔,在所述氧化塔的上部設置有進液管和出氣管,在下部設置有進氣管,在底端還設置有出液管;
[0008]所述進氣管的出氣端延伸至所述氧化塔內部設置;在所述進氣管出氣端的上方設置有倒圓錐形的布氣板;所述倒圓錐形的布氣板的頂角為60° -150°,在所述布氣板上均勻分布有布氣孔;
[0009]還設置有催化單元,所述催化單元設置在所述進液管和出氣管的下方且位于所述布氣板的上方,所述催化單元包括:
[0010]催化劑料板,所述催化劑料板上均勻分布有第一通孔,在所述催化劑料板的外層表面上具有催化劑物料層;
[0011]氣液分布板,位于所述催化劑料板的下方,所述氣液分布板上均勻分布有第二通孔和第三通孔,所述第二通孔的孔徑大于所述第三通孔的孔徑,在所述第二通孔處向下延伸設置有降液管。
[0012]與所述進液管的出液端連通設置有布液管,所述布液管水平設置,所述布液管的管壁上設有布液孔,所述布液孔的開口向上且所述布液孔的中心軸線與水平方向呈30° -60° 夾角。
[0013]所述布液孔沿所述布液管的長度方向呈一排或多排分布。
[0014]所述布液孔設置有兩排,所述兩排布液孔位于所述進液管的兩側并呈對稱設置。
[0015]所述布液管的長徑比為15:1-3:1。
[0016]所述催化單元設置有多個,所述多個催化單元沿豎直方向依次排列。
[0017]所述催化劑物料層涂覆在所述催化劑料板的外表面上。
[0018]與所述出液管連接的管道上設置有排空閥。
[0019]在所述氧化塔的上部設有液位報警器。
[0020]本實用新型的上述技術方案相比現(xiàn)有技術具有以下優(yōu)點:
[0021](1)本實用新型所述的新型氧化塔,通過上方進液、下方進氣并在加壓條件下形成氣液逆流式接觸,進一步通過設置具有第二通孔、降液管和第三通孔的氣液分布板,待處理漿液從氧化塔上部進液,由上至下經過催化劑料板,通過第二通孔處的降液管到達氣液分布板的下方,與從氧化塔下部通入的氣體相遇,在進行氣液接觸的過程中,由于第三通孔具有一定阻力,將在所述氣液分布板的下方形成氣室,從而氣室下方液體中的氣泡上升進入氣室后,氣泡破碎與氣室內的空氣混合,之后經過第三通孔并被分割成新的氣泡,再與氣液分布板上方的液體接觸,根據(jù)氣液傳質原理,液體中氣泡的破碎和新氣泡的形成,將加快傳質過程,且大量小氣泡的產生有利于增加氣液接觸面;較之現(xiàn)有技術中氧化塔中氣液接觸面小,傳質速率小,對污泥進行氧化處理的效率低,本實用新型所述氧化塔,有效提升傳質速率,增加氣液接觸面,氧化處理效率較高。
[0022](2)本實用新型所述的新型氧化塔,通過與所述進液管的出液端連通設置有布液管,所述布液管水平設置,所述布液管的管壁上設有布液孔,所述布液孔的開口向上且所述布液孔的中心軸線與水平方向呈30° -60°夾角,從而由進液管進入布液管中的漿液通過布液孔向側上方呈30° -60°噴射布灑,在實現(xiàn)充分布液的基礎山,還能有效避免直接向下噴液對催化劑物料的沖擊,延長其使用壽命。.
[0023](3)本實用新型所述的新型氧化塔,與所述出液管連接的管道上設置有排空閥,從而所述出液管還兼作排空管使用,排空的同時可確保將液體排盡。

【專利附圖】

【附圖說明】
[0024]為了使本實用新型的內容更容易被清楚的理解,下面結合附圖,對本實用新型作進一步詳細的說明,其中,
[0025]圖1是本實用新型實施例2所述新型氧化塔的結構示意圖;
[0026]圖2A和圖2B分別是本實用新型所述氣液分布板的俯視圖和側視圖;
[0027]圖3A和圖3B分別是本實用新型所述布液管的側視圖和縱向截面圖。
[0028]圖中附圖標記表不為:1-進液管,11-布液管,12-布液孔,2-出氣管,3-催化劑料板,4-氣液分布板,41-第二通孔,42-第三通孔,43-降液管,5-進氣管,51-布氣板,6-出液管,7-排空閥,8-液位報警器。

【具體實施方式】
[0029]實施例1
[0030]本實施例提供一種新型氧化塔,其由上至下依次設置進液管1、出氣管2、催化單元、進氣管5和出液管6。
[0031]所述進液管1和出氣管2均設置于所述氧化塔的頂部;
[0032]所述催化單元包括催化劑料板3和氣液分布板4,作為可以選擇的實施方式,所述催化單元設置有一個或多個,所述多個催化單元沿豎直方向依次排列。
[0033]所述催化劑料板3的外表面上涂覆設有催化劑物料層,所述催化劑料板3上均勻分布有第一通孔,孔徑為10_ ;
[0034]所述氣液分布板4上均勻分布有第二通孔41和第三通孔42,所述第二通孔41的孔徑大于所述第三通孔42的孔徑,在所述第二通孔41處向下延伸設置降液管43 ;本實施例中,所述第二通孔41的孔徑為20mm ;所述第三通孔42的孔徑為0.5mm ;
[0035]所述進氣管5的出氣端延伸至所述氧化塔內部設置,在所述進氣管5出氣端的上方設置倒圓錐形的布氣板51,所述倒圓錐形的布氣板51的頂角為60°,所述布氣板51上均勻分布有布氣孔,所述布氣孔的孔徑為4-10mm ;
[0036]所述出液管6設于所述氧化塔的底部,所述出液管6的進液口位于所述進氣管5的出氣端的下方。
[0037]實施例2
[0038]本實施例提供一種新型氧化塔,如圖1所示,其由上至下依次設置進液管1、出氣管2、催化劑料板3、氣液分布板4、進氣管5和出液管6。
[0039]所述進液管1和出氣管2均設置于所述氧化塔的頂部;其中,與所述進液管1的出液端連通設置有布液管11 ;如圖3A和圖3B所示,所述布液管11的長徑比為15:1 ;所述布液管11水平設置,所述布液管11的管壁上設有布液孔12,所述布液孔12的開口向上且所述布液孔12的中心軸線與水平方向呈30°夾角(圖3B中的α角);所述布液孔12沿所述布液管11的長度方向呈一排或多排分布;本實施例中,所述布液孔12設置有兩排,所述兩排布液孔12位于所述進液管1的兩側并呈對稱設置。
[0040]所述催化單元包括催化劑料板3和氣液分布板4,作為可以選擇的實施方式,所述催化單元設置有一個或多個,本實施例所述催化單元設置有兩個,所述兩個催化單元沿豎直方向依次排列。
[0041]所述催化劑料板3的外表面上涂覆設有催化劑物料層,所述催化劑料板3上均勻分布有第一通孔,孔徑為25_ ;
[0042]如圖2Α和圖2Β所示,所述氣液分布板4上均勻分布有第二通孔41和第三通孔42 (圖中未全部顯示),所述第二通孔41的孔徑大于所述第三通孔42的孔徑,在所述第二通孔41處向下延伸設置降液管43 ;所述降液管43的長徑比為2:1,所述第二通孔41的孔徑為10mm ;所述第三通孔42的孔徑為1mm ;
[0043]其中,所述催化劑料板3和所述氣液分布板4可分別設置有多個,所述催化劑料板3和所述氣液分布板4在豎直方向上呈交錯設置。
[0044]所述進氣管5的出氣端延伸至所述氧化塔內部設置,在所述進氣管5的出氣端設置倒圓錐形的布氣板51,所述倒圓錐形的布氣板51的頂角為150°,所述布氣板51上均勻分布有布氣孔,所述布氣孔的孔徑為5mm ;
[0045]所述出液管6設于所述氧化塔的底部,所述出液管6的進液口位于所述進氣管5的出氣端的下方;本實施例中,與所述出液管6連接的管道上設置有排空閥7 ;從而所述出液管6還兼作排空管使用,排空的同時可確保將液體排盡。
[0046]作為可以選擇的實施方式,在所述氧化塔的上部還設有液位報警器8,所述液位警報器位于所述氧化塔的3/4高度處,以防止液面過高或過低。
[0047]實施例3
[0048]本實施例提供一種新型氧化塔,其由上至下依次設置進液管1、出氣管2、催化劑料板3、氣液分布板4、進氣管5和出液管6。
[0049]所述進液管1和出氣管2均設置于所述氧化塔的頂部;其中,與所述進液管1的出液端連通設置有布液管11,所述布液管11的長徑比為3:1 ;所述布液管11水平設置,所述布液管11的管壁上設有布液孔12,所述布液孔12的開口向上且所述布液孔12的中心軸線與水平方向呈45°夾角;所述布液孔12沿所述布液管11的長度方向呈一排或多排分布(見圖3);本實施例中,所述布液孔12設置有兩排,所述兩排布液孔12位于所述進液管1的兩側并呈對稱設置。
[0050]所述催化單元包括催化劑料板3和氣液分布板4。
[0051]所述催化劑料板3的外表面上涂覆設有催化劑物料層,所述催化劑料板3上均勻分布有第一通孔,孔徑為15_ ;
[0052]如圖2所示,所述氣液分布板4上均勻分布有第二通孔41和第三通孔42 (圖2中未全部顯示),所述第二通孔41的孔徑大于所述第三通孔42的孔徑,在所述第二通孔41處向下延伸設置降液管43,所述降液管43的長徑比為5:1 ;本實施例中,所述第二通孔41的孔徑為15mm ;所述第三通孔42的孔徑為2mm ;
[0053]所述進氣管5的出氣端延伸至所述氧化塔內部設置,在所述進氣管5的出氣端設置倒圓錐形的布氣板51,所述倒圓錐形的布氣板51的頂角為120°,所述布氣板51上均勻分布有布氣孔,所述布氣孔的孔徑為10mm;
[0054]所述出液管6設于所述氧化塔的底部,所述出液管6的進液口位于所述進氣管5的出氣端的下方;本實施例中,與所述出液管6連接的管道上設置有排空閥7 ;從而所述出液管6還兼作排空管使用,排空的同時可確保將液體排盡。
[0055]顯然,上述實施例僅僅是為清楚地說明所作的舉例,而并非對實施方式的限定。對于所屬領域的普通技術人員來說,在上述說明的基礎上還可以做出其它不同形式的變化或變動。這里無需也無法對所有的實施方式予以窮舉。而由此所引伸出的顯而易見的變化或變動仍處于本實用新型的保護范圍之中。
【權利要求】
1.一種新型氧化塔,在所述氧化塔的上部設置有進液管和出氣管,在下部設置有進氣管,在底端還設置有出液管; 其特征在于,所述進氣管的出氣端延伸至所述氧化塔內部設置;在所述進氣管出氣端的上方設置有倒圓錐形的布氣板;所述倒圓錐形的布氣板的頂角為60° -150°,在所述布氣板上均勻分布有布氣孔; 還設置有催化單元,所述催化單元設置在所述進液管和出氣管的下方且位于所述布氣板的上方,所述催化單元包括: 催化劑料板,所述催化劑料板上均勻分布有第一通孔,在所述催化劑料板的外層表面上具有催化劑物料層; 氣液分布板,位于所述催化劑料板的下方,所述氣液分布板上均勻分布有第二通孔和第三通孔,所述第二通孔的孔徑大于所述第三通孔的孔徑,在所述第二通孔處向下延伸設置有降液管。
2.根據(jù)權利要求1所述的新型氧化塔,其特征在于,與所述進液管的出液端連通設置有布液管,所述布液管水平設置,所述布液管的管壁上設有布液孔,所述布液孔的開口向上且所述布液孔的中心軸線與水平方向呈30° -60°夾角。
3.根據(jù)權利要求2所述的新型氧化塔,其特征在于,所述布液孔沿所述布液管的長度方向呈一排或多排分布。
4.根據(jù)權利要求3所述的新型氧化塔,其特征在于,所述布液孔設置有兩排,所述兩排布液孔位于所述進液管的兩側并呈對稱設置。
5.根據(jù)權利要求2或3或4所述的新型氧化塔,其特征在于,所述布液管的長徑比為15:1-3:1。
6.根據(jù)權利要求1或2或3或4所述的新型氧化塔,其特征在于,所述催化單元設置有多個,所述多個催化單元沿豎直方向依次排列。
7.根據(jù)權利要求1或2或3或4所述的新型氧化塔,其特征在于,所述催化劑物料層涂覆在所述催化劑料板的外表面上。
8.根據(jù)權利要求1或2或3或4所述的新型氧化塔,其特征在于,與所述出液管連接的管道上設置有排空閥。
9.根據(jù)權利要求1或2或3或4所述的新型氧化塔,其特征在于,在所述氧化塔的上部設有液位報警器。
【文檔編號】C02F11/06GK204185356SQ201420615947
【公開日】2015年3月4日 申請日期:2014年10月22日 優(yōu)先權日:2014年10月22日
【發(fā)明者】黃波, 張道春 申請人:北京久順科技有限公司
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