輻射源清潔系統(tǒng)和包括輻射源清潔系統(tǒng)的模塊的制作方法
【專利摘要】描述一種用于輻射源的清潔系統(tǒng)。清潔系統(tǒng)包括：(i)清潔室殼體；(ii)可移除地布置在清潔室殼體內的清潔筒；以及(iii)可移除地聯(lián)接到清潔室殼體的端蓋元件。清潔筒包括第一密封元件和第二密封元件，第一密封元件和第二密封元件能夠相對于輻射源的外表面提供大致液密密封。還描述輻射源模塊和包括輻射源模塊的流體處理系統(tǒng)。
【專利說明】輻射源清潔系統(tǒng)和包括輻射源清潔系統(tǒng)的模塊
[0001]相關申請的交叉參考
[0002]本申請根據(jù)35U.S.C.§ 119(e)要求2012年2月23日提交的臨時專利申請
S.N.61/634074的權益，該申請的內容通過引用合并于此。

【技術領域】
[0003]在一個方面，本發(fā)明涉及一種輻射源清潔系統(tǒng)，具體地用于流體處理系統(tǒng)。在另一方面，本發(fā)明涉及一種包括輻射源清潔系統(tǒng)的輻射源模塊以及結合有輻射源模塊的流體處理系統(tǒng)。

【背景技術】
[0004]流體處理系統(tǒng)在本領域中通常是已知的。更具體地，紫外(UV)輻射流體處理在本領域中通常是已知的。
[0005]早期處理系統(tǒng)包括容納一個或多個輻射(優(yōu)選為UV)燈的完全封閉室設計。這些早期設計存在一些問題。這些問題特別在應用于大型開放流動處理系統(tǒng)(通常是較大規(guī)模的市政廢水或飲用水處理廠)時呈現(xiàn)。因此，這種類型的反應器具有與其相關的以下問題:
[0006]反應器的相對高的投資成本；
[0007]難以接近浸沒反應器和/或被弄濕設備(燈、套筒清潔器等)；
[0008]與污垢材料從流體處理設備移除相關的難題；
[0009]相對低的流體消毒效率，和/或
[0010]要求設備的完全冗余以用于被弄濕部件(套筒、燈等)的維護。
[0011]傳統(tǒng)封閉式反應器的缺點導致所謂的“開放通道”反應器的開發(fā)。
[0012]例如，美國專利4482809、4872980 和 5006244 (都以 Maarschalkerweerd 的名義并都轉讓給本發(fā)明的受讓人，并且此后稱為Maarschalkerweerd#l專利)都描述了重力饋送流體處理系統(tǒng)，其采用紫外(UV)輻射。
[0013]這種系統(tǒng)包括UV燈模塊(例如框架)的陣列，其包括多個UV燈，每個燈安裝在套筒內，套筒在附接到橫向件的一對腿之間延伸并通過腿支承。由此支承的套筒(包括UV燈)浸沒在待處理的流體內，流體接著根據(jù)需要輻射。流體所暴露的輻射量通過流體與燈的接近程度、燈的輸出瓦數(shù)和流體經過燈的流速來確定。通常，一個或多個UV傳感器可用來監(jiān)視燈的UV輸出，并且流體水平通常在一定程度上在處理裝置的下游通過水平閘門等控制。
[0014]The Maarschalkerweerd#l專利教導流體處理系統(tǒng),其特征在于改進了從被弄濕或浸沒狀態(tài)取出設備而不需要完全設備冗余的能力。這些設計將燈陣列劃分成排和/或列，并且其特征在于使反應器頂部開放以便在“頂部開放”通道內提供流體的自由表面流動。
[0015]The Maarschalkerweerd#l專利教導的流體處理系統(tǒng)的特征在于具有流體的自由表面流動(通常頂部流體表面不被有意地控制或限制)。因此，該系統(tǒng)通常遵循開放通道水力學的性能。由于系統(tǒng)的設計固有地包括流體的自由表面流動，在每個燈或燈陣列在任一或其他液壓相鄰陣列受到水高度變化的不良影響之前可以處理的最大流動上具有限制。在較大流動或流動變化顯著時，可以允許流體的未受限制或自由表面流動以改變處理體積和流體流動的橫截面形狀，由此使得反應器的效率相對低。如果陣列中的每個燈的功率相對低，每個燈的相應流體流動會相對低。完全開放通道流體處理系統(tǒng)的概念能夠滿足這些較低燈功率和相應較低液壓加載處理系統(tǒng)。這里的問題在于，由于燈的功率較低，需要相對大量的燈來處理相同體積的流體流動。因此，系統(tǒng)的固有成本會很大和/或無法與自動燈套筒清潔和大流體體積處理系統(tǒng)的附加特征競爭。
[0016]這導致所謂“半封閉”流體處理系統(tǒng)。
[0017]美國專利5418370、5539210 和 Re36896(都以 Maarschalkerweerd 的名義并都轉讓給本發(fā)明的受讓人，并且此后稱為Maarschalkerweerd#2專利)都描述了與福射源(例如UV輻射源)一起使用的清潔系統(tǒng)。清潔系統(tǒng)的特征在于具有位于輻射源(例如UV輻射源)的套筒(例如石英套筒)外部的清潔室。清潔室被構造成接收清潔流體，并優(yōu)選地包括位于其相對端處的密封元件(例如O形圈)。清潔系統(tǒng)還包括運動元件，運動元件被構造成使清潔室相對于福射源在縮回位置和延伸位置之間運動。Maarschalkerweerd#2專利中描述的清潔系統(tǒng)是本領域的顯著進步。具體地,確信Maarschalkerweerd#2專利中描述的清潔系統(tǒng)是與輻射源一起使用的第一清潔系統(tǒng)，其綜合機械清潔(經由清潔室內的密封元件或O形圈)和化學清潔(經由清潔室內的清潔流體)。已經發(fā)現(xiàn)，與單獨使用機械清潔(這是Maarschalkerweerd#2專利之前的傳統(tǒng)方法)相比，這種綜合效果更好地從福射源的外部移除污垢材料。
[0018]雖然Maarschalkerweerd#2專利在本領域作出了進步,還具有改善的空間。具體地，隨著時間推移，變得需要維護清潔系統(tǒng)，更特別是更換用作密封并提供機械作用以便從福射源移除污垢材料的元件(例如O形圈、V形密封件等)。在Maarschalkerweerd#2專利中描述的清潔系統(tǒng)中，變得需要拆卸包括清潔系統(tǒng)的輻射源模塊，移除并更換這里描述的O形圈，并再次重新組裝部件。這需要模塊長時間停止工作，需要冗余設備(并增加投資成本)或關閉整個流體處理(由此不利地影響流體處理系統(tǒng)的總體效率)。
[0019]因此，非常希望具有一種清潔系統(tǒng)，其一方面保持化學和機械清潔的優(yōu)點，但允許密封元件(例如O形圈、V形密封件等)相對快速更換。優(yōu)選地，這通過以下方式實現(xiàn):(i)不需要從輻射源模塊移除整個清潔系統(tǒng)，和/或(ii)相對快速，使得輻射源模塊可以返回工作，而沒有顯著停機時間。
[0020]因此，非常希望具有一種克服以上問題的清潔系統(tǒng)和輻射源模塊。


【發(fā)明內容】

[0021]本發(fā)明的目的在于消除或減小現(xiàn)有技術的以上提到的缺陷中的至少一個。
[0022]本發(fā)明的另一目的在于提供一種用于輻射源的新穎清潔系統(tǒng)。
[0023]本發(fā)明的另一目的在于提供一種新穎的輻射源模塊。
[0024]本發(fā)明的另一目的在于提供一種新穎流體處理系統(tǒng)。
[0025]因此，在其一個方面，本發(fā)明提供一種用于輻射源的清潔系統(tǒng)，其包括:
[0026]⑴清潔室殼體；
[0027](ii)可移除地布置在清潔室殼體內的清潔筒，清潔筒包括第一密封元件和第二密封元件，第一密封元件和第二密封元件能夠相對于輻射源的外表面提供大致液密密封；以及
[0028](iii)可移除地聯(lián)接到清潔室殼體的端蓋元件。
[0029]因此,本發(fā)明人對于以上參照的Maarschalkerweerd#2專利中描述的清潔系統(tǒng)進行改進。更具體地，在本發(fā)明的清潔系統(tǒng)中，可以移除清潔系統(tǒng)的內部部件，允許用來從輻射源的外部移除污垢材料的密封元件的快速更換。因此，清潔系統(tǒng)的其他部件可在輻射源模塊上留在原位。另外，密封元件的更換可以非?？焖俚貙崿F(xiàn)，由此造成流體處理系統(tǒng)的總體功能的最小中斷。

【專利附圖】

【附圖說明】
[0030]將參考附圖描述本發(fā)明的實施方式，附圖中的相同附圖標記表示相同部件，附圖中:
[0031]圖1示出結合本發(fā)明清潔系統(tǒng)的優(yōu)選實施方式的輻射源模塊的部分剖去的透視圖；
[0032]圖2示出圖1的輻射源模塊中所含的輻射源的截面圖；
[0033]圖3示出圖1和2所示的輻射源模塊中示出的清潔系統(tǒng)的多種部件的分解視圖；
[0034]圖4示出移除輻射源模塊的端部以接近清潔系統(tǒng)；以及
[0035]圖5示出移除清潔系統(tǒng)的內部部件以便密封元件的更換。

【具體實施方式】
[0036]在其一個方面，本發(fā)明涉及一種用于輻射源的清潔系統(tǒng)，其包括:
[0037](i)清潔室殼體；
[0038](ii)可移除地布置在清潔室殼體內的清潔筒，清潔筒包括第一密封元件和第二密封元件，第一密封元件和第二密封元件能夠相對于輻射源的外表面提供大致液密密封；以及
[0039](iii)可移除地聯(lián)接到清潔室殼體的端蓋元件。
[0040]輻射源模塊的優(yōu)選實施方式可包括任何以下特征的任何兩個或更多個的任一或組合；
[0041]清潔筒還包括聯(lián)接到第一密封元件的第一蓋元件；
[0042]清潔筒還包括聯(lián)接到第二密封元件的第二蓋元件；
[0043]清潔筒還包括聯(lián)接到第一密封元件的第一蓋元件和聯(lián)接到第二密封元件的第二蓋元件；
[0044]清潔筒還包括能夠以間隔關系保持第一蓋元件和第二蓋元件的間隔元件；
[0045]間隔元件包括能夠與第一蓋元件聯(lián)接的第一端；
[0046]間隔元件的第一端和第一蓋元件被可移除地聯(lián)接；
[0047]間隔元件的第一端和第一蓋元件被螺紋聯(lián)接；
[0048]間隔元件包括能夠與第二蓋元件聯(lián)接的第二端部；
[0049]間隔元件的第二端和第二蓋元件被可移除地聯(lián)接；
[0050]間隔元件的第二端和第二蓋元件被螺紋聯(lián)接；
[0051]間隔元件包括能夠與第一蓋元件聯(lián)接的第一端和能夠與第二蓋元件聯(lián)接的第二端部；
[0052]間隔元件的第一端和第一蓋元件被可移除地聯(lián)接，并且間隔元件的第二端和第二蓋元件被可移除地聯(lián)接；
[0053]間隔元件的第一端和第一蓋元件被螺紋聯(lián)接，并且間隔元件的第二端和第二蓋元件被螺紋聯(lián)接；
[0054]清潔筒包括能夠允許清潔流體接觸輻射源的表面的多孔表面；
[0055]第一蓋元件包括能夠相對于第一蓋元件將第一密封元件保持在預定位置的第一間隔部分；
[0056]第二蓋元件包括能夠相對于第二蓋元件將第二密封元件保持在預定位置的第二間隔部分；
[0057](a)第一蓋元件包括能夠相對于第一蓋元件將第一密封元件保持在預定位置的第一間隔部分；以及(b)第二蓋元件包括能夠相對于第二蓋元件將第二密封元件保持在預定位置的第二間隔部分；
[0058]第一蓋元件包括能夠在第一蓋元件和清潔室殼體的第一內部之間形成大致液密密封的第三密封元件；
[0059]第三密封元件是環(huán)形的；
[0060]第三密封元件是O形圈；
[0061]第二蓋元件包括能夠在第二蓋元件和清潔室殼體的第二內部之間形成大致液密密封的第四密封元件；
[0062]第四密封元件是環(huán)形的；
[0063]第四密封元件是O形圈；
[0064]第一密封元件是環(huán)形的；
[0065]第一密封元件是V形密封件；
[0066]第二密封元件是環(huán)形的；
[0067]第二密封元件是V形密封件；
[0068]第一密封元件和第二密封元件直接聯(lián)接到能夠以間隔關系保持第一密封元件和第二密封元件的間隔元件；
[0069]第一密封元件和第二密封元件能夠直接移除地聯(lián)接到能夠以間隔關系保持第一密封元件和第二密封元件的間隔元件；
[0070]第一密封元件和第二密封元件直接永久聯(lián)接到能夠以間隔關系保持第一密封元件和第二密封元件的間隔元件；
[0071]清潔筒包括能夠允許清潔流體接觸輻射源的表面的多孔表面；
[0072]端蓋元件被螺紋聯(lián)接到清潔室殼體的第一端部；
[0073]端蓋元件包括能夠與第二蓋元件上的第三端部可釋放地接合的第二端部；
[0074]第二端部能夠使第三端部扭轉和鎖定，以允許清潔筒從清潔室殼體移除；以及
[0075]清潔室殼體包括能夠允許清潔流體添加到清潔室殼體的清潔流體入口。
[0076]在其一個方面，本發(fā)明涉及一種清潔系統(tǒng)模塊，其包括用于清潔多個輻射源的多個如上所述的清潔系統(tǒng)。
[0077]此清潔系統(tǒng)的優(yōu)選實施方式可包括以下特征的一個或兩個:
[0078]清潔系統(tǒng)與輻射源的比例為1:1 ;以及
[0079]清潔系統(tǒng)模塊還包括使清潔系統(tǒng)模塊相對于多個輻射源在縮回位置和延伸位置之間運動的運動元件。
[0080]在其另一方面，本發(fā)明涉及一種用于流體處理系統(tǒng)的輻射源模塊，輻射源模塊包括至少一個輻射源和如上所述的清潔系統(tǒng)。
[0081]在其又一方面，本發(fā)明涉及一種用于流體處理系統(tǒng)的輻射源模塊，輻射源模塊包括多個輻射源和多個如上所述的清潔系統(tǒng)。
[0082]此輻射源模塊的優(yōu)選實施方式可包括以下特征的一個或兩個:
[0083]清潔系統(tǒng)與輻射源的比例為1:1 ;以及
[0084]輻射源模塊還包括使清潔系統(tǒng)模塊相對于多個輻射源在縮回位置和延伸位置之間運動的運動元件。
[0085]在其又一方面，本發(fā)明涉及一種流體處理系統(tǒng)，包括具有布置其中的至少一個如上所述的輻射源模塊的流體處理區(qū)域。
[0086]參考圖1和2，示出輻射源模塊10的部分剖去的透視圖。輻射源模塊10包括底板15和側壁20 (與側壁20相對的附加側壁出于簡明而未示出)。
[0087]輻射源模塊10包括一系列輻射源25，每個輻射源25與清潔系統(tǒng)100接合。本領域普通技術人員將清楚唯一一個輻射源25在圖1中示出，但是應該理解到輻射源與圖1中的輻射源模塊10中所示的每個清潔系統(tǒng)100結合使用。
[0088]每個清潔系統(tǒng)100聯(lián)接到軛30。同樣聯(lián)接到軛30的是驅動機構35，驅動機構35用來使得軛30在延伸位置(圖1所示)和縮回位置(未示出)之間運動。
[0089]輻射套筒支承元件40聯(lián)接或連接到容座45，以便接收每個輻射源25的遠側部分。
[0090]輻射源模塊10上的附加細節(jié)可以在例如美國臨時專利申請S.N.61/457048和國際專利申請S.N.PCT/CA2011/001350中發(fā)現(xiàn)。
[0091]特別參照圖2，可以看到套筒支承元件40被構造成接收和固定輻射源25的閉合端27。
[0092]清潔系統(tǒng)100的多種部件現(xiàn)在將特別參照圖3來描述。
[0093]通常，清潔系統(tǒng)100包括清潔室殼體105、清潔筒110和端蓋元件115。在通常使用中，清潔筒110布置在清潔室殼體105中并通過端蓋元件115固定就位。
[0094]清潔筒110包括在其一端處具有O形圈125的頂蓋120。O形圈125在清潔筒110使用時與清潔室殼體105形成大致液密密封。
[0095]清潔筒110還包括具有經由摩擦配合聯(lián)接其上的環(huán)形V形密封件形式的擦拭密封件135的第一間隔元件130，特別參看用于描述V形密封件的圖2(本領域普通技術人員將認識到“V形”是參照圖2所示的密封件的總體橫截面的)。優(yōu)選地，張緊彈簧(出于簡明而未示出)設置成使擦拭密封件135朝著輻射源25張緊。這種張緊彈簧的使用用來使來自清潔室殼體105的清潔流體的泄漏最小，例如因為輻射源25的直徑的小變化。
[0096]接著，擦拭筒110包括具有開口端以接收第一間隔元件130的卷繞環(huán)140。在使用中，擦拭密封件135在清潔系統(tǒng)100中用作機械擦拭件。
[0097]頂蓋120可如所示通過螺紋接合聯(lián)接到卷繞環(huán)140的端部。
[0098]擦拭筒110還包括具有經由摩擦配合聯(lián)接其上的擦拭密封件150的第二間隔元件145，擦拭密封件150類似于以上描述的擦拭密封件135。再次，如同擦拭密封件135，張緊彈簧(出于簡明而未示出)可以與擦拭密封件150—起使用。在使用中，擦拭密封件150在清潔系統(tǒng)100中用作機械擦拭件。
[0099]清潔筒110還包括在其一端處具有O形圈160的底蓋155。在使用中，O形圈160與清潔室殼體105的內部形成大致液密密封。清潔室殼體105還包括用于分配清潔流體的入口端口 106和壓力釋放閥107。
[0100]底蓋155和卷繞籠140的相對端可以如同以上針對頂蓋120和卷繞籠140的另一端描述那樣通過螺紋接合聯(lián)接。
[0101]在清潔筒110完全組裝時，它可以布置在清潔室殼體105內。在此構型中，將理解到底蓋155具有一系列突耳165，其功能將在下面描述。
[0102]端蓋元件115具有與底蓋155上的突耳165可逆地接合的一系列突耳170。端蓋115可接著使用螺紋部分螺紋聯(lián)接到清潔室殼體105的端部，如圖3所示。
[0103]本領域普通技術人員將理解到大致液密清潔室通過清潔室殼體105、O形圈125、160、擦拭密封件135、150和輻射源25的存在組合形成。另外，將理解到清潔流體可以經由卷繞籠140中的開口經過入口 106添加到清潔室殼體105，并且將接觸輻射套筒25 (出于簡明而未在圖3中示出)。
[0104]現(xiàn)在將參照圖4和5描述維護擦拭密封件135、150的步驟。
[0105]因此，在希望維護擦拭密封件135、150時，軛30相對于輻射源25運動到延伸位置，參見示出清潔系統(tǒng)100相對于輻射源25位于延伸位置的圖4。
[0106]接著，套筒支承元件40被解開并從容座45移除。這暴露端蓋元件115的最遠側部分。端蓋元件115接著從清潔室殼體105旋開以暴露清潔筒110的底蓋155的突耳165。端蓋元件115被顛倒，使得突耳170可接著與底蓋155的突耳165接合。這允許整個擦拭筒110退回，見圖5。
[0107]此時，擦拭筒110可如同圖3中的擦拭筒110的元件的描述那樣拆卸。擦拭密封件135、150可被更換，并且整個單元被重新組裝。重新組裝的清潔筒110可接著通過顛倒以上步驟安裝在清潔室殼體105中。
[0108]有利地，更換擦拭密封件135、150的整個操作可以對于整個模塊在幾分鐘內完成。特別值得注意的是擦拭密封件135、150的更換可以在不從輻射源模塊拆卸整個清潔系統(tǒng)的情況下完成。這是本發(fā)明清潔系統(tǒng)的特別優(yōu)點。
[0109]雖然參照所示實施方式和例子描述了本發(fā)明，此描述不意圖以限制含義理解。因此，本領域普通技術人員在參照此說明書時將明白所示實施方式以及本發(fā)明的其他實施方式的多種改型。例如，雖然擦拭密封件135、150的優(yōu)選形式是圖2所示的V形密封件，應該認識到可以使用其他形式的密封件，例如O形圈等。另外，雖然本發(fā)明的清潔系統(tǒng)的所示實施方式包括具有可移除蓋的清潔筒、間隔元件(各自包括擦拭密封件)和卷繞環(huán)，這只是當前優(yōu)選的實施方式。例如，清潔筒可以基本上是一體的。此替代形式的一種實施方式可以調整卷繞環(huán)以具有用于每個擦拭密封件的適當凹槽(或其他保持元件)。一旦清潔筒從清潔室殼體退回，擦拭密封件可被更換，并且清潔筒可以被重新使用。此替代形式的另一實施方式可以調整卷繞環(huán)以具有永久聯(lián)接其上的擦拭密封件。一旦清潔筒從清潔室殼體縮退回，它將被丟棄，并且用具有永久聯(lián)接其上的擦拭密封件的新清潔筒更換。在這些替代實施方式的兩者中，頂蓋120和底蓋155可被省略。因此設想到所附權利要求將覆蓋任何這樣的變型或實施方式。
[0110]這里參照的所有公開文獻、專利和專利公開以相同的程度通過引用整體合并，似乎每個單獨公開文獻、專利或專利公開被特別和單獨指明通過引用而整體合并。
【權利要求】
1.一種用于輻射源的清潔系統(tǒng)，包括: (i)清潔室殼體； (?)可移除地布置在清潔室殼體內的清潔筒，清潔筒包括第一密封元件和第二密封元件，第一密封元件和第二密封元件能夠相對于輻射源的外表面提供大致液密密封；以及(iii)可移除地聯(lián)接到清潔室殼體的端蓋元件。
2.根據(jù)權利要求1所述的清潔系統(tǒng)，其中，清潔筒還包括聯(lián)接到第一密封元件的第一蓋元件。
3.根據(jù)權利要求1所述的清潔系統(tǒng)，其中，清潔筒還包括聯(lián)接到第二密封元件的第二蓋元件。
4.根據(jù)權利要求1所述的清潔系統(tǒng)，其中，清潔筒還包括聯(lián)接到第一密封元件的第一蓋元件和聯(lián)接到第二密封元件的第二蓋元件。
5.根據(jù)權利要求4所述的清潔系統(tǒng)，其中，清潔筒還包括能夠以間隔關系保持第一蓋元件和第二蓋元件的間隔元件。
6.根據(jù)權利要求5所述的清潔系統(tǒng)，其中，間隔元件包括能夠與第一蓋元件聯(lián)接的第一端。
7.根據(jù)權利要求6所述的清潔系統(tǒng)，其中，間隔元件的第一端和第一蓋元件被可移除地聯(lián)接。
8.根據(jù)權利要求6所述的清潔系統(tǒng)，其中，間隔元件的第一端和第一蓋元件被螺紋聯(lián)接。
9.根據(jù)權利要求5所述的清潔系統(tǒng)，其中，間隔元件包括能夠與第二蓋元件聯(lián)接的第二端部。
10.根據(jù)權利要求9所述的清潔系統(tǒng)，其中，間隔元件的第二端和第二蓋元件被可移除地聯(lián)接。
11.根據(jù)權利要求9所述的清潔系統(tǒng)，其中，間隔元件的第二端和第二蓋元件被螺紋聯(lián)接。
12.根據(jù)權利要求5所述的清潔系統(tǒng)，其中，間隔元件包括能夠與第一蓋元件聯(lián)接的第一端和能夠與第二蓋元件聯(lián)接的第二端部。
13.根據(jù)權利要求12中的任一項所述的清潔系統(tǒng)，其中，間隔元件的第一端和第一蓋元件被可移除地聯(lián)接，并且間隔元件的第二端和第二蓋元件被可移除地聯(lián)接。
14.根據(jù)權利要求12中的任一項所述的清潔系統(tǒng)，其中，間隔元件的第一端和第一蓋元件被螺紋聯(lián)接，并且間隔元件的第二端和第二蓋元件被螺紋聯(lián)接。
15.根據(jù)權利要求1-11中的任一項所述的清潔系統(tǒng)，其中，清潔筒包括能夠允許清潔流體接觸輻射源的表面的多孔表面。
16.根據(jù)權利要求1-15中的任一項所述的清潔系統(tǒng)，其中，第一蓋元件包括能夠相對于第一蓋元件將第一密封元件保持在預定位置的第一間隔部分。
17.根據(jù)權利要求1-15中的任一項所述的清潔系統(tǒng)，其中，第二蓋元件包括能夠相對于第二蓋元件將第二密封元件保持在預定位置的第二間隔部分。
18.根據(jù)權利要求1-15中的任一項所述的清潔系統(tǒng)，其中，(a)第一蓋元件包括能夠相對于第一蓋元件將第一密封元件保持在預定位置的第一間隔部分；以及(b)第二蓋元件包括能夠相對于第二蓋元件將第二密封元件保持在預定位置的第二間隔部分。
19.根據(jù)權利要求1-15中的任一項所述的清潔系統(tǒng)，其中，第一蓋元件包括能夠在第一蓋元件和清潔室殼體的第一內部之間形成大致液密密封的第三密封元件。
20.根據(jù)權利要求19所述的清潔系統(tǒng)，其中，第三密封元件是環(huán)形的。
21.根據(jù)權利要求19所述的清潔系統(tǒng)，其中，第三密封元件是O形圈。
22.根據(jù)權利要求1-21中的任一項所述的清潔系統(tǒng)，其中，第二蓋元件包括能夠在第二蓋元件和清潔室殼體的第二內部之間形成大致液密密封的第四密封元件。
23.根據(jù)權利要求22所述的清潔系統(tǒng)，其中，第四密封元件是環(huán)形的。
24.根據(jù)權利要求22中的任一項所述的清潔系統(tǒng)，其中，第四密封元件是O形圈。
25.根據(jù)權利要求1-24中的任一項所述的清潔系統(tǒng)，其中，第一密封元件是環(huán)形的。
26.根據(jù)權利要求1-24中的任一項所述的清潔系統(tǒng)，其中，第一密封元件是V形密封件。
27.根據(jù)權利要求1-26中的任一項所述的清潔系統(tǒng)，其中，第二密封元件是環(huán)形的。
28.根據(jù)權利要求1-26中的任一項所述的清潔系統(tǒng)，其中，第二密封元件是V形密封件。
29.根據(jù)權利要求1所述的清潔系統(tǒng)，其中，第一密封元件和第二密封元件直接聯(lián)接到能夠以間隔關系保持第一密封元件和第二密封元件的間隔元件。
30.根據(jù)權利要求1所述的清潔系統(tǒng)，其中，第一密封元件和第二密封元件能夠直接移除地聯(lián)接到能夠以間隔關系保持第一密封元件和第二密封元件的間隔元件。
31.根據(jù)權利要求1所述的清潔系統(tǒng)，其中，第一密封元件和第二密封元件直接永久聯(lián)接到能夠以間隔關系保持第一密封元件和第二密封元件的間隔元件。
32.根據(jù)權利要求1-11中的任一項所述的清潔系統(tǒng)，其中，清潔筒包括能夠允許清潔流體接觸輻射源的表面的多孔表面。
33.根據(jù)權利要求1-32中的任一項所述的清潔系統(tǒng)，其中，端蓋元件被螺紋聯(lián)接到清潔室殼體的第一端部。
34.根據(jù)權利要求1-33中的任一項所述的清潔系統(tǒng)，其中，端蓋元件包括能夠與第二蓋元件上的第三端部可釋放地接合的第二端部。
35.根據(jù)權利要求34所述的清潔系統(tǒng)，其中，第二端部能夠使第三端部扭轉和鎖定，以允許清潔筒從清潔室殼體移除。
36.根據(jù)權利要求1-35中的任一項所述的清潔系統(tǒng)，其中，清潔室殼體包括能夠允許清潔流體添加到清潔室殼體的清潔流體入口。
37.一種清潔系統(tǒng)模塊，其包括用于清潔多個輻射源的多個根據(jù)權利要求1-36中任一項所述的清潔系統(tǒng)。
38.根據(jù)權利要求37所述的清潔系統(tǒng)模塊，其中，清潔系統(tǒng)與輻射源的比例為1:1。
39.根據(jù)權利要求37-38中的任一項所述的清潔系統(tǒng)模塊，還包括使清潔系統(tǒng)模塊相對于多個輻射源在縮回位置和延伸位置之間運動的運動元件。
40.一種用于流體處理系統(tǒng)的輻射源模塊，輻射源模塊包括至少一個輻射源和根據(jù)權利要求1-36中的任一項所述的清潔系統(tǒng)。
41.一種用于流體處理系統(tǒng)的輻射源模塊，輻射源模塊包括多個輻射源和多個根據(jù)權利要求1-36中的任一項所述的清潔系統(tǒng)。
42.根據(jù)權利要求41所述的輻射源模塊，其中，清潔系統(tǒng)與輻射源的比例為1:1。
43.根據(jù)權利要求41-42中的任一項所述的輻射源模塊，還包括使清潔系統(tǒng)模塊相對于多個輻射源在縮回位置和延伸位置之間運動的運動元件。
44.一種流體處理系統(tǒng),包括具有布置其中的至少一個根據(jù)權利要求40-43中的任一項所述的輻射源模塊的流體處理區(qū)域。
【文檔編號】C02F1/30GK104245160SQ201380010744
【公開日】2014年12月24日 申請日期:2013年2月25日 優(yōu)先權日:2012年2月23日
【發(fā)明者】J·T·巴克, W·弗羅姆, E·坎布勞 申請人:特潔安技術公司