一種去除廢水中edta的裝置制造方法
【專利摘要】本實用新型公開了一種去除廢水中EDTA的裝置，包括紫外線輻照氧化處理系統(tǒng)、絮凝沉淀系統(tǒng)以及pH值回調(diào)系統(tǒng)；所述紫外線輻射氧化處理系統(tǒng)包括氧化池、硫酸儲存箱、雙氧水儲存箱、紫外線燈、第一攪拌器，所述氧化池的出水口與絮凝沉淀系統(tǒng)的入口相連接；所述絮凝沉淀系統(tǒng)包括1#pH值調(diào)節(jié)池、斜管式沉淀池、燒堿溶液儲存箱、PAM儲存箱、污泥池、第二攪拌器，所述斜管式沉淀池的上部清水出口與pH值回調(diào)系統(tǒng)的入口相連接；所述pH值回調(diào)系統(tǒng)包括2#pH值調(diào)節(jié)池、第三攪拌器。本實用新型結(jié)構(gòu)合理、采用較為簡單的裝置解決了含EDTA廢水在中水回用過程中的堵膜問題，減少了中水回用過程中的停工時間。
【專利說明】一種去除廢水中EDTA的裝置
【技術(shù)領(lǐng)域】
[0001]本發(fā)明屬于工業(yè)廢水處理【技術(shù)領(lǐng)域】，具體涉及一種去除廢水中EDTA的裝置，特別是涉及一種去除電鍍或化鍍廢水中EDTA的裝置。
【背景技術(shù)】
[0002]電鍍或者化鍍行業(yè)的中水回用一般是指對鍍后產(chǎn)品進(jìn)行漂洗所產(chǎn)生的漂洗廢水或者鍍前產(chǎn)品進(jìn)行酸洗時的酸洗廢水通過反滲透處理而循環(huán)使用的過程。EDTA (EthyleneDiamine Tetraacetic Acid,乙二胺四乙酸，本發(fā)明EDTA表示EDTA及其鹽。)是一類良好的金屬絡(luò)合劑，它有六個配位原子，可以與所有的金屬原子形成摩爾比為1:1的穩(wěn)定的水溶性配位化合物，這種配位化合物也就是通常所說的螯合物。除鈉鹽外，還有銨鹽及鐵、鎂、鈣、銅、猛、鋅、鈷、招等各種鹽。EDTA及其鹽被廣泛應(yīng)用于電鍍、紡織印染、精細(xì)化工、醫(yī)藥、合成橡膠以及食品等工業(yè)。EDTA及其鹽在電鍍及化鍍工業(yè)中廣泛應(yīng)用于Pb2+、Cu2+、Zn2+以及Cr3+等的螯合劑，在這些應(yīng)用中尤以EDTA-2Na最為重要。由于EDTA及其鹽屬于穩(wěn)定的化合物，在水中與重金屬離子形成的螯合物也很穩(wěn)定，在電鍍及化鍍廢水處理中相對困難。傳統(tǒng)采用Fenton試劑或者Fenton試劑與紫外線輻照相結(jié)合的方式處理，均無法去除EDTA。采用這些方法處理后EDTA幾乎完全無變化甚至與加入的Fe2+或者Fe3+轉(zhuǎn)化成了更加穩(wěn)定的物質(zhì)。如果漂洗廢水中所含的絡(luò)合物在進(jìn)行反滲透之前沒有能夠被有效破除，在中水回用的反滲透過程中將會出現(xiàn)嚴(yán)重的膜堵塞問題。
[0003]現(xiàn)有EDTA生物降解的方法只適用于不含重金屬離子的廢水體系。由于EDTA自身的穩(wěn)定性，不含重金屬離子的廢水體系生化處理周期通常超過5天時間，導(dǎo)致設(shè)備及場地占用問題突出，一次投資成本過高。采用鐵碳床電解法進(jìn)行EDTA的處理也有鐵碳床自身的一些缺點:高耗電以及鐵碳床的板結(jié)問題。并且以上方法只適用于對電鍍或者化鍍漂洗水的直接處理排放，并不能用于現(xiàn)在電鍍及化鍍行業(yè)普遍要求的中水回用。所以，實現(xiàn)對EDTA的直接處理再進(jìn)行中水回用具有重要的意義。

【發(fā)明內(nèi)容】

[0004]本實用新型的目的是針對電鍍及化學(xué)鍍工業(yè)中EDTA去除的難題，使用特定的裝置，按照“紫外線輻照處理一沉淀一PH值回調(diào)”的工藝過程，設(shè)計一種能夠快速高效、低成本去除廢水中EDTA的裝置，解決中水回用過程中由于EDTA絡(luò)合物的存在而導(dǎo)致的堵膜問題。
[0005]本實用新型的目的可以通過以下措施達(dá)到:
[0006]一種去除廢水中EDTA的裝置，包括紫外線輻照氧化處理系統(tǒng)、絮凝沉淀系統(tǒng)以及PH值回調(diào)系統(tǒng)；所述紫外線輻射氧化處理系統(tǒng)包括氧化池、硫酸儲存箱、雙氧水儲存箱、紫外線燈、第一攪拌器，所述紫外線燈置于相應(yīng)石英套中并豎直安裝于氧化池內(nèi)部，所述第一攪拌器置于氧化池上方且其攪拌槳插入氧化池內(nèi)，所述硫酸儲存箱、雙氧水儲存箱分別與氧化池相連接，所述氧化池的出水口與所述絮凝沉淀系統(tǒng)的入口相連接；所述絮凝沉淀系統(tǒng)包括1#ρΗ值調(diào)節(jié)池、斜管式沉淀池、燒堿溶液儲存箱、PAM儲存箱、污泥池、第二攪拌器，所述第二攪拌器置于1#ρΗ值調(diào)節(jié)池上方且其攪拌槳插入1#ρΗ值調(diào)節(jié)池內(nèi)，所述燒堿溶液儲存箱、PAM儲存箱分別和IttpH值調(diào)節(jié)池相連接，所述IttpH值調(diào)節(jié)池的出水口和斜管式沉淀池的入口相連接，所述斜管式沉淀池下部污泥出口與污泥池相連接，所述斜管式沉淀池的上部清水出口與所述PH值回調(diào)系統(tǒng)的入口相連接；所述pH值回調(diào)系統(tǒng)包括2#ρΗ值調(diào)節(jié)池、第三攪拌器，所述第三攪拌器置于2#ρΗ值調(diào)節(jié)池上方且其攪拌槳插入2#ρΗ值調(diào)節(jié)池內(nèi)，所述2#ρΗ值調(diào)節(jié)池與所述硫酸儲存箱相連接，所述2#ρΗ值調(diào)節(jié)池的出水口與中水回用裝置的反滲透膜系統(tǒng)相連接。
[0007]所述雙氧水儲存箱和氧化池的連接管路上設(shè)有計量栗，用于控制雙氧水加入量。所述氧化池還設(shè)有1#ρΗ控制器，所述硫酸儲存箱和氧化池的連接管路上設(shè)有第一加藥栗，所述第一加藥栗由第一 PH控制器控制。
[0008]所述PAM儲存箱和IttpH值調(diào)節(jié)池的連接管路上設(shè)有第三加藥栗，用于控制PAM加入量。
[0009]所述1#PH值調(diào)節(jié)池還設(shè)有第二 pH控制器，所述燒堿溶液儲存箱和1#ρΗ值調(diào)節(jié)池的連接管路上設(shè)有第二加藥栗，所述第二加藥栗由第二 pH控制器控制。
[0010]所述2#ρΗ值調(diào)節(jié)池還設(shè)有第三pH控制器，所述硫酸儲存箱和2#ρΗ值調(diào)節(jié)池的連接管路上設(shè)有第四加藥栗，所述第四加藥栗由第三pH控制器控制。
[0011]所述氧化池和生產(chǎn)線上廢水出水口相連接，在氧化池的進(jìn)水管路上設(shè)有第一水栗。
[0012]所述氧化池和1#ρΗ值調(diào)節(jié)池的連接管路上設(shè)有第二水栗，所述1#ρΗ值調(diào)節(jié)池和斜管式沉淀池的連接管路上設(shè)有第三水栗，所述斜管式沉淀池和2#ρΗ值調(diào)節(jié)池的連接管路上設(shè)有第四水栗。
[0013]所述2#ρΗ值調(diào)節(jié)池和中水回用裝置的反滲透膜系統(tǒng)的連接管路上設(shè)有第五水栗。
[0014]所述斜管式沉淀池和污泥池的連接管路上還設(shè)有污泥栗，所述污泥栗用于定期抽出污泥池中的沉淀污泥。
[0015]和現(xiàn)有技術(shù)相比，本實用新型的特點是:
[0016]本實用新型增加了紫外輻照、絮凝沉淀及pH值調(diào)節(jié)裝置，對于現(xiàn)有中水回用設(shè)備只需要進(jìn)行少量的改裝，不需要大的設(shè)備投資及場地擴(kuò)容。
[0017]本實用新型結(jié)構(gòu)合理、采用較為簡單的裝置解決了含EDTA廢水在中水回用過程中的堵膜問題，減少了中水回用過程中的停工時間。經(jīng)本裝置處理后的廢水在中水回用過程中產(chǎn)生的膜濃水中絡(luò)合物含量很低，降低了膜濃水的處理難度，可以實現(xiàn)膜濃水的直接化學(xué)、物理處理而無需采用高耗能的蒸發(fā)處理設(shè)備，所以也降低了膜濃水的處理成本。
【專利附圖】

【附圖說明】
[0018]圖1為本實用新型去除電鍍廢水中EDTA的裝置的結(jié)構(gòu)示意圖。
[0019]圖1中，1-氧化池，2-1#ρΗ值調(diào)節(jié)池，3-斜管沉淀池，4-2#ρΗ值回調(diào)池，5-硫酸儲存箱，6-雙氧水儲存箱，7-燒堿溶液儲存箱，8-ΡΑΜ儲存箱，9-紫外線燈，10-污泥池，11-第一攪拌器，12-第一水栗，13-第一加藥栗，14-第一 pH控制器，15-定量栗，16-第二水栗，17-第二攪拌器，18-第二加藥栗，19-第二 pH控制器，20-第三加藥栗，21-第三水栗，22-污泥栗，23-第四水栗，24-第三攪拌器，25-第四加藥栗，26-第三pH控制器，27-第五水栗。
【具體實施方式】
[0020]下面結(jié)合附圖對本實用新型做進(jìn)一步說明。
[0021]如圖1所示，一種去除廢水中EDTA的裝置，包括紫外線輻照氧化處理系統(tǒng)、絮凝沉淀系統(tǒng)以及PH值回調(diào)系統(tǒng)。
[0022]所述紫外線輻射氧化處理系統(tǒng)包括氧化池1、硫酸儲存箱5、雙氧水儲存箱6、紫外線燈9、第一攪拌器11、第一 pH控制器14，所述紫外線燈9置于相應(yīng)石英套中并豎直安裝于氧化池I內(nèi)部，所述第一攪拌器11置于氧化池上方且其攪拌槳插入氧化池I內(nèi)；所述硫酸儲存箱5、雙氧水儲存箱6分別與氧化池I相連接，雙氧水儲存箱6和氧化池I的連接管路上設(shè)有計量栗15，用于控制雙氧水加入量；硫酸儲存箱5和氧化池I的連接管路上設(shè)有第一加藥栗13，所述第一加藥栗13由第一 pH值控制器14控制；所述氧化池I的出水口與所述絮凝沉淀系統(tǒng)的入口相連接。
[0023]所述絮凝沉淀系統(tǒng)包括1#ρΗ值調(diào)節(jié)池2、斜管式沉淀池3、燒堿溶液儲存箱7、PAM儲存箱8、污泥池10、第二攪拌器17、第二 pH控制器19，所述第二攪拌器17置于1#ρΗ值調(diào)節(jié)池2上方且其攪拌槳插入1#ρΗ值調(diào)節(jié)池2內(nèi)，所述燒堿溶液儲存箱7、PAM儲存箱8分別和1#ρΗ值調(diào)節(jié)池2相連接，PAM儲存箱8和1#ρΗ值調(diào)節(jié)池2的連接管路上設(shè)有第三加藥栗20，用于控制PAM加入量；所述燒堿溶液儲存箱7和1#ρΗ值調(diào)節(jié)池2的連接管路上設(shè)有第二加藥栗18，所述第二加藥栗18由第二 pH控制器19控制；所述IttpH值調(diào)節(jié)池2的出水口和斜管式沉淀池3的入口相連接，所述斜管式沉淀池3下部污泥出口與污泥池10相連接，所述斜管式沉淀池3的上部清水出口與所述pH值回調(diào)系統(tǒng)的入口相連接。
[0024]所述pH值回調(diào)系統(tǒng)包括2#pH值調(diào)節(jié)池4、第三攪拌器24、第三pH控制器26，所述第三攪拌器24置于2#pH值調(diào)節(jié)池4上方且其攪拌槳插入2#pH值調(diào)節(jié)池4內(nèi)，所述2#pH值調(diào)節(jié)池4與所述硫酸儲存箱5相連接，所述硫酸儲存箱5和2#pH值調(diào)節(jié)池4的連接管路上設(shè)有第四加藥栗25，所述第四加藥栗25由第三pH控制器26控制；所述2#ρΗ值調(diào)節(jié)池4的出水口與中水回用裝置的反滲透膜系統(tǒng)相連接。
[0025]所述氧化池I和生產(chǎn)線上廢水出水口相連接，在氧化池的進(jìn)水管路上設(shè)有第一水栗12。
[0026]所述氧化池I和1#ρΗ值調(diào)節(jié)池2的連接管路上設(shè)有第二水栗16，所述1#ρΗ值調(diào)節(jié)池2和斜管式沉淀池3的連接管路上設(shè)有第三水栗21，所述斜管式沉淀池3和2#ρΗ值調(diào)節(jié)池4的連接管路上設(shè)有第四水栗23。
[0027]所述2#ρΗ值調(diào)節(jié)池4和中水回用裝置的反滲透膜系統(tǒng)的連接管路上設(shè)有第五水栗27。
[0028]所述斜管式沉淀池3和污泥池10的連接管路上還設(shè)有污泥栗22，所述污泥栗22用于定期抽出污泥池10中的沉淀污泥。
【權(quán)利要求】
1.一種去除廢水中EDTA的裝置，其特征在于包括紫外線輻照氧化處理系統(tǒng)、絮凝沉淀系統(tǒng)以及PH值回調(diào)系統(tǒng)；所述紫外線輻射氧化處理系統(tǒng)包括氧化池(I)、硫酸儲存箱(5)、雙氧水儲存箱(6 )、紫外線燈(9 )、第一攪拌器(11)，所述紫外線燈(9 )置于相應(yīng)石英套中并豎直安裝于氧化池(I)內(nèi)部，所述第一攪拌器(11)置于氧化池上方且其攪拌槳插入氧化池(1)內(nèi)，所述硫酸儲存箱(5)、雙氧水儲存箱(6 )分別與氧化池(I)相連接，所述氧化池(I)的出水口與所述絮凝沉淀系統(tǒng)的入口相連接；所述絮凝沉淀系統(tǒng)包括IttpH值調(diào)節(jié)池(2)、斜管式沉淀池(3 )、燒堿溶液儲存箱(7 )、PAM儲存箱(8 )、污泥池(10 )、第二攪拌器(17)，所述第二攪拌器(17)置于1#ρΗ值調(diào)節(jié)池(2)上方且其攪拌槳插入1#ρΗ值調(diào)節(jié)池(2)內(nèi)，所述燒堿溶液儲存箱(7)、PAM儲存箱(8)分別和1#ρΗ值調(diào)節(jié)池(2)相連接，所述1#ρΗ值調(diào)節(jié)池(2)的出水口和斜管式沉淀池(3)的入口相連接，所述斜管式沉淀池(3)下部污泥出口與污泥池(10)相連接，所述斜管式沉淀池(3)的上部清水出口與所述pH值回調(diào)系統(tǒng)的入口相連接；所述PH值回調(diào)系統(tǒng)包括2#pH值調(diào)節(jié)池(4)、第三攪拌器(24)，所述第三攪拌器(24)置于2#pH值調(diào)節(jié)池(4)上方且其攪拌槳插入2#pH值調(diào)節(jié)池(4)內(nèi)，所述2#pH值調(diào)節(jié)池(4)與所述硫酸儲存箱(5)相連接，所述2#ρΗ值調(diào)節(jié)池(5)的出水口與中水回用裝置的反滲透膜系統(tǒng)相連接。
2.根據(jù)權(quán)利要求1所述的去除廢水中EDTA的裝置，其特征在于所述雙氧水儲存箱(6)和氧化池(I)的連接管路上設(shè)有計量栗(15)。
3.根據(jù)權(quán)利要求1所述的去除廢水中EDTA的裝置，其特征在于所述氧化池(I)還設(shè)有第一 pH控制器(14)，所述硫酸儲存箱(5)和氧化池(I)的連接管路上設(shè)有第一加藥栗(13)，所述第一加藥栗(13)由第一 pH控制器(14)控制。
4.根據(jù)權(quán)利要求1所述的去除廢水中EDTA的裝置，其特征在于所述PAM儲存箱(8)和1#ρΗ值調(diào)節(jié)池(2 )的連接管路上設(shè)有第三加藥栗(20 )。
5.根據(jù)權(quán)利要求1所述的去除廢水中EDTA的裝置，其特征在于所述IttpH值調(diào)節(jié)池(2)還設(shè)有第二 PH控制器(19)，所述燒堿溶液儲存箱(7)和1#ρΗ值調(diào)節(jié)池(2)的連接管路上設(shè)有第二加藥栗(18)，所述第二加藥栗(18)由第二 pH控制器(19)控制； 所述2#pH值調(diào)節(jié)池(4 )還設(shè)有第三pH控制器(26 )，所述硫酸儲存箱(5 )和2#pH值調(diào)節(jié)池(4)的連接管路上設(shè)有第四加藥栗(25)，所述第四加藥栗(25)由第三pH控制器(26)控制。
6.根據(jù)權(quán)利要求1所述的去除廢水中EDTA的裝置，其特征在于在所述氧化池(I)的進(jìn)水管路上設(shè)有第一水栗(12)。
7.根據(jù)權(quán)利要求1所述的去除廢水中EDTA的裝置，其特征在于所述氧化池(I)和Ift3H值調(diào)節(jié)池(2)的連接管路上設(shè)有第二水栗(16)，所述1#ρΗ值調(diào)節(jié)池(2)和斜管式沉淀池(3)的連接管路上設(shè)有第三水栗(21)，所述斜管式沉淀池(3)和2#ρΗ值調(diào)節(jié)池(4)的連接管路上設(shè)有第四水栗(23)。
8.根據(jù)權(quán)利要求1所述的去除廢水中EDTA的裝置，其特征在于所述2#ρΗ值調(diào)節(jié)池(4)和中水回用裝置的反滲透膜系統(tǒng)的連接管路上設(shè)有第五水栗(27)。
9.根據(jù)權(quán)利要求1所述的去除廢水中EDTA的裝置，其特征在于所述斜管式沉淀池(3)和污泥池(10 )的連接管路上還設(shè)有污泥栗(22 )。
【文檔編號】C02F103/16GK203602428SQ201320673262
【公開日】2014年5月21日 申請日期:2013年10月29日 優(yōu)先權(quán)日:2013年10月29日
【發(fā)明者】沈德華, 范正芳, 康佑軍, 秦晴, 蔡大牛, 高娟, 李瑞鵬, 張偉, 寧軍, 毛鴻浩, 吳冬飛, 紀(jì)國慶, 裴寧, 黃亞俊 申請人:南京源泉環(huán)保科技股份有限公司