專利名稱：硅垢去除劑的制作方法
技術(shù)領(lǐng)域：
本發(fā)明涉及一種水垢抑制劑。
背景技術(shù)：
現(xiàn)有的水垢抑制劑，效果不理想，生產(chǎn)成本高。

發(fā)明內(nèi)容
本發(fā)明的目的在于提供一種使用效果好的硅垢去除劑。
本發(fā)明的技術(shù)解決方案是
一種硅垢去除劑，其特征是由下列重量份的成分組成
氟化銨5 10份
過(guò)氧化氫1 3份
胼1 3份
非離子表面活性劑1 5份。
所述的硅垢去除劑，由下列重量份的成分組成
氟化銨7份
過(guò)氧化氫2份
胼1份
非離子表面活性劑4份。
本發(fā)明配方合理，使用效果好，生產(chǎn)成本低。
下面結(jié)合實(shí)施例對(duì)本發(fā)明作進(jìn)一步說(shuō)明。
具體實(shí)施例方式
實(shí)施例1
一種硅垢去除劑，由下列3
氟化銨7份
過(guò)氧化氫2份
胼1份
非離子表面活性劑4份。
實(shí)施例2
一種硅垢去除劑，由下列3
氟化銨8份
過(guò)氧化氫3份
胼2份
非離子表面活性劑1份。
權(quán)利要求
1.一種硅垢去除劑，其特征是由下列重量份的成分組成 氟化銨5 10份過(guò)氧化氫1 3份胼1 3份非離子表面活性劑1 5份。
2.根據(jù)權(quán)利要求1所述的硅垢去除劑，其特征是由下列重量份的成分組成 氟化銨7份過(guò)氧化氫2份胼1份非離子表面活性劑4份。
全文摘要
本發(fā)明公開(kāi)了一種硅垢去除劑，由氟化銨、過(guò)氧化氫、肼、非離子表面活性劑組成。本發(fā)明配方合理，使用效果好，生產(chǎn)成本低。
文檔編號(hào)C02F5/08GK102398993SQ20101028306
公開(kāi)日2012年4月4日 申請(qǐng)日期2010年9月14日 優(yōu)先權(quán)日2010年9月14日
發(fā)明者曹建兵 申請(qǐng)人:曹建兵