專(zhuān)利名稱(chēng)：加工廢液處理裝置的制作方法
技術(shù)領(lǐng)域：
本發(fā)明涉及一種加工廢液處理裝置，其附設(shè)于對(duì)半導(dǎo)體晶片等被加工物進(jìn)行切削 的切削裝置等加工裝置，用于對(duì)加工時(shí)供給的加工液的廢液進(jìn)行處理。
背景技術(shù)：
在半導(dǎo)體器件制造工序中，在大致圓板形狀的半導(dǎo)體晶片的表面通過(guò)呈格子 狀地排列的被稱(chēng)為間隔道的分割預(yù)定線(xiàn)劃分出多個(gè)區(qū)域，在該劃分出的區(qū)域中形成 ICdntegrated Circuit 集成電路)、LSI (Large—scalelntegration 大規(guī)模集成電路)等 器件。然后，通過(guò)沿著間隔道將半導(dǎo)體晶片切斷來(lái)分割形成有器件的區(qū)域，從而制造出一個(gè) 個(gè)半導(dǎo)體器件。此外，在藍(lán)寶石基板的表面層疊有氮化鎵系化合物半導(dǎo)體等的光器件晶片 也通過(guò)沿著間隔道切斷而分割成一個(gè)個(gè)發(fā)光二極管、激光二極管等光器件，并廣泛利用于 電氣設(shè)備。上述的半導(dǎo)體晶片或光器件晶片等的沿著間隔道的切斷通常利用被稱(chēng)作劃片機(jī) 的切削裝置來(lái)進(jìn)行。該切削裝置具備卡盤(pán)工作臺(tái)，該卡盤(pán)工作臺(tái)保持半導(dǎo)體晶片等被加工 物；切削構(gòu)件，該切削構(gòu)件具備用于對(duì)由該卡盤(pán)工作臺(tái)保持的被加工物進(jìn)行切削的切削刀 具；以及加工液供給構(gòu)件，該加工液供給構(gòu)件對(duì)切削刀具供給加工液，通過(guò)利用該加工液供 給構(gòu)件對(duì)旋轉(zhuǎn)的切削刀具供給切削液來(lái)對(duì)切削刀具進(jìn)行冷卻，并且，在對(duì)由切削刀具切削 的被加工物的切削部供給加工液的同時(shí)實(shí)施切削作業(yè)。在以上述方式在切削時(shí)被供給的加工液中混有通過(guò)切削硅或氮化鎵系化合物半 導(dǎo)體而產(chǎn)生的切屑。由于混有由該半導(dǎo)體原材料構(gòu)成的切屑的加工廢液會(huì)污染環(huán)境，因此 在采用加工廢液處理裝置除去了切屑之后進(jìn)行再利用或者廢棄(例如參照專(zhuān)利文獻(xiàn)1)。專(zhuān)利文獻(xiàn)1 日本特開(kāi)2004-230527號(hào)公報(bào)上述加工廢液處理裝置具備廢液收納箱，該廢液收納箱用于收納加工廢液，該加 工廢液由利用切削裝置進(jìn)行加工時(shí)所供給的加工液通過(guò)加工而生成；廢液輸送泵，該廢液 輸送泵用于輸送收納在該廢液收納箱內(nèi)的加工廢液；廢液過(guò)濾構(gòu)件，該廢液過(guò)濾構(gòu)件對(duì)利 用所述廢液輸送泵輸送來(lái)的加工廢液進(jìn)行過(guò)濾從而精制成清水；清水貯存箱，該清水貯存 箱用于貯存利用所述廢液過(guò)濾構(gòu)件精制成的清水；清水輸送泵，該清水輸送泵用于輸送貯 存于所述清水貯存箱的清水；以及純水生成構(gòu)件，該純水生成構(gòu)件包括用于將利用所述清 水輸送泵輸送來(lái)的清水精制成純水的離子交換器。在上述的加工廢液處理裝置的純水生成構(gòu)件中使用的離子交換器采用混合了陰 離子交換樹(shù)脂和陽(yáng)離子交換樹(shù)脂的混合樹(shù)脂，然而存在壽命短因而不經(jīng)濟(jì)的問(wèn)題。

發(fā)明內(nèi)容
本發(fā)明就是鑒于上述事實(shí)而完成的，本發(fā)明的主要的技術(shù)課題在于提供一種能夠 延長(zhǎng)在純水生成構(gòu)件中使用的離子交換器的壽命的加工廢液處理裝置。為了解決上述主要的技術(shù)課題，根據(jù)本發(fā)明，提供一種加工廢液處理裝置，所述加工廢液處理裝置具備廢液收納箱，該廢液收納箱用于收納加工廢液，該加工廢液是利用加 工裝置進(jìn)行加工時(shí)供給的加工液通過(guò)加工而生成的加工廢液；廢液輸送泵，該廢液輸送泵 用于對(duì)收納于所述廢液收納箱的加工廢液進(jìn)行輸送；廢液過(guò)濾構(gòu)件，該廢液過(guò)濾構(gòu)件對(duì)利 用所述廢液輸送泵輸送來(lái)的加工廢液進(jìn)行過(guò)濾以精制成清水；清水貯存箱，該清水貯存箱 用于貯存利用所述廢液過(guò)濾構(gòu)件精制而成的清水；清水輸送泵，該清水輸送泵用于對(duì)貯存 于所述清水貯存箱的清水進(jìn)行輸送；以及純水生成構(gòu)件，該純水生成構(gòu)件包括將利用所述 清水輸送泵輸送來(lái)的清水精制成純水的離子交換器，所述加工廢液處理裝置的特征在于， 所述離子交換器具備殼體以及收納在該殼體內(nèi)的陰離子交換樹(shù)脂層和混合樹(shù)脂層，所述陰 離子交換樹(shù)脂層僅由陰離子交換樹(shù)脂形成，所述混合樹(shù)脂層是將陰離子交換樹(shù)脂和陽(yáng)離子 交換樹(shù)脂混合而成，在所述殼體設(shè)有清水流入構(gòu)件和純水流出構(gòu)件，所述清水流入構(gòu)件使 清水流入所述陰離子交換樹(shù)脂層，所述純水流出構(gòu)件使純水從所述混合樹(shù)脂層側(cè)流出。優(yōu)選形成上述陰離子交換樹(shù)脂層的陰離子交換樹(shù)脂和形成上述混合樹(shù)脂層的混 合樹(shù)脂的重量比設(shè)定成3 2 4 1。此外，形成上述混合樹(shù)脂層的陰離子交換樹(shù)脂和陽(yáng) 離子交換樹(shù)脂的重量比設(shè)定成3 2。構(gòu)成本發(fā)明的加工廢液處理裝置的純水生成構(gòu)件的離子交換器由陰離子交換樹(shù) 脂層和混合樹(shù)脂層形成，該陰離子交換樹(shù)脂層僅由陰離子交換樹(shù)脂形成，該混合樹(shù)脂層中 混合有陰離子交換樹(shù)脂和陽(yáng)離子交換樹(shù)脂，并且，使清水從陰離子交換樹(shù)脂層側(cè)流入，使純 水從混合樹(shù)脂層側(cè)流出，因此能夠有效地將通過(guò)對(duì)半導(dǎo)體進(jìn)行切削或者磨削而生成的混有 較多陰離子的廢液轉(zhuǎn)換成純水，并且能夠延長(zhǎng)離子交換器的壽命。


圖1是表示根據(jù)本發(fā)明構(gòu)成的加工廢液處理裝置與作為加工裝置的切削裝置相 鄰地配設(shè)的狀態(tài)的立體圖。圖2是按照加工廢液的流動(dòng)表示根據(jù)本發(fā)明構(gòu)成的加工廢液處理裝置的結(jié)構(gòu)構(gòu) 件的說(shuō)明圖。圖3是透視構(gòu)成圖2所示的裝置殼體的各壁來(lái)示出在裝置殼體內(nèi)配置有加工廢液 處理裝置的結(jié)構(gòu)構(gòu)件的狀態(tài)的立體圖。圖4是表示構(gòu)成圖2所示的加工廢液處理裝置中的純水生成構(gòu)件的離子交換器的 第一實(shí)施方式的剖視圖。圖5是表示構(gòu)成圖2所示的加工廢液處理裝置中的純水生成構(gòu)件的離子交換器的 第二實(shí)施方式的剖視圖。圖6是表示利用基于本發(fā)明構(gòu)成的離子交換器和以往采用的離子交換器進(jìn)行處 理的處理時(shí)間與從離子交換器流出的水的電阻率值的測(cè)量結(jié)果的曲線(xiàn)圖。標(biāo)號(hào)說(shuō)明2 切削裝置；21 卡盤(pán)工作臺(tái)；22 主軸單元；221 主軸殼體；222 旋轉(zhuǎn)主軸； 223 切削刀具；225 加工液供給噴嘴；3 廢液箱；31 廢液輸送泵；4 廢液過(guò)濾構(gòu)件；41 清水接收盤(pán)；42a 第一過(guò)濾器；42b 第二過(guò)濾器；43a、43b 電磁開(kāi)閉閥；5 清水貯存箱； 50 清水輸送泵；6 純水生成構(gòu)件；61 支承座；62 紫外線(xiàn)照射構(gòu)件；63a 第一離子交換 器；63b 第二離子交換器；64 精密過(guò)濾器；66a、66b 電磁開(kāi)閉閥；7 純水溫度調(diào)整構(gòu)件；71 冷卻液槽；72 冷卻液輸送泵；73 冷卻器；74 熱交換器；8 控制構(gòu)件；9 操作盤(pán)；91 輸入構(gòu)件；92 顯示構(gòu)件；10 加工廢液處理裝置；100 裝置殼體。
具體實(shí)施例方式下面，參照附圖對(duì)根據(jù)本發(fā)明構(gòu)成的加工廢液處理裝置的優(yōu)選實(shí)施方式進(jìn)行詳細(xì) 說(shuō)明。圖1中示出了與作為加工裝置的切削裝置相鄰地配設(shè)的基于本發(fā)明的加工廢液 處理裝置的立體圖。作為加工裝置的切削裝置2具備大致長(zhǎng)方體狀的裝置殼體20。用于保持被加工物 的卡盤(pán)工作臺(tái)21以能夠沿著切削進(jìn)給方向即箭頭X所示的方向移動(dòng)的方式配設(shè)在該裝置 殼體20內(nèi)。卡盤(pán)工作臺(tái)21通過(guò)使未圖示的吸引構(gòu)件工作來(lái)將被加工物吸引保持在上表面 即保持面上。并且，卡盤(pán)工作臺(tái)21構(gòu)成為能夠通過(guò)未圖示的旋轉(zhuǎn)機(jī)構(gòu)而旋轉(zhuǎn)。另外，在卡 盤(pán)工作臺(tái)21配設(shè)有用于固定環(huán)狀框架的夾緊器211，該環(huán)狀框架經(jīng)由切割帶支承作為被加 工物的后述的晶片。這樣構(gòu)成的卡盤(pán)工作臺(tái)21通過(guò)未圖示的切削進(jìn)給構(gòu)件而在箭頭X所 示的切削進(jìn)給方向移動(dòng)。圖1所示的切削裝置2具備作為切削構(gòu)件的主軸單元22。主軸單元22通過(guò)未圖 示的分度進(jìn)給構(gòu)件而沿著圖1中箭頭Y所示的分度進(jìn)給方向移動(dòng)，并通過(guò)未圖示的切入進(jìn) 給構(gòu)件而沿著圖1中箭頭ζ所示的切入進(jìn)給方向移動(dòng)。該主軸單元22具備主軸殼體221， 該主軸殼體221裝配于未圖示的移動(dòng)基座，并在分度方向即箭頭Y所示的方向和切入方向 即箭頭Z所示的方向被移動(dòng)調(diào)整；旋轉(zhuǎn)主軸222，該旋轉(zhuǎn)主軸222能夠自由旋轉(zhuǎn)地支承于所 述主軸殼體221 ；以及切削刀具223，該切削刀具223裝配在所述旋轉(zhuǎn)主軸222的前端部。 在主軸殼體221的前端部安裝有覆蓋切削刀具223的上半部的刀具罩224，朝上述切削刀具 223噴射加工液的加工液供給噴嘴225配設(shè)于該刀具罩224。另外，加工液供給噴嘴225與 未圖示的加工液供給構(gòu)件連接。圖1所示的切削裝置2具備攝像構(gòu)件23，該攝像構(gòu)件23用于對(duì)被保持在上述卡盤(pán) 工作臺(tái)21上的被加工物的表面進(jìn)行攝像，以檢測(cè)應(yīng)當(dāng)利用上述切削刀具223進(jìn)行切削的區(qū) 域。該攝像構(gòu)件23由顯微鏡或CCD (Charge-coupled Device 電荷耦合元件)照相機(jī)等光 學(xué)構(gòu)件構(gòu)成。并且，在上述裝置殼體20中的盒載置區(qū)域24a配設(shè)有盒載置工作臺(tái)24，該盒 載置工作臺(tái)24載置用于收納被加工物的盒。該盒載置工作臺(tái)24構(gòu)成為能夠通過(guò)未圖示的 升降構(gòu)件在上下方向移動(dòng)。收納作為被加工物的半導(dǎo)體晶片W的盒25被載置在盒載置工 作臺(tái)24上。收納于盒25的半導(dǎo)體晶片W在表面形成有格子狀的間隔道，在由該格子狀的 間隔道劃分出的多個(gè)矩形區(qū)域中形成有IC、LSI等器件。這樣形成的半導(dǎo)體晶片W在其背 面粘貼于切割帶T的表面的狀態(tài)下被收納于盒25，其中所述切割帶T裝配于環(huán)狀的支承框 架F。并且，圖示的實(shí)施方式中的切削裝置2具備搬出搬入構(gòu)件27，該搬出搬入構(gòu)件27 將收納于載置在盒載置工作臺(tái)24上的盒25中的半導(dǎo)體晶片W(經(jīng)由切割帶T支承于環(huán)狀 框架F的狀態(tài))搬出至臨時(shí)放置工作臺(tái)26 ；第一搬送構(gòu)件28，該第一搬送構(gòu)件28將被搬出 至臨時(shí)放置工作臺(tái)26的半導(dǎo)體晶片W搬送到上述卡盤(pán)工作臺(tái)21上；清洗構(gòu)件29，該清洗 構(gòu)件29對(duì)在卡盤(pán)工作臺(tái)21上實(shí)施了切削加工后的半導(dǎo)體晶片W進(jìn)行清洗；以及第二搬送構(gòu)件290，該第二搬送構(gòu)件290將在卡盤(pán)工作臺(tái)21上實(shí)施了切削加工后的半導(dǎo)體晶片W朝 清洗構(gòu)件29搬送。圖1所示的切削裝置2以上述方式構(gòu)成，下面對(duì)其作用進(jìn)行簡(jiǎn)單說(shuō)明。通過(guò)未圖示的升降構(gòu)件使盒載置工作臺(tái)24上下移動(dòng)，由此，將收納于載置在盒載 置工作臺(tái)24上的盒25的預(yù)定位置的半導(dǎo)體晶片W(經(jīng)由切割帶T支承于環(huán)狀框架F的狀 態(tài))定位在搬出位置。接著，搬出構(gòu)件27進(jìn)行進(jìn)退動(dòng)作，從而將被定位在搬出位置的半導(dǎo) 體晶片W搬出到臨時(shí)放置工作臺(tái)26上。被搬出至臨時(shí)放置工作臺(tái)26的半導(dǎo)體晶片W通過(guò) 第一搬送構(gòu)件28的回轉(zhuǎn)動(dòng)作而被搬送至上述卡盤(pán)工作臺(tái)21上。當(dāng)半導(dǎo)體晶片W被載置在 卡盤(pán)工作臺(tái)21上后，未圖示的吸引構(gòu)件工作，從而將半導(dǎo)體晶片W吸引保持在卡盤(pán)工作臺(tái) 21上。并且，經(jīng)由切割帶T支承半導(dǎo)體晶片W的環(huán)狀框架F通過(guò)上述夾緊器211被固定。 使這樣保持有半導(dǎo)體晶片W的卡盤(pán)工作臺(tái)21移動(dòng)至攝像構(gòu)件23的正下方。當(dāng)卡盤(pán)工作臺(tái) 21被定位在攝像構(gòu)件23的正下方時(shí)，利用攝像構(gòu)件23檢測(cè)形成于半導(dǎo)體晶片W的間隔道， 在分度方向即箭頭Y方向?qū)χ鬏S單元22進(jìn)行移動(dòng)調(diào)節(jié)，從而進(jìn)行間隔道與切削刀具223之 間的精密位置對(duì)準(zhǔn)作業(yè)。然后，使切削刀具223在箭頭Z所示的方向進(jìn)行預(yù)定量的切入進(jìn)給并向預(yù)定的方 向旋轉(zhuǎn)，同時(shí)使吸引保持有半導(dǎo)體晶片W的卡盤(pán)工作臺(tái)21沿切削進(jìn)給方向即箭頭X所示的 方向(與切削刀具223的旋轉(zhuǎn)軸正交的方向)以預(yù)定的切削進(jìn)給速度移動(dòng)，由此，保持在卡 盤(pán)工作臺(tái)21上的半導(dǎo)體晶片W被切削刀具223沿著預(yù)定的間隔道切斷(切削工序)。在 該切削工序中，使未圖示的加工液供給構(gòu)件工作，從而從加工液供給噴嘴225朝利用切削 刀具223進(jìn)行加工的加工部噴射加工液。這樣，當(dāng)沿著預(yù)定的間隔道將半導(dǎo)體晶片W切斷 后，使卡盤(pán)工作臺(tái)21沿箭頭Y所示的方向以間隔道的間隔量進(jìn)行分度進(jìn)給，并實(shí)施上述切 削工序。然后，當(dāng)沿著在半導(dǎo)體晶片W的預(yù)定方向延伸的所有間隔道實(shí)施了切削工序后，使 卡盤(pán)工作臺(tái)21旋轉(zhuǎn)90度，并沿著在與半導(dǎo)體晶片W的預(yù)定方向正交的方向延伸的間隔道 執(zhí)行切削工序，由此，呈格子狀地形成于半導(dǎo)體晶片W的所有的間隔道都被切削，半導(dǎo)體晶 片W被分割成一個(gè)個(gè)芯片。另外，分割出的芯片通過(guò)切割帶T的作用而不會(huì)散亂，并且由環(huán) 狀框架F支承而維持晶片的狀態(tài)。在如上所述地沿著半導(dǎo)體晶片W的間隔道結(jié)束切削工序后，保持有半導(dǎo)體晶片W 的卡盤(pán)工作臺(tái)21返回最初吸引保持半導(dǎo)體晶片W的位置。然后，解除半導(dǎo)體晶片W的吸引 保持。接著，利用第二搬送構(gòu)件290將半導(dǎo)體晶片W搬送至清洗構(gòu)件29。被搬送至清洗構(gòu) 件29的半導(dǎo)體晶片W在該處被清洗并干燥。利用第一搬送構(gòu)件28將這樣被清洗并干燥后 的半導(dǎo)體晶片W搬送至臨時(shí)放置工作臺(tái)26。然后，利用搬出搬入構(gòu)件27將半導(dǎo)體晶片W收 納于盒25的預(yù)定位置。在上述的切削工序中，利用未圖示的加工液供給構(gòu)件從加工液供給噴嘴225噴射 至利用切削刀具223進(jìn)行加工的加工部的加工液在對(duì)切削刀具223和加工部進(jìn)行冷卻之后 作為廢液被回收，并由與切削裝置2相鄰地配設(shè)的廢液處理裝置10精制成純水進(jìn)行再利 用。參照?qǐng)D1至圖5對(duì)該廢液處理裝置10進(jìn)行說(shuō)明。圖示的實(shí)施方式中的廢液處理裝置10具備裝置殼體100，廢液處理裝置的結(jié)構(gòu)構(gòu) 件配設(shè)在該裝置殼體100內(nèi)。參照?qǐng)D2對(duì)配設(shè)在裝置殼體100內(nèi)的廢液處理裝置的結(jié)構(gòu)構(gòu) 件的一個(gè)實(shí)施方式進(jìn)行說(shuō)明。
在圖2中按照廢液的流動(dòng)示出了根據(jù)本發(fā)明構(gòu)成的廢液處理裝置的結(jié)構(gòu)構(gòu)件。圖 示的實(shí)施方式中的廢液處理裝置10具備廢液箱3，該廢液箱3用于收納由加工液通過(guò)加 工而生成的廢液，所述加工液在進(jìn)行上述切削裝置2中的加工時(shí)從加工液供給噴嘴225被 供給至利用切削刀具223進(jìn)行加工的加工部；以及廢液輸送泵30，該廢液輸送泵30對(duì)收納 于該廢液箱3的廢液進(jìn)行輸送。廢液箱3通過(guò)導(dǎo)管31與裝備于上述切削裝置2的廢液輸 出構(gòu)件連接。因此，從裝備于切削裝置2的廢液輸出構(gòu)件輸出的廢液經(jīng)由導(dǎo)管31被導(dǎo)入至 廢液箱3。輸送廢液的廢液輸送泵30配設(shè)在該廢液箱3的頂壁。由上述廢液輸送泵30輸送的加工廢液經(jīng)過(guò)由柔性軟管構(gòu)成的導(dǎo)管32被送至廢液 過(guò)濾構(gòu)件4。廢液過(guò)濾構(gòu)件4具備清水接收盤(pán)41 ；以及配置在該清水接收盤(pán)41上的第一過(guò) 濾器42a和第二過(guò)濾器42b。該第一過(guò)濾器42a和第二過(guò)濾器42b以能夠裝卸的方式配置 在清水接收盤(pán)41上。另外，在連接上述廢液輸送泵3與第一過(guò)濾器42a及第二過(guò)濾器42b 的導(dǎo)管32配設(shè)有電磁開(kāi)閉閥43a和電磁開(kāi)閉閥43b。當(dāng)電磁開(kāi)閉閥43a被賦能(ON)而打 開(kāi)時(shí)，由廢液輸送泵30輸送的加工廢液被導(dǎo)入至第一過(guò)濾器42a，當(dāng)電磁開(kāi)閉閥43b被賦能 (ON)而打開(kāi)時(shí)，由廢液輸送泵30輸送的加工廢液被導(dǎo)入至第二過(guò)濾器42b。被導(dǎo)入至第一 過(guò)濾器42a和第二過(guò)濾器42b的加工廢液由第一過(guò)濾器42a和第二過(guò)濾器42b過(guò)濾，混入 在加工廢液中的切屑被捕捉，從而被精制成清水并流出至清水接收盤(pán)41。該清水接收盤(pán)41 通過(guò)由柔性軟管構(gòu)成的導(dǎo)管44與清水貯存箱5連接，因此流出至清水接收盤(pán)41的清水經(jīng) 過(guò)由柔性軟管構(gòu)成的導(dǎo)管44被送至清水貯存箱5并被貯存。在上述導(dǎo)管32配設(shè)有用于檢測(cè)向廢液過(guò)濾構(gòu)件4的第一過(guò)濾器42a和第二過(guò)濾 器42b輸送的加工廢液的壓力的壓力檢測(cè)構(gòu)件33，該壓力檢測(cè)構(gòu)件33將檢測(cè)信號(hào)發(fā)送給后 述的控制構(gòu)件。例如，在對(duì)上述電磁開(kāi)閉閥43a賦能(ON)從而利用第一過(guò)濾器42a過(guò)濾加 工廢液的狀態(tài)下，如果來(lái)自壓力檢測(cè)構(gòu)件33的檢測(cè)信號(hào)達(dá)到預(yù)定壓力值以上，則后述的控 制構(gòu)件判斷為加工屑堆積于第一過(guò)濾器42a而使得第一過(guò)濾器42a喪失了作為過(guò)濾器的功 能，并且使電磁開(kāi)閉閥43a失能(OFF)，并對(duì)電磁開(kāi)閉閥43b賦能(ON)。然后，后述的控制 構(gòu)件將從第一過(guò)濾器42a切換成了第二過(guò)濾器42b的情況顯示于設(shè)于后述操作盤(pán)的顯示構(gòu) 件。操作者基于這樣顯示于顯示構(gòu)件的消息(message)，能夠感知到第一過(guò)濾器42a已到壽 命，從而更換過(guò)濾器。此外，在對(duì)上述電磁開(kāi)閉閥43b賦能(ON)而利用第二過(guò)濾器42b對(duì) 加工廢液進(jìn)行過(guò)濾的狀態(tài)下，如果來(lái)自壓力檢測(cè)構(gòu)件33的檢測(cè)信號(hào)達(dá)到預(yù)定壓力值以上， 則后述的控制構(gòu)件判斷為加工屑堆積于第二過(guò)濾器42b而使得第二過(guò)濾器42b喪失了作為 過(guò)濾器的功能，從而使電磁開(kāi)閉閥43b失能(0FF)，對(duì)電磁開(kāi)閉閥43a賦能(0N)。然后，后 述的控制構(gòu)件將從第二過(guò)濾器42b切換成了第一過(guò)濾器42a的情況顯示于設(shè)于后述操作盤(pán) 的顯示構(gòu)件。關(guān)于從上述廢液過(guò)濾構(gòu)件4經(jīng)過(guò)由柔性軟管構(gòu)成的導(dǎo)管44輸送、并貯存于清水貯 存箱5中的清水，由清水輸送泵50輸送并經(jīng)過(guò)由柔性軟管構(gòu)成的導(dǎo)管51被輸送至純水生 成構(gòu)件6。圖示的實(shí)施方式中的純水生成構(gòu)件6具備支承座61 ；分隔板611，該分隔板611 豎立設(shè)置于該支承座61 ；紫外線(xiàn)照射構(gòu)件62，該紫外線(xiàn)照射構(gòu)件62在支承座61上配置于 分隔板611的后側(cè)；第一離子交換器63a和第二離子交換器63b，該第一離子交換器63a和 第二離子交換器63b在支承座61上配置于分隔板611的前側(cè)；以及精密過(guò)濾器64，該精密 過(guò)濾器64在支承座61上配置在分隔板611的后側(cè)。該第一離子交換器63a、第二離子交換器63b以及精密過(guò)濾器64以能夠裝卸的方式配置在支承座61上。由上述清水輸送泵50 輸送并經(jīng)過(guò)由柔性軟管構(gòu)成的導(dǎo)管51輸送來(lái)的清水被導(dǎo)入至紫外線(xiàn)照射構(gòu)件62，并通過(guò) 在此處照射紫外線(xiàn)(UV)而被殺菌。在紫外線(xiàn)照射構(gòu)件62中進(jìn)行了殺菌處理后的清水經(jīng)由 導(dǎo)管65被導(dǎo)入至第一離子交換器63a或者第二離子交換器63b。另外，在導(dǎo)管65配設(shè)有 電磁開(kāi)閉閥66a和電磁開(kāi)閉閥66b。當(dāng)電磁開(kāi)閉閥66a被賦能(ON)而打開(kāi)時(shí)，殺菌處理后 的清水被導(dǎo)入至第一離子交換器63a，當(dāng)電磁開(kāi)閉閥66b被賦能(ON)而打開(kāi)時(shí)，殺菌處理 后的清水被導(dǎo)入至第二離子交換器63b。被導(dǎo)入至第一離子交換器63a或者第二離子交換 器63b的清水進(jìn)行離子交換而被精制成純水。這樣，在由清水進(jìn)行離子交換而精制成的純 水中，存在混有構(gòu)成第一離子交換器63a和第二離子交換器63b的離子交換樹(shù)脂的樹(shù)脂屑 等微細(xì)的物質(zhì)的情況。因此，在圖示的實(shí)施方式中，將如上所述地利用第一離子交換器63a 和第二離子交換器63b對(duì)清水進(jìn)行離子交換而精制成的純水經(jīng)由導(dǎo)管67導(dǎo)入至精密過(guò)濾 器64，利用該精密過(guò)濾器64捕捉混入純水中的離子交換樹(shù)脂的樹(shù)脂屑等微細(xì)的物質(zhì)。另外，在上述導(dǎo)管67配設(shè)有用于檢測(cè)從第一離子交換器63a和第二離子交換器 63b朝精密過(guò)濾器64輸送的純水的壓力的壓力檢測(cè)構(gòu)件68，該壓力檢測(cè)構(gòu)件68將檢測(cè)信 號(hào)發(fā)送給后述的控制構(gòu)件。例如，如果來(lái)自壓力檢測(cè)構(gòu)件68的檢測(cè)信號(hào)達(dá)到預(yù)定壓力值以 上，則后述的控制構(gòu)件判斷為樹(shù)脂屑等微細(xì)的物質(zhì)堆積于精密過(guò)濾器64而使得精密過(guò)濾 器64喪失了作為過(guò)濾器的功能，并顯示于設(shè)于后述的操作盤(pán)的顯示構(gòu)件。操作者基于這樣 顯示于顯示構(gòu)件的消息，能夠感知到精密過(guò)濾器64已到壽命，從而更換過(guò)濾器。并且，在上述導(dǎo)管67配設(shè)有用于檢測(cè)從第一離子交換器63a或者第二離子交換 器63b朝精密過(guò)濾器64輸送的純水的電阻率的電阻率計(jì)69，該電阻率計(jì)69將檢測(cè)信號(hào)發(fā) 送至后述的控制構(gòu)件。在后述的控制構(gòu)件對(duì)上述電磁開(kāi)閉閥66a賦能(ON)從而利用第一 離子交換器63a將清水精制成純水的狀態(tài)下，如果來(lái)自電阻率計(jì)69的檢測(cè)信號(hào)達(dá)到預(yù)定值 (例如14ΜΩ - cm)以下，則后述的控制構(gòu)件判斷為第一離子交換器63a的純水精制能力降 低，從而使電磁開(kāi)閉閥66a失能(OFF)，并對(duì)電磁開(kāi)閉閥66b賦能(ON)。然后，后述的控制構(gòu) 件將從第一離子交換器63a切換成了第二離子交換器63b的情況顯示于設(shè)于后述操作盤(pán)的 顯示構(gòu)件。操作者基于這樣顯示于顯示構(gòu)件的消息，能夠感知到第一離子交換器63a已到 壽命，從而更換第一離子交換器63a的離子交換樹(shù)脂。此外，在對(duì)上述電磁開(kāi)閉閥66b賦能 (ON)從而利用第二離子交換器63b將清水精制成純水的狀態(tài)下，如果來(lái)自電阻率計(jì)69的檢 測(cè)信號(hào)達(dá)到預(yù)定值(例如14ΜΩ - cm)以下，則后述的控制構(gòu)件判斷為第二離子交換器63b 的純水精制能力降低，從而使電磁開(kāi)閉閥66b失能(0FF)，并對(duì)電磁開(kāi)閉閥66a賦能(0N)。 然后，后述的控制構(gòu)件將從第二離子交換器63b切換成了第一離子交換器63a的情況顯示 于設(shè)于后述操作盤(pán)的顯示構(gòu)件。利用上述純水生成構(gòu)件6精制而成的純水經(jīng)過(guò)由柔性軟管構(gòu)成的導(dǎo)管60被輸送 至純水溫度調(diào)整構(gòu)件7。被輸送至純水溫度調(diào)整構(gòu)件7的純水在此處被調(diào)整至預(yù)定溫度(例 如23°C )并經(jīng)由導(dǎo)管70循環(huán)至裝備于上述切削裝置2的加工液供給構(gòu)件。上述的廢液箱3、廢液過(guò)濾構(gòu)件4、純水生成構(gòu)件6、純水溫度調(diào)整構(gòu)件7以及各導(dǎo) 管等配置在圖1和圖3所示的裝置殼體100內(nèi)。另外，在圖3中透視構(gòu)成裝置殼體100的 后述各壁地示出在裝置殼體100內(nèi)配置有上述廢液箱3、廢液過(guò)濾構(gòu)件4、純水生成構(gòu)件6、 純水溫度調(diào)整構(gòu)件7以及各導(dǎo)管等的狀態(tài)。圖示的實(shí)施方式中的加工廢液處理裝置10的裝置殼體100由以下部分構(gòu)成框體110，該框體110形成長(zhǎng)方體狀的收納室；底壁121、頂 壁122、左側(cè)壁123、右側(cè)壁124、后壁125，該底壁121、頂壁122、左側(cè)壁123、右側(cè)壁124、后 壁125裝配于該框體110 ；和開(kāi)閉門(mén)126，該開(kāi)閉門(mén)126裝配于框體110的前側(cè)，用于對(duì)形成 于框體110的前側(cè)的前側(cè)開(kāi)口 101進(jìn)行開(kāi)閉。在以這種方式構(gòu)成的裝置殼體100的底壁121上配置有上述廢液箱3、清水貯存箱 5以及純水生成構(gòu)件6。廢液箱3配置在裝置殼體100的底壁121的靠后壁125 —側(cè)，清水 貯存箱5與廢液箱3相鄰地配置在底壁121的中央部，純水生成構(gòu)件6與清水貯存箱5相 鄰地配置在底壁121的靠前側(cè)開(kāi)口 101—側(cè)(靠開(kāi)閉門(mén)126—側(cè))。上述純水生成構(gòu)件6在圖示的實(shí)施方式中配置成能夠通過(guò)裝置殼體100的前側(cè)開(kāi) 口 101拉出。即，在構(gòu)成裝置殼體100的左側(cè)壁123和右側(cè)壁124的內(nèi)表面下端部配設(shè)有 一對(duì)導(dǎo)軌130、130，這一對(duì)導(dǎo)軌130、130相互對(duì)置地配設(shè)且與底壁121的上表面平行地沿著 前后方向延伸。通過(guò)將純水生成構(gòu)件6的支承座61載置在這一對(duì)導(dǎo)軌130、130上，純水生 成構(gòu)件6被支承成能夠沿著一對(duì)導(dǎo)軌130、130通過(guò)裝置殼體100的前側(cè)開(kāi)口 101拉出。因 此，通過(guò)將純水生成構(gòu)件6沿著一對(duì)導(dǎo)軌130、130通過(guò)裝置殼體100的前側(cè)開(kāi)口 101拉出， 能夠容易地實(shí)施配置于構(gòu)成純水生成構(gòu)件6的支承座61上的第一離子交換器63a、第二離 子交換器63b以及精密過(guò)濾器64的更換。在圖示的實(shí)施方式的加工廢液處理裝置10中，上述廢液過(guò)濾構(gòu)件4以能夠通過(guò)裝 置殼體100的前側(cè)開(kāi)口 101拉出的方式配置在裝置殼體100內(nèi)的上述純水生成構(gòu)件6和清 水貯存箱5的上側(cè)。即，在構(gòu)成裝置殼體100的左側(cè)壁123和右側(cè)壁124的內(nèi)表面中間部 配設(shè)有一對(duì)導(dǎo)軌140、140，這一對(duì)導(dǎo)軌140、140相互對(duì)置地配設(shè)并與上述底壁121的上表面 平行(與一對(duì)導(dǎo)軌130、130平行)地沿前后方向延伸。通過(guò)將廢液過(guò)濾構(gòu)件4的清水接收 盤(pán)41載置在這一對(duì)導(dǎo)軌140、140上，廢液過(guò)濾構(gòu)件4被支承成能夠沿著一對(duì)導(dǎo)軌140、140 通過(guò)裝置殼體100的前側(cè)開(kāi)口 101拉出。另外，為了使廢液過(guò)濾構(gòu)件4的拉出操作容易，在 構(gòu)成廢液過(guò)濾構(gòu)件4的清水接收盤(pán)41的前端設(shè)有朝下方凸出的把手411。因此，通過(guò)沿著 一對(duì)導(dǎo)軌140、140經(jīng)由裝置殼體100的前側(cè)開(kāi)口 101將廢液過(guò)濾構(gòu)件4拉出，能夠容易地 實(shí)施第一過(guò)濾器42a和第二過(guò)濾器42b的更換，該第一過(guò)濾器42a和第二過(guò)濾器42b以能 夠裝卸的方式配置于構(gòu)成廢液過(guò)濾構(gòu)件4的清水接收盤(pán)41。這樣，由于廢液過(guò)濾構(gòu)件4以 能夠拉出的方式配置，因此對(duì)廢液過(guò)濾構(gòu)件4的清水接收盤(pán)41和上述清水貯存箱5進(jìn)行連 接的導(dǎo)管利用由柔性軟管構(gòu)成的導(dǎo)管44連接。如上所述，利用由柔性軟管構(gòu)成的導(dǎo)管44連接廢液過(guò)濾構(gòu)件4的清水接收盤(pán)41 和上述清水貯存箱5，與此相關(guān)聯(lián)，在裝置殼體100中的廢液過(guò)濾構(gòu)件4的靠后壁125 —側(cè) 配設(shè)有用于支承由柔性軟管構(gòu)成的導(dǎo)管44的軟管支承板150。該軟管支承板150構(gòu)成為這 樣的形狀以隨著朝向后壁125側(cè)而變高的方式傾斜、并且以隨著朝向右側(cè)壁124側(cè)而變高 的方式傾斜，從而防止了由柔性軟管構(gòu)成的導(dǎo)管44由于自重而朝下方彎曲，并使由柔性軟 管構(gòu)成的導(dǎo)管44維持清水接收盤(pán)41側(cè)始終定位在高位置的狀態(tài)。因此，流出至清水接收 盤(pán)41的清水在自重的作用下通過(guò)由柔性軟管構(gòu)成的導(dǎo)管44流入清水貯存箱5。在圖示的實(shí)施方式的加工廢液處理裝置10中，上述純水溫度調(diào)整構(gòu)件7配置在裝 置殼體100內(nèi)的上述軟管支承板150的上側(cè)。即，純水溫度調(diào)整構(gòu)件7載置在未圖示的支 承部件上，并通過(guò)適當(dāng)?shù)墓潭?gòu)件而被固定，其中所述未圖示的支承部件裝配于構(gòu)成裝置殼體100的左側(cè)壁123和右側(cè)壁124。圖示的實(shí)施方式中的加工廢液處理裝置10具備對(duì)上述各個(gè)結(jié)構(gòu)構(gòu)件的工作進(jìn)行 控制的控制構(gòu)件8和向該控制構(gòu)件8輸入廢液處理開(kāi)始信息等處理信息的操作盤(pán)9。該控 制構(gòu)件8和操作盤(pán)9在圖示的實(shí)施方式中構(gòu)成為一體。這樣構(gòu)成的控制構(gòu)件8和操作盤(pán)9 配置在裝置殼體100中的廢液過(guò)濾構(gòu)件4的上側(cè)。S卩，控制構(gòu)件8和操作盤(pán)9載置在裝配 于構(gòu)成裝置殼體100的左側(cè)壁123和右側(cè)壁124的未圖示的支承部件上，并通過(guò)適當(dāng)?shù)墓?定構(gòu)件而被固定。此時(shí)，操作盤(pán)9被定位在裝置殼體100的前側(cè)(配置于開(kāi)閉門(mén)126側(cè)的 一側(cè))。另外，在操作盤(pán)9配設(shè)有用于輸入處理信息等的輸入構(gòu)件91和顯示基于控制構(gòu)件 8的處理信息的顯示構(gòu)件92等。此處，參照?qǐng)D4和圖5對(duì)上述第一離子交換器63a和第二離子交換器63b進(jìn)行說(shuō) 明。另外，第一離子交換器63a和第二離子交換器63b是相同的結(jié)構(gòu)，因此在圖4和圖5中 作為離子交換器63進(jìn)行說(shuō)明。圖4所示的實(shí)施方式中的離子交換器63具備殼體631 ；僅由陰離子交換樹(shù)脂構(gòu) 成的陰離子交換樹(shù)脂層632、以及混合了陰離子交換樹(shù)脂和陽(yáng)離子交換樹(shù)脂的混合樹(shù)脂層 633，該陰離子交換樹(shù)脂層632和混合樹(shù)脂層633收納在該殼體631內(nèi)。在圖4所示的實(shí)施 方式中，陰離子交換樹(shù)脂層632形成在下層，在該陰離子交換樹(shù)脂層632的上側(cè)層疊形成有 混合樹(shù)脂層633。并且，在殼體631，設(shè)有使清水從陰離子交換樹(shù)脂層632側(cè)流入的清水流 入構(gòu)件634，并且設(shè)有使純水從混合樹(shù)脂層633側(cè)流出的純水流出構(gòu)件635。清水流入構(gòu)件 634由貫通殼體631的頂壁地配設(shè)的清水流入管634a構(gòu)成，該清水流入構(gòu)件634的下端在 陰離子交換樹(shù)脂層632的下部開(kāi)口，且該清水流入構(gòu)件634的上端與導(dǎo)管65連接。此外， 純水流出構(gòu)件635由純水流出口 635b構(gòu)成，該純水流出口 635b朝向形成于殼體631的上 部的純水取出室635a開(kāi)口，該純水流出口 635b與導(dǎo)管67連接。接下來(lái)，對(duì)圖5所示的實(shí)施方式中的離子交換器63進(jìn)行說(shuō)明。圖5所示的實(shí)施方式中的離子交換器63也與圖4所示的離子交換器63同樣地具 備殼體631 ；僅由陰離子交換樹(shù)脂構(gòu)成的陰離子交換樹(shù)脂層632、以及混合了陰離子交換 樹(shù)脂和陽(yáng)離子交換樹(shù)脂的混合樹(shù)脂層633，該陰離子交換樹(shù)脂層632和混合樹(shù)脂層633收納 在該殼體631內(nèi)。在圖5所示的實(shí)施方式中，混合樹(shù)脂層633形成在下層，陰離子交換樹(shù)脂 層632層疊形成在該混合樹(shù)脂層633上側(cè)。并且，在殼體631，設(shè)有使清水從陰離子交換樹(shù) 脂層632側(cè)流入的清水流入構(gòu)件634，并且設(shè)有使純水從混合樹(shù)脂層633側(cè)流出的純水流 出構(gòu)件635。清水流入構(gòu)件634由清水流入口 634c構(gòu)成，清水流入口 634c朝向形成于殼 體631的上部的清水流入室634b開(kāi)口，該清水流入口 634c與導(dǎo)管65連接。此外，純水流 出構(gòu)件635由沿著殼體631的側(cè)壁配設(shè)的純水流出管635c構(gòu)成，該純水流出構(gòu)件635的下 端在混合樹(shù)脂層633的下部開(kāi)口，該純水流出構(gòu)件635的上端與導(dǎo)管67連接。上述圖4和圖5所示的離子交換器63由陰離子交換樹(shù)脂層632和混合樹(shù)脂層633 構(gòu)成，陰離子交換樹(shù)脂層632僅由陰離子交換樹(shù)脂構(gòu)成，混合樹(shù)脂層633中混合了陰離子 交換樹(shù)脂和陽(yáng)離子交換樹(shù)脂，并且，清水從陰離子交換樹(shù)脂層632側(cè)流入，并從混合樹(shù)脂層 633側(cè)流出純水，因此，能夠有效地將通過(guò)切削或者磨削半導(dǎo)體而生成的混有較多陰離子的 廢液轉(zhuǎn)換成純水，并且能夠延長(zhǎng)離子交換器63的壽命。本發(fā)明的發(fā)明人等制作了陰離子交換樹(shù)脂和陽(yáng)離子交換樹(shù)脂的重量比為3 2的混合樹(shù)脂，并制作了改變由該混合樹(shù)脂形成的混合樹(shù)脂層和僅由陰離子交換樹(shù)脂形成的陰 離子交換樹(shù)脂層的重量比而得到的下述4種離子交換器。No. 1 混合樹(shù)脂層的重量為350g、陰離子交換樹(shù)脂層的重量為0g(形成陰離子交 換樹(shù)脂層的陰離子交換樹(shù)脂與形成混合樹(shù)脂層的混合樹(shù)脂的重量比為0 100)No. 2 混合樹(shù)脂層的重量為210g、陰離子交換樹(shù)脂層的重量為140g(形成陰離子 交換樹(shù)脂層的陰離子交換樹(shù)脂與形成混合樹(shù)脂層的混合樹(shù)脂的重量比為2 3)No. 3 混合樹(shù)脂層的重量為140g、陰離子交換樹(shù)脂層的重量為210g(形成陰離子 交換樹(shù)脂層的陰離子交換樹(shù)脂與形成混合樹(shù)脂層的混合樹(shù)脂的重量比為3 2)No. 4 混合樹(shù)脂層的重量為70g、陰離子交換樹(shù)脂層的重量為280g(形成陰離子交 換樹(shù)脂層的陰離子交換樹(shù)脂與形成混合樹(shù)脂層的混合樹(shù)脂的重量比為4 1)使切削加工排水以1分鐘1升的比率分別流入上述4種離子交換器，并測(cè)量從該 離子交換器流出的水的電阻率值，圖6中示出其測(cè)量結(jié)果。在圖6中，橫軸表示利用離子交 換器處理切削加工排水的處理時(shí)間(分鐘)，縱軸表示從離子交換器流出的水的電阻率值 (ΜΩ ·_)。另外，如果從離子交換器流出的水的電阻率值在14ΜΩ · cm以上，則能夠作為 純水進(jìn)行再利用。根據(jù)圖6所示的實(shí)驗(yàn)結(jié)果，若利用No. 1的離子交換器、即僅由陰離子交換樹(shù)脂與 陽(yáng)離子交換樹(shù)脂的重量比為3 2的混合樹(shù)脂層構(gòu)成的以往使用的離子交換器，進(jìn)行6000 分鐘左右的處理，則處理后的水的電阻率值在14ΜΩ · cm以下。No. 2的離子交換器處理大 約9000分鐘后的水的電阻率值維持14ΜΩ -cm,No. 3的離子交換器處理大約11000分鐘后 的水的電阻率值維持14ΜΩ · cm, No. 4的離子交換器處理大約12000分鐘后的水的電阻率 值維持14ΜΩ -Cm0這樣，使離子交換器具有僅由陰離子交換樹(shù)脂形成的陰離子交換樹(shù)脂層 以及混合了陰離子交換樹(shù)脂和陽(yáng)離子交換樹(shù)脂的混合樹(shù)脂層，并且，使清水從陰離子交換 樹(shù)脂層側(cè)流入，使純水從混合樹(shù)脂層側(cè)流出，由此，與僅利用混合樹(shù)脂層的以往使用的離子 交換器相比，壽命延長(zhǎng)50%以上。特別地，通過(guò)將形成陰離子交換樹(shù)脂層的陰離子交換樹(shù)脂 與形成混合樹(shù)脂層的混合樹(shù)脂的重量比設(shè)定成3 2 4 1，能夠得到壽命為僅由混合樹(shù) 脂層構(gòu)成的以往使用的離子交換器的大約2倍的離子交換器。以上，示出了將根據(jù)本發(fā)明構(gòu)成的加工廢液處理裝置應(yīng)用于沿著間隔道切削半導(dǎo) 體晶片的切削裝置的例子，但是，基于本發(fā)明的加工廢液處理裝置即便應(yīng)用于對(duì)半導(dǎo)體晶 片的背面進(jìn)行磨削從而使半導(dǎo)體晶片形成為預(yù)定的厚度的磨削裝置等其他的加工裝置，也 能夠得到同樣的作用效果。
權(quán)利要求
1.一種加工廢液處理裝置，所述加工廢液處理裝置具備廢液收納箱，該廢液收納箱 用于收納加工廢液，該加工廢液是利用加工裝置進(jìn)行加工時(shí)供給的加工液通過(guò)加工而生成 的加工廢液；廢液輸送泵，該廢液輸送泵用于對(duì)收納于所述廢液收納箱的加工廢液進(jìn)行輸 送；廢液過(guò)濾構(gòu)件，該廢液過(guò)濾構(gòu)件對(duì)利用所述廢液輸送泵輸送來(lái)的加工廢液進(jìn)行過(guò)濾以 精制成清水；清水貯存箱，該清水貯存箱用于貯存利用所述廢液過(guò)濾構(gòu)件精制而成的清水； 清水輸送泵，該清水輸送泵用于對(duì)貯存于所述清水貯存箱的清水進(jìn)行輸送；以及純水生成 構(gòu)件，該純水生成構(gòu)件包括將利用所述清水輸送泵輸送來(lái)的清水精制成純水的離子交換 器，所述加工廢液處理裝置的特征在于，所述離子交換器具備殼體以及收納在該殼體內(nèi)的陰離子交換樹(shù)脂層和混合樹(shù)脂層，所 述陰離子交換樹(shù)脂層僅由陰離子交換樹(shù)脂形成，所述混合樹(shù)脂層中混合有陰離子交換樹(shù)脂 和陽(yáng)離子交換樹(shù)脂，在所述殼體設(shè)有清水流入構(gòu)件和純水流出構(gòu)件，所述清水流入構(gòu)件使 清水流入所述陰離子交換樹(shù)脂層，所述純水流出構(gòu)件使純水從所述混合樹(shù)脂層側(cè)流出。
2.根據(jù)權(quán)利要求1所述的加工廢液處理裝置，其中，形成所述陰離子交換樹(shù)脂層的陰離子交換樹(shù)脂和形成所述混合樹(shù)脂層的混合樹(shù)脂的 重量比設(shè)定成3 2 4 1。
3.根據(jù)權(quán)利要求2所述的加工廢液處理裝置，其中，形成所述混合樹(shù)脂層的陰離子交換樹(shù)脂和陽(yáng)離子交換樹(shù)脂的重量比設(shè)定成3 2。
全文摘要
本發(fā)明提供加工廢液處理裝置，其能延長(zhǎng)純水生成構(gòu)件中使用的離子交換器的壽命的，并具備收納加工廢液的廢液收納箱；輸送收納于廢液收納箱的加工廢液的廢液輸送泵；對(duì)由廢液輸送泵輸送來(lái)的加工廢液進(jìn)行過(guò)濾以精制成清水的廢液過(guò)濾構(gòu)件；貯存由廢液過(guò)濾構(gòu)件精制成的清水的清水貯存箱；輸送貯存于清水貯存箱的清水的清水輸送泵；和包括將由清水輸送泵輸送來(lái)的清水精制成純水的離子交換器的純水生成構(gòu)件，其中，離子交換器具備殼體以及收納在殼體內(nèi)的僅由陰離子交換樹(shù)脂形成的陰離子交換樹(shù)脂層和混合有陰離子交換樹(shù)脂和陽(yáng)離子交換樹(shù)脂的混合樹(shù)脂層，在殼體設(shè)有使清水流入陰離子交換樹(shù)脂層的清水流入構(gòu)件和使純水從混合樹(shù)脂層側(cè)流出的純水流出構(gòu)件。
文檔編號(hào)C02F1/42GK101993134SQ20101025099
公開(kāi)日2011年3月30日 申請(qǐng)日期2010年8月10日 優(yōu)先權(quán)日2009年8月19日
發(fā)明者吉田干, 風(fēng)呂中武 申請(qǐng)人:株式會(huì)社迪思科