專利名稱：廢液回收裝置及廢液回收方法
技術(shù)領(lǐng)域：
本發(fā)明涉及電路板制作技術(shù)領(lǐng)域，特別涉及一種制作過程中生成廢液的回收裝置及廢液回收方法。
背景技術(shù)：
濕制程(Wet Process)作為制作電路板過程中的制作工序，是將處理液，如各種化學(xué)藥液或水噴灑于電路基板表面，以實現(xiàn)鍍通孔、鍍銅、蝕刻、顯影、剝膜、鍍有機保護(hù)膜、表面改性或清洗等工藝流程。文獻(xiàn)K. W. Lee， A. Viehbeck， Wet Process SurfaceModification of Dielectric Polymers, IBM J. Research & Development, 1994， 38(4)介紹一種通過濕制程對電路板中的絕緣層與膠粘層進(jìn)行表面改性方法，以提高電路板中絕緣層與金屬層間的結(jié)合力。
通常，濕制程中使用大量的化學(xué)藥液與電路基板表面進(jìn)行反應(yīng)，以完成電路板的制作。該大量化學(xué)藥液經(jīng)反應(yīng)后會產(chǎn)生大量的廢液，需要進(jìn)行處理，以降低對環(huán)境的污染及原料的浪費。以對蝕刻工序中剩余廢液為例，由于蝕刻是蝕刻藥水將導(dǎo)電層中多余的金屬銅蝕刻并去除，以使保留下來的金屬銅形成所需導(dǎo)電線路。因此，大量的金屬銅反應(yīng)生成銅離子，如果直接丟棄會造成金屬銅的浪費。目前，通常采用將鐵塊或鐵粉直接投入廢液槽中，使廢液中的氯化銅與該鐵塊或鐵粉發(fā)生置換反應(yīng)，將氯化銅中的銅離子還原為金屬銅，從實現(xiàn)金屬銅的回收利用。
然而，上述回收方法中由于無法有效控制廢液槽內(nèi)廢液中銅離子與金屬鐵的反應(yīng)速度或程度等，也不能及時將廢液中已經(jīng)反應(yīng)生成的金屬銅從廢液槽分離出，而金屬銅會被氯化鐵氧化為亞銅離子。如此，將造成不必要的浪費，還增加回收處理廢液的周期。

發(fā)明內(nèi)容
因此，有必要提供一種廢液回收裝置及廢液回收方法，以避免上述浪費，提高原料利用率，節(jié)約成本。
以下將以實施例說明一種廢液回收裝置及廢液回收方法。
一種廢液回收裝置，其包括還原劑供給裝置、與該還原劑供給裝置相對設(shè)置的廢液導(dǎo)流裝置及傳送帶。該廢液導(dǎo)流裝置包括一注入端，用于向傳送帶提供廢液。該傳送帶一端靠近該還原劑供給裝置，另一端靠近該注入端。該還原劑供給裝置用于向該傳送帶提供還原劑，
4該傳送帶的傳輸方向為使該還原劑向傳送帶靠近注入端的一端運動。該傳送帶傾斜設(shè)置使得該廢液在輸送帶上的流動方向與該傳輸方向相反。
一種廢液回收方法，其包括以下步驟首先，提供廢液回收裝置，其包括還原劑供給裝置、與該還原劑供給裝置相對設(shè)置的廢液導(dǎo)流裝置及傳送帶。該廢液導(dǎo)流裝置包括一注入端，用于向傳送帶提供廢液。該傳送帶一端靠近該還原劑供給裝置，另一端靠近該注入端。該還原劑供給裝置用于向該傳送帶提供還原劑，該傳送帶的傳輸方向為使該還原劑向傳送帶靠近注入端的一端運動。該傳送帶傾斜設(shè)置使得所廢液在輸送帶上的流動方向與該傳輸方向相反。其次，廢液導(dǎo)流裝置向傳送帶注入廢液，所述廢液在傳送帶上向靠近還原劑供給裝置的方向流動。再次，啟動還原劑供給裝置向傳送帶提供還原劑；啟動傳送帶吸附該還原劑供給裝置提供的還原劑，并將該還原劑沿與廢液流動方向相反的方向傳送，使其與廢液接觸發(fā)生反應(yīng)。
與現(xiàn)有技術(shù)相比，該廢液回收裝置與廢液回收方法通過傳送帶與還原劑供給裝置的配合，實現(xiàn)傳輸廢液的同時，對廢液進(jìn)行連續(xù)的回收處理，并將還原獲得的金屬單質(zhì)傳送至后續(xù)工序中，可及時將金屬單質(zhì)與其他未反應(yīng)的廢液分離，防止金屬單質(zhì)再次被氧化。從而提高回收效率，節(jié)省回收成本。


圖l是本技術(shù)方案第一實施例提供的廢液回收裝置的立體分解圖。圖2是本技術(shù)方案第一實施例提供的廢液回收裝置框架內(nèi)的結(jié)構(gòu)示意圖。圖3是本技術(shù)方案第二實施例提供的廢液回收裝置框架內(nèi)的結(jié)構(gòu)示意圖。圖4是本技術(shù)方案第三實施例提供的廢液回收裝置的結(jié)構(gòu)示意圖。
具體實施例方式
下面將結(jié)合附圖及多個實施例，對本技術(shù)方案提供的廢液回收裝置作進(jìn)一步的詳細(xì)說明
請一并參閱圖1及圖2，本技術(shù)方案第一實施例提供一種用于回收廢液中的金屬離子的廢液回收裝置IO，其包括框架ll、收容于框架11內(nèi)的廢液導(dǎo)流裝置101、傳送帶12與還原劑供給裝置13。
該框架ll的結(jié)構(gòu)可以根據(jù)實際需求進(jìn)行設(shè)計。本施實例中，該框架ll包括框體lll與板體112。
該框體111用于固定廢液導(dǎo)流裝置101、傳送帶12與還原劑供給裝置13。本實施例中，框體lll具有相對的設(shè)置的頂壁113a與底壁113b、相對的設(shè)置的第一側(cè)壁113c與第二側(cè)壁113d
5及與該四壁相連的第三側(cè)壁114。該頂壁113a、第一側(cè)壁113c、底壁113b與第二側(cè)壁113d依 次首尾相連，并與第三側(cè)壁114圍合形成框體111。該頂壁113a開設(shè)有貫穿頂壁113a的注入孔 115，用于注入廢液。該框體lll還設(shè)置有自底壁113b向框體lll內(nèi)延伸的第一板體116a與第 二板體116b。該第一板體116a靠近第一側(cè)壁113c，該第二板體116b靠近第二側(cè)壁113d。該第 一板體116a、底壁113b、第一側(cè)壁113c、第三側(cè)壁114與板體112圍合形成第一回收槽117a。 該第二板體116b、底壁113b、第二側(cè)壁113d、第三側(cè)壁114與板體112圍合形成第二回收槽 117b。該第一回收槽117a與第二回收槽117b的開口均朝向頂壁113a。
該板體l 12與框體11 l配合形成閉合空間，以將傳送帶12與還原劑供給裝置13收容在其內(nèi) 。該板體112與頂壁113a、第一側(cè)壁113c、底壁113b與第二側(cè)壁113d相連接。本實施例中， 板體112開設(shè)有貫穿板體112的供料口118，用于給還原劑供給裝置13供料。優(yōu)選地，該第三 側(cè)壁114與板體112之間的距離等于傳送帶12的寬度，防止廢液自傳送帶12的兩側(cè)流出。
該還原劑供給裝置13用于向傳送帶12提供還原劑，以供還原出傳送帶12上廢液中的金屬 離子使用。本實施例中，還原劑供給裝置13提供的還原劑為金屬鐵粉，用于將廢液中的銅離 子還原為金屬銅，其包括磁性傳送帶131與供料槽132。該磁性傳送帶131由磁性材料所制成 。該磁性傳送帶131的一端設(shè)置于供料槽132內(nèi)，另一端靠近傳送帶12，用于吸附供料槽132 內(nèi)的金屬鐵粉，使吸附于磁性傳送帶131的金屬鐵粉與傳送帶12相接觸，以供傳送帶12從磁 性傳送帶131上吸附起金屬鐵粉，以備反應(yīng)使用。該還原劑供給裝置13還可以與中央控制器 (圖未示)相連，以根據(jù)實際回收需要控制向傳送帶12供給還原劑的速度與質(zhì)量，使廢液中 的金屬離子被完全還原。
該供料槽132用于盛放金屬還原劑，其位置與供料口118的位置相對應(yīng)，以通過供料口 118向供料槽132內(nèi)加入還原劑。
該廢液導(dǎo)流裝置101的一端與注入孔115相對設(shè)置，另一端為注入端102。該注入端102靠 近傳送帶12，使注入孔115注入的廢液經(jīng)廢液導(dǎo)流裝置101的注入端102注入到傳送帶12。本 實施例中，廢液導(dǎo)流裝置101為一廢液導(dǎo)流板，其上設(shè)有三個凸起103。每個凸起103自廢液 導(dǎo)流裝置101向背離傳送帶12的方向(即靠近頂壁113a的方向)延伸，且具有與廢液導(dǎo)流裝 置101相同的寬度。優(yōu)選地，廢液導(dǎo)流裝置101至少在靠近傳送帶12的注入端102設(shè)置一個凸 起103，用于聚集流量不均勻的廢液，并在廢液液面寬度等于凸起103的寬度，而液面高度高 于該凸起103的高度時，廢液越過凸起103并以相同流量均勻地流至傳送帶12 。
該傳送帶12固定于第三側(cè)壁114，該廢液導(dǎo)流裝置101與還原劑供給裝置13分別設(shè)置于傳 送帶12的相對兩側(cè)。該傳送帶12用于承載廢液，使其在傳送帶12上流動的同時，與吸附于傳送帶12的還原劑 反應(yīng)，并將反應(yīng)生成物送至第二回收槽117b內(nèi)。本實施例中，傳送帶12為由磁鐵或其他可吸 引金屬的磁性材料所制成的磁性傳送帶。
該傳送帶12內(nèi)設(shè)置有四個轉(zhuǎn)動軸，其分別為第一轉(zhuǎn)動軸124a、第二轉(zhuǎn)動軸124b、第三轉(zhuǎn) 動軸124c與第四轉(zhuǎn)動軸124d，用于相互配合控制傳送帶12的傳輸方向及傳輸位置。
該第一轉(zhuǎn)動軸124a與第一回收槽117a的開口處相對設(shè)置，該第三轉(zhuǎn)動軸124c與第二回收 槽117b的開口處相對設(shè)置，該第四轉(zhuǎn)動軸124d靠近磁性傳送帶131的一端。同時，該第一轉(zhuǎn) 動軸124a與第二轉(zhuǎn)動軸124b之間的傳送帶12朝向廢液導(dǎo)流裝置101，且相對于底壁113b傾斜 設(shè)置；該第二轉(zhuǎn)動軸124b與第三轉(zhuǎn)動軸124c之間的傳送帶12垂直于底壁113b設(shè)置，該第三轉(zhuǎn) 動軸124c與第四轉(zhuǎn)動軸124d之間的傳送帶12與磁性傳輸單元131的一端相對設(shè)置。傳輸過程 中，從廢液導(dǎo)流裝置101流至傳送帶12的廢液在傳送帶12上自第二轉(zhuǎn)動軸124b向第一轉(zhuǎn)動軸 124a方向流動，同時，傳送帶12吸附磁性傳輸單元131上的還原劑，將該還原劑輸送至第二 轉(zhuǎn)動軸124b與第一轉(zhuǎn)動軸124a之間，并與流動與該傳送帶12的廢液中的金屬離子反應(yīng)，反應(yīng) 所獲得相應(yīng)的金屬單質(zhì)被磁力吸附于傳送帶12，并由該傳送帶12送至第二轉(zhuǎn)動軸124b與第三 轉(zhuǎn)動軸124c之間，使處于第二轉(zhuǎn)動軸124b與第三轉(zhuǎn)動軸124c之間的反應(yīng)物在重力的作用下落 入第二回收槽117b內(nèi)，而處于第二轉(zhuǎn)動軸124b與第一轉(zhuǎn)動軸124a之間的剩余反應(yīng)液體也在重 力的作用下流至第一回收槽117a內(nèi)。
由于本實施例中，采用金屬鐵粉作為還原劑，以還原廢液中的銅離子。因此，為防止被 還原出來的金屬銅再次被鐵離子氧化為銅離子，可通過控制傳送帶12的傳送速度、廢液輸入 量與還原劑輸入量而獲得。具體地，傳送帶12的傳送速度為v，傳送方向如圖1與圖2中箭頭 所示，傳送距離s (即第二轉(zhuǎn)動軸124b與第一轉(zhuǎn)動軸124a之間沿傳送方向的距離)，根據(jù)廢 液輸入量與還原劑輸入量確定反應(yīng)時間為t，此時需滿足t^/v。該傳送帶12的傳送方向可根 據(jù)實際設(shè)計需要而定，不限于本實施例所示。
另外，還可在第二側(cè)壁113d設(shè)置噴水口14，使噴水口14朝向處于第二轉(zhuǎn)動軸124b與第三 轉(zhuǎn)動軸124c之間的傳送帶12，以通過噴至傳送帶12的清水稀釋含鐵離子的液體，并將金屬銅 與稀釋后的液體沖入第二回收槽l 17b內(nèi)。
請參閱圖3，本技術(shù)方案第二實施例提供的廢液回收裝置20，其結(jié)構(gòu)與第一實施例提供 的廢液回收裝置10的結(jié)構(gòu)大致相同，其區(qū)別在于還原劑供給裝置23。
該還原劑供給裝置23為具有噴口231的噴灑裝置。該噴口231朝向傳送帶22，用于向傳送 帶22噴射還原劑。該還原劑供給裝置23可根據(jù)需要提供具有還原性的氣體或固體。本實施例
7中，還原劑供給裝置23提供固體粉末，噴口231與廢液導(dǎo)流裝置201設(shè)置于傳送帶22同側(cè)，并 朝向處于第一轉(zhuǎn)動軸224a與第二轉(zhuǎn)動軸224b的傳送帶22。
另外，該傳送帶22在第三轉(zhuǎn)動軸224c與第四轉(zhuǎn)動軸224d之間還可增設(shè)一導(dǎo)流轉(zhuǎn)動軸 224e，其與其余四個轉(zhuǎn)動軸配合傳輸。該導(dǎo)流轉(zhuǎn)動軸224e較第三轉(zhuǎn)動軸224c更靠近頂壁213a ，防止處于第二轉(zhuǎn)動軸224b與第三轉(zhuǎn)動軸224c之間的反應(yīng)物被送至第三轉(zhuǎn)動軸224c與第四轉(zhuǎn) 動軸224d之間的傳送帶22，保證全部反應(yīng)物流入第二回收槽217b內(nèi)。
請參閱圖4，本技術(shù)方案第三實施例提供的廢液回收裝置30，其結(jié)構(gòu)與第一實施例提供 的廢液回收裝置10的結(jié)構(gòu)大致相同，其區(qū)別在于其進(jìn)一步包括傳送單元31與烘干裝置32。
該傳送單元31具有承載面311。該傳送單元31設(shè)置于框架11的側(cè)壁，位于傳送帶12與底 壁113b之間，且承載面311朝向傳送帶12，用于承接傳送帶12傳輸?shù)姆磻?yīng)生成物。本實施例 中，傳送單元31設(shè)于第二側(cè)壁113d，其一端穿過第二側(cè)壁113d，位于第二回收槽117b內(nèi)，使 承載面311垂直于第三轉(zhuǎn)動軸124c及第二轉(zhuǎn)動軸124b之間的傳送帶12的傳輸方向。
為防止自傳送帶12落下的反應(yīng)生成物飛濺至傳送單元31以外的區(qū)域，該廢液回收系統(tǒng) 30還在傳送帶12與傳送單元31之間設(shè)置集液裝置33 ，用于匯集傳送帶12傳輸至傳送單元31的 反應(yīng)生成物，并將其經(jīng)由集液裝置33集中送至傳送單元31上。本實施例中，該集液裝置33為 一集液漏斗。
該烘干裝置32設(shè)置于傳送單元31，使反應(yīng)生成物經(jīng)傳送單元31送至烘干裝置32內(nèi)進(jìn)行烘 干，以獲得干燥的金屬單質(zhì)。優(yōu)選地，采用真空烘干機，以防止還原后金屬再次被氧化。
該廢液回收系統(tǒng)30還包括噴液裝置34。該噴液裝置34位于傳送單元31與烘干裝置32之間 ，其噴口朝向傳送單元31，用于向傳送單元31噴灑液體，以清洗置于傳送單元31上的反應(yīng)生 成物。
在使用該廢液回收裝置30對廢液進(jìn)行處理時，首先，廢液導(dǎo)流裝置101向傳送帶12注入 廢液，該廢液在傳送帶12上向靠近還原劑供給裝置13的方向流動。
啟動還原劑供給裝置13，磁性傳送帶131吸附供料槽132內(nèi)的還原劑，并傳送還原劑靠近 傳送帶12。
啟動傳送帶12，吸附磁性傳送帶131提供的還原劑，并將該還原劑沿與廢液流動方向相 反的方向傳送，同時該還原劑與廢液接觸發(fā)生反應(yīng)。
啟動噴水口14向第二轉(zhuǎn)動軸124b與第三轉(zhuǎn)動軸124c之間的傳送帶12噴灑清水，使稀釋后 的還原劑與廢液的反應(yīng)生成物經(jīng)集液裝置33匯聚后落在傳送單元31上。
啟動噴液裝置34向傳送單元31上的反應(yīng)生成物噴灑清洗液體，清洗反應(yīng)生成物。清洗后的反應(yīng)生成物經(jīng)傳送單元31送至烘干裝置32，經(jīng)烘干后得到干燥的金屬單質(zhì)。 可以理解的是，對于本領(lǐng)域的普通技術(shù)人員來說，可以根據(jù)本發(fā)明的技術(shù)構(gòu)思做出其它 各種相應(yīng)的改變與變形，而所有這些改變與變形都應(yīng)屬于本發(fā)明權(quán)利要求的保護(hù)范圍。
權(quán)利要求
1.一種廢液回收裝置，其包括還原劑供給裝置、與所述還原劑供給裝置相對設(shè)置的廢液導(dǎo)流裝置及傳送帶，所述廢液導(dǎo)流裝置包括一注入端，用于向傳送帶提供廢液，所述傳送帶一端靠近所述還原劑供給裝置，另一端靠近所述注入端，所述還原劑供給裝置用于向所述傳送帶提供還原劑，所述傳送帶的傳輸方向為使所述還原劑向傳送帶靠近注入端的一端運動，且傳送帶傾斜設(shè)置使得所述廢液在所述輸送帶上的流動方向與所述傳輸方向相反。
2 如權(quán)利要求l所述的廢液回收裝置，其特征在于，所述還原劑供給 裝置包括磁性傳送帶，其一端至少部分與金屬還原劑接觸，且所述磁性傳送帶使得吸附在磁 性傳送帶上的金屬還原劑與所述傳送帶相接觸。
3 如權(quán)利要求2所述的廢液回收裝置，其特征在于，所述還原劑供給 裝置進(jìn)一步包括一個供料槽，用于盛放金屬還原劑，所述磁性傳送帶一端收容于所述供料槽 內(nèi)。
4 如權(quán)利要求l所述的廢液回收裝置，其特征在于，所述廢液導(dǎo)流裝 置為一廢液導(dǎo)流板，所述廢液導(dǎo)流板的一端設(shè)有凸起，所述凸起自廢液導(dǎo)流板向背離傳送帶 的方向延伸，使廢液經(jīng)由所述凸起后均勻地流至傳送帶。
5 如權(quán)利要求4所述的廢液回收裝置，其特征在于，所述還原劑供給 設(shè)置于傳送帶的相對兩側(cè)。
6 如權(quán)利要求5所述的廢液回收裝置，其特征在于，所述廢液導(dǎo)流板 與傳送帶成小于90度的夾角，所述傳送帶的傳輸方向與廢液在傳送帶上的流動方向相反。
7 如權(quán)利要求l所述的廢液回收裝置，其特征在于，所述還原劑供給 設(shè)置有噴口，所述噴口朝向傳送帶，用于將還原劑噴灑至傳送帶。
8 如權(quán)利要求l所述的廢液回收裝置，其特征在于，所述框架包括設(shè) 置于框架內(nèi)的第一回收槽與第二回收槽，所述第一回收槽與第二回收槽分別設(shè)置于傳送帶的 相對兩端。
9.如權(quán)利要求l所述的廢液回收裝置，其特征在于，其還包括傳送單 元與烘干裝置，所述傳送單元設(shè)置于框架，其具有朝向傳送帶的承載面，用于承接從傳送帶 傳輸?shù)姆磻?yīng)生成物，所述烘干裝置設(shè)置于傳送單元，使反應(yīng)生成物經(jīng)傳送單元送至烘干裝置 內(nèi)，進(jìn)行烘干。
10.如權(quán)利要求9所述的廢液回收裝置，其特征在于，其還包括噴液 裝置，所述噴液裝置位于傳送帶與烘干裝置之間，并朝向傳送單元，用于向置于傳送單元上 的反應(yīng)生成物噴灑液體，以清洗反應(yīng)生成物。
11.如權(quán)利要求9所述的廢液回收裝置，其特征在于，其還包括集液 裝置，所述設(shè)置于廢液傳送單元與傳送單元之間，用于匯集廢液傳送單元傳輸至傳送單元的 液體，并將其集中送至傳送單元。
12.一種廢液回收方法，其包括以下步驟 提供如權(quán)利要求l至ll所述的任意一項的廢液回收裝置；廢液導(dǎo)流裝置向傳送帶注入廢液，所述廢液在傳送帶上向靠近還原劑供給裝置的方向 流動；啟動還原劑供給裝置向傳送帶提供還原劑；啟動傳送帶吸附所述還原劑供給裝置提供的還原劑，并將所述還原劑沿與廢液流動方 向相反的方向傳送，使其與廢液接觸發(fā)生反應(yīng)。
13.如權(quán)利要求12所述的廢液回收方法，其特征在于，其還包括對廢 液與還原劑的反應(yīng)生成物進(jìn)行清洗的步驟。
14.如權(quán)利要求12所述的廢液回收方法，其特征在于，其還包括對廢 液與還原劑的反應(yīng)生成物進(jìn)行烘干，獲得干燥的反應(yīng)生成物。
全文摘要
本發(fā)明提供一種廢液回收裝置，其包括還原劑供給裝置、與該還原劑供給裝置相對設(shè)置的廢液導(dǎo)流裝置及傳送帶。該廢液導(dǎo)流裝置包括一注入端，用于向傳送帶提供廢液。該傳送帶一端靠近該還原劑供給裝置，另一端靠近該注入端。該還原劑供給裝置用于向該傳送帶提供還原劑，該傳送帶的傳輸方向為使該還原劑向傳送帶靠近注入端的一端運動。該傳送帶傾斜設(shè)置使得該廢液在輸送帶上的流動方向與該傳輸方向相反。本發(fā)明還提供一種廢液回收方法。
文檔編號C02F1/70GK101671075SQ200810304420
公開日2010年3月17日 申請日期2008年9月8日 優(yōu)先權(quán)日2008年9月8日
發(fā)明者廖新治, 廖道明, 林承賢, 沈家弘, 陳文村 申請人:富葵精密組件(深圳)有限公司;鴻勝科技股份有限公司