本發(fā)明涉及一種真空絕緣體，所述真空絕緣體包括至少一個真空密封的包套，所述包套包圍抽真空的區(qū)域，其中在抽真空的區(qū)域中設(shè)置有芯材，例如珠光體。

背景技術(shù)：

這種真空絕緣體例如從de102013005585a1中已知。從該專利申請中已知的真空絕緣體由擴散密封的，即真空密封的包套構(gòu)成，所述包套的表面大于包套體的表面，所述包套體例如是內(nèi)部容器，包套貼靠在所述包套體上。因此例如可行的是，在包套中能夠復制包套體的突起的或者回縮的輪廓。

在de102013005585a1中描述了如下可行性：由內(nèi)套以及由外套制造真空絕緣體。兩個套組成部分的這種分開的制造一方面是耗費的，另一方面真空密封的封口由于在三維的薄膜輪廓袋上焊接的必要性是復雜的并且可能是容易出錯的。

技術(shù)實現(xiàn)要素：

本發(fā)明由此基于下述目的：改進開始提出類型的真空絕緣體，使得其制造相對簡單且可靠。

該目的通過具有權(quán)利要求1的特征的真空絕緣體實現(xiàn)。

據(jù)此提出：包套具有外部區(qū)域和由外部區(qū)域至少部分地包圍的內(nèi)部區(qū)域，其中內(nèi)部區(qū)域和外部區(qū)域通過共同的薄膜袋形成，并且其中內(nèi)部區(qū)域通過薄膜袋的反翻構(gòu)成。真空絕緣體的內(nèi)側(cè)和真空絕緣體的外側(cè)根據(jù)本發(fā)明通過呈共同的薄膜包或共同的管形薄膜形式的共同的部分形成，所述內(nèi)側(cè)與冷藏和/或冷凍設(shè)備的內(nèi)部容器相鄰，所述外側(cè)與冷藏和/或冷凍設(shè)備的外殼相鄰。

本發(fā)明基于如下基本思想：真空絕緣體的內(nèi)套，即內(nèi)部區(qū)域，以及外套，即外部區(qū)域不由兩個分開的薄膜件構(gòu)成，而是通過共同的薄膜袋構(gòu)件。

內(nèi)部區(qū)域通過如下方式構(gòu)成：薄膜袋向內(nèi)翻。由此省去了必須在復雜的焊接部位上實行封住的必要性，因為內(nèi)部區(qū)域和外部區(qū)域通過同一薄膜袋形成。

僅存在如下必要性：在用芯材填充之后真空密封地封閉薄膜袋。為此，能夠使用另一真空密封的包套，所述包套例如插到外部區(qū)域的邊緣區(qū)域上并且與該邊緣區(qū)域真空密封地連接或被封住。

薄膜袋優(yōu)選由單側(cè)打開的袋構(gòu)成，所述袋的打開的側(cè)通過外部區(qū)域的邊緣包圍而其閉合的側(cè)在反翻之后形成內(nèi)部區(qū)域的底面。

優(yōu)選提出：內(nèi)部區(qū)域具有底部，并且薄膜袋的邊緣與內(nèi)部區(qū)域的底部設(shè)置在真空絕緣體的同一側(cè)上。

優(yōu)選提出：外部區(qū)域具有環(huán)繞的邊緣或環(huán)繞的棱邊，所述棱邊通過薄膜袋的端部區(qū)域或邊緣形成。

在本發(fā)明的一個優(yōu)選的設(shè)計方案中提出：真空密封的包套部分地或者完全地由高阻隔薄膜構(gòu)成或者具有高阻隔薄膜。

優(yōu)選提出：真空密封的包套部分地或者完全地由鋁復合薄膜構(gòu)成或者具有鋁復合薄膜。

在本發(fā)明的一個尤其優(yōu)選的設(shè)計方案中提出：在薄膜袋的內(nèi)部區(qū)域和外部區(qū)域之間的過渡區(qū)域部分地或者完全地由與形成外部區(qū)域本身和/或內(nèi)部區(qū)域本身的薄膜不同的薄膜類型或材料構(gòu)成。由此可行的是，與薄膜袋的其它區(qū)域相比，給予該過渡區(qū)域另外的熱阻隔特性。

優(yōu)選地，過渡區(qū)域如內(nèi)部區(qū)域和外部區(qū)域一樣也由高阻隔薄膜構(gòu)成。

所提到的過渡區(qū)域優(yōu)選是薄膜袋的整體的組成部分。

因此例如可以考慮的是，構(gòu)成過渡區(qū)域的不同的薄膜類型是金屬化薄膜。例如可以考慮的是，其是如下薄膜，金屬層優(yōu)選鋁層被氣相擴散滲鍍到所述薄膜上。

在本發(fā)明的另一設(shè)計方案中提出：薄膜袋是方底袋。

此外能夠提出：薄膜袋是薄膜輪廓袋，所述薄膜輪廓袋具有一個或多個凹槽。

這些凹槽例如能夠通過如下方式獲得：將袋折疊，使得產(chǎn)生凹槽，并且伸出來的面被封住并且隨后被去除。

本發(fā)明此外涉及一種薄膜袋，所述薄膜袋尤其適合于制造根據(jù)本發(fā)明的真空絕緣體并且能夠為此而被使用。

薄膜袋具有至少一個外部區(qū)域和至少一個由外部區(qū)域至少部分地包圍的內(nèi)部區(qū)域，其中內(nèi)部區(qū)域通過薄膜袋的反翻構(gòu)成。

此外提出：在內(nèi)部區(qū)域和外部區(qū)域之間的過渡區(qū)域至少部分地由與形成外部區(qū)域和/或內(nèi)部區(qū)域的薄膜不同的薄膜類型構(gòu)成。

如在上文中所解釋的那樣，過渡區(qū)域優(yōu)選是薄膜袋的整體的組成部分。

優(yōu)選地，構(gòu)成過渡區(qū)域的不同的薄膜類型是金屬化薄膜

優(yōu)選的是，薄膜袋由高阻隔薄膜構(gòu)成或者具有高阻隔薄膜。

尤其有利的是，薄膜袋由鋁復合薄膜構(gòu)成或者具有鋁復合薄膜。該鋁復合薄膜具有至少一個鋁層。附加的層例如能夠通過塑料層形成。

優(yōu)選提出：薄膜袋的內(nèi)部區(qū)域和/或外部區(qū)域由鋁復合薄膜構(gòu)成。過渡區(qū)域優(yōu)選由金屬化的薄膜構(gòu)成，所述金屬化的薄膜例如通過將金屬，例如鋁氣相擴散滲鍍到基底上，優(yōu)選氣相擴散滲鍍到塑料基底上來獲得。

如在上文中所解釋的那樣，尤其有利的是，薄膜袋構(gòu)成為方底袋。

為了能夠復制包套體的，例如內(nèi)部容器的輪廓，有利的是，薄膜袋是薄膜輪廓袋，所述薄膜輪廓袋具有一個或多個凹槽，例如凹狀的凹部，所述凹部對于設(shè)備的壓縮機壁龕是所需的。

該凹槽例如能夠通過如下方式形成：薄膜輪廓袋被折疊，并且伸出來的半個側(cè)面在角區(qū)域中被封住并且被朝向封縫去除。

本發(fā)明此外涉及一種熱絕緣的容器，優(yōu)選冷藏和/或冷凍設(shè)備，所述冷藏和/或冷凍設(shè)備具有至少一個被調(diào)溫的并且優(yōu)選被冷卻的內(nèi)腔和至少一個至少局部地包圍被調(diào)溫的并且優(yōu)選被冷卻的內(nèi)腔的壁部，其中在被調(diào)溫的并且優(yōu)選被冷卻的內(nèi)腔和壁部之間存在根據(jù)本發(fā)明的真空絕緣體。

被調(diào)溫的內(nèi)腔根據(jù)設(shè)備的類型(冷卻設(shè)備，熱柜等)要么被冷卻要么被加熱。熱絕緣的容器就本發(fā)明而言具有至少一個被調(diào)溫的內(nèi)腔，其中該內(nèi)腔能夠被冷卻或加熱，使得在內(nèi)腔中產(chǎn)生低于或高于例如21℃的環(huán)境溫度的溫度。也就是說，本發(fā)明不受限于冷藏和/或冷凍設(shè)備，而是普遍涉及具有被調(diào)溫的內(nèi)腔的設(shè)備，例如也涉及熱柜或熱箱。

關(guān)于這種根據(jù)本發(fā)明的容器，根據(jù)本發(fā)明的真空絕緣體優(yōu)選是全真空系統(tǒng)，所述全真空系統(tǒng)設(shè)置在對容器或設(shè)備的內(nèi)腔限界的內(nèi)壁和容器或設(shè)備的外皮之間的空間中。將全真空系統(tǒng)理解為一種熱絕緣部，所述熱絕緣部僅僅或者主要由抽真空的區(qū)域構(gòu)成，所述抽真空的區(qū)域通過芯材填充。對該區(qū)域的限界例如能夠通過真空密封的薄膜并且優(yōu)選通過高阻隔薄膜形成。由此，能夠在容器的，優(yōu)選設(shè)備的內(nèi)壁和容器的，優(yōu)選設(shè)備的外皮之間僅存在如下薄膜體作為熱絕緣部，所述薄膜體具有通過真空密封的薄膜所包圍的區(qū)域，在所述區(qū)域中存在真空并且在所述區(qū)域中設(shè)置有芯材。作為熱絕緣部的泡沫裝置和/或真空絕緣板或者除了全真空系統(tǒng)之外的其它熱絕緣部優(yōu)選不設(shè)置在容器或設(shè)備的內(nèi)側(cè)和外側(cè)之間。

這種優(yōu)選的類型的呈全真空系統(tǒng)形式的熱絕緣部能夠在對內(nèi)腔限界的壁和體部的外皮之間延伸和/或在封閉元件的內(nèi)側(cè)和外側(cè)之間延伸，所述封閉元件例如是門、活門、蓋等。

全真空系統(tǒng)能夠被獲得為，使得由氣密的薄膜構(gòu)成的包套通過芯材來填充并且緊接著真空密封地封住。在一個實施方式中，在正常壓力或環(huán)境壓力下不僅進行填充包套而且進行真空密封地封住包套。抽真空因此通過適當?shù)貙⒁氲桨字械慕涌?，例如抽真空接管連接到真空泵上來實現(xiàn)，所述抽真空接管能具有閥。優(yōu)選地，在抽真空期間在包套外部存在正?；颦h(huán)境壓力。在該實施方式中，優(yōu)選在制造的任何時間點都不需要將包套引入到真空室中。就此而言，在一個實施方式中，在制造真空絕緣部期間能夠棄用真空室。

在一個實施方式中提出，根據(jù)本發(fā)明的容器是冷藏和/或冷凍設(shè)備，尤其是家用電器或商用的冷卻設(shè)備。例如包括如下設(shè)備，所述設(shè)備針對在家庭中、在旅館房間中、在商用廚房中或者在酒吧中的靜態(tài)的布置來設(shè)計。其例如也能夠是葡萄酒冷柜。此外，本發(fā)明也包括冷卻和/或冷凍箱。根據(jù)本發(fā)明的設(shè)備能夠具有用于連接到電流供給裝置上，尤其連接到家庭電網(wǎng)上的接口(例如插頭)和/或直立或安裝輔助裝置例如用于固定在家具壁龕內(nèi)部的調(diào)節(jié)腳或接口。所述設(shè)備例如能夠是嵌入式設(shè)備或落地式設(shè)備。

優(yōu)選地，容器或設(shè)備構(gòu)成為，使得所述容器或設(shè)備能夠通過交變電壓來運行，例如通過例如120v和60hz或者230v和50hz的家庭電網(wǎng)電壓來運行。在一個替選的實施方式中可以考慮的是，所述容器或設(shè)備構(gòu)成為，使得所述容器或設(shè)備能夠通過例如5v、12v或者24v的電壓的直流電流來運行。在該設(shè)計方案中能夠提出：在設(shè)備內(nèi)部或外部設(shè)有插接式電源，經(jīng)由所述插接式電源運行所述設(shè)備。尤其當容器具有用于對內(nèi)腔調(diào)溫的熱電式熱泵時，能夠應(yīng)用借助于直流電壓的運行。

特別地，能夠提出：冷藏和/或冷凍設(shè)備具有柜狀的造型并且具有可用空間，所述可用空間在其前側(cè)上(在箱的情況下在上側(cè)上)對于使用者而言是可進入的。可用空間能夠被劃分為多個隔間，所述隔間都在相同的或者在不同的溫度中運行。作為替選方案，設(shè)有僅一個隔間。在可用空間或隔間內(nèi)部也能夠設(shè)有貯存輔助件，例如儲物格、抽屜或瓶架(在箱的情況下也是空間分隔器)，以便確保對冷卻或冷凍物品的最佳的儲存和最佳的空間利用。

可用空間能夠通過至少一個圍繞豎直軸線可樞轉(zhuǎn)的門封閉。在箱的情況下，可以考慮圍繞水平軸線可樞轉(zhuǎn)的活門或者滑動蓋作為封閉元件。門或者其它封閉元件能夠在閉合的狀態(tài)中根據(jù)環(huán)繞的磁體密封裝置與體部基本上氣密地連接。優(yōu)選地，門或其它封閉元件也是熱絕緣的，其中熱絕緣根據(jù)泡沫裝置或者必要時根據(jù)真空絕緣板來實現(xiàn)，或者也優(yōu)選根據(jù)真空系統(tǒng)并且尤其優(yōu)選根據(jù)全真空系統(tǒng)來實現(xiàn)。在門的內(nèi)側(cè)上必要時能夠設(shè)有門儲存區(qū)域，以便也在該處能夠儲存冷卻物品。

在一個實施方式中，所述設(shè)備能夠是小型設(shè)備。在這種設(shè)備中，通過容器的內(nèi)壁所限定的可用空間例如具有小于0.5m³、小于0.4m³或者小于0.3m³的體積。容器或設(shè)備的外尺寸優(yōu)選在高度、寬度和深度方面位于直至1m的范圍中。

將真空密封的或者擴散密封的包套或?qū)⒄婵彰芊獾幕驍U散密封的連接部或?qū)⑿g(shù)語高阻隔薄膜優(yōu)選理解為如下包套或連接部或薄膜，借助于所述包套或連接部或薄膜強烈地減少到真空絕緣體中的氣體進入，使得因氣體進入而引起的真空絕緣體的導熱能力的提高在真空絕緣體的使用壽命期間是足夠低的。例如將15年，優(yōu)選20年并且尤其優(yōu)選30年的時間間期預計為使用壽命。優(yōu)選地，因氣體進入而引起的真空絕緣體的導熱能力的提高在真空絕緣體的使用壽命期間小于100％并且尤其優(yōu)選小于50％。

優(yōu)選地，包套或連接部或高阻隔薄膜的針對面的氣體通過率小于10^-5mbar*l/s*m²并且尤其優(yōu)選小于10^-6mbar*l/s*m²(根據(jù)astmd-3985來測量)。該氣體通過率適用于氮氣和氧氣。對于其它氣體分類(尤其水蒸氣)而言，同樣存在優(yōu)選在小于10^-2mbar*l/s*m²的范圍中的并且尤其優(yōu)選在小于10^-3mbar*l/s*m²的范圍中的低的氣體通過率(根據(jù)astmf-1249-90來測量)。優(yōu)選地，通過這些低的氣體通過率實現(xiàn)了較小地提高在上文中所提到的導熱能力。

從真空板的區(qū)域中已知的包套系統(tǒng)是所謂的高阻隔薄膜。在本發(fā)明的領(lǐng)域中優(yōu)選將其理解為單層或多層薄膜(所述單層或多層薄膜優(yōu)選是能封住的)，所述單層或多層薄膜具有一個或多個阻隔層(通常是金屬層或者氧化物層，其中作為金屬或者氧化物優(yōu)選使用鋁或氧化鋁)，所述阻隔層滿足在上文中所提到的作為屏障防止氣體進入的要求(導熱能力的提高和/或針對面的氣體通過率)。

上文中所提到的值或高阻隔薄膜的構(gòu)造是示例性的、優(yōu)選的說明，所述說明不對本發(fā)明進行限制。

附圖說明

本發(fā)明的其它細節(jié)和優(yōu)點根據(jù)在附圖中所示出的實施例來詳細闡述。附圖示出：

圖1示出貫穿根據(jù)本發(fā)明的真空絕緣體的剖視圖。

圖2示出根據(jù)本發(fā)明的真空絕緣體的內(nèi)部區(qū)域的部分視圖，以及

圖3示出用于制造薄膜袋的薄膜樣式，所述薄膜袋用于根據(jù)本發(fā)明的真空絕緣體。

具體實施方式

圖1以附圖標記10示出根據(jù)本發(fā)明的真空絕緣體。

真空絕緣體10包括真空密封的包套，所述包套一方面由薄膜袋f形成而另一方面由薄膜16形成，所述薄膜袋和薄膜彼此真空密封地連接或封住。

在真空密封的包套內(nèi)部存在真空。在該抽真空的區(qū)域中存在芯材，例如珠光體作為支撐體。

根據(jù)本發(fā)明，真空絕緣體包括薄膜袋f或管形袋，所述薄膜袋或管形袋具有外部區(qū)域12和內(nèi)部區(qū)域14。這些區(qū)域由真空密封的、優(yōu)選能封住的薄膜構(gòu)成，優(yōu)選由鋁復合薄膜構(gòu)成。位于其間的區(qū)域18是抽真空的并且通過芯材填充。這相應(yīng)地適用于內(nèi)部區(qū)域14的底部b和覆蓋薄膜16之間的區(qū)域。

如從圖1中所得出的那樣，包套通過如下方式形成：薄膜袋f向外或者根據(jù)圖1向上翻，使得產(chǎn)生位于內(nèi)部的區(qū)域14，所述位于內(nèi)部的區(qū)域由位于外部的區(qū)域12包圍，所述薄膜袋的打開的區(qū)域根據(jù)圖1在上方而其它是閉合的。

在區(qū)域12和14之間存在過渡區(qū)域19。

區(qū)域12、14和19是共同的薄膜袋f的所有整體的組成部分。

如從圖1中所得出的那樣，內(nèi)部區(qū)域14的底部b與薄膜袋的邊緣r位于真空絕緣體10的同一側(cè)上。邊緣r或底部根據(jù)圖1設(shè)置在上方。

在即可使用的狀態(tài)中，邊緣r和底部b位于下方。

內(nèi)部區(qū)域14用于容納內(nèi)部容器而外部區(qū)域12設(shè)置成相鄰于冷藏或冷凍設(shè)備的外殼。內(nèi)部容器例如由塑料構(gòu)成，外罩同樣由塑料構(gòu)成或者例如也由金屬構(gòu)成。

根據(jù)本發(fā)明，真空絕緣體10的或真空密封的包套的內(nèi)部區(qū)域14和外部區(qū)域12通過唯一的薄膜袋形成并且不通過必須彼此焊接的多個元件或薄膜件形成。

這隨之帶來下述優(yōu)點：根據(jù)圖1優(yōu)選僅安置唯一的焊縫，更確切地說，僅安置優(yōu)選能夠設(shè)置在平坦的面中的焊縫。該焊縫用于將覆蓋薄膜16固定在薄膜袋的或者外部區(qū)域12的環(huán)繞的邊緣區(qū)域r上或用于建立在薄膜16和外部區(qū)域12或其邊緣r之間的真空密封的連接。

優(yōu)選地，薄膜袋在區(qū)域12和14中由高阻隔薄膜構(gòu)成。相應(yīng)地這也適用于環(huán)繞的過渡區(qū)域19，所述過渡區(qū)域?qū)^(qū)域12和14彼此連接。

此外，區(qū)域12和14優(yōu)選由鋁復合薄膜構(gòu)成，而過渡區(qū)域19由金屬化薄膜構(gòu)成，所述金屬化薄膜與鋁復合薄膜12、14相比具有抵抗熱量穿過的更高的阻力。以這種方式可行的是，實現(xiàn)具有最小化的熱傳導的過渡區(qū)域19，所述過渡區(qū)域在已制成的冷藏或冷凍設(shè)備中，尤其在箱中例如位于上方。

在本發(fā)明的范圍中，也可行的是，將內(nèi)部區(qū)域14和/或外部區(qū)域12輪廓化或提供薄膜輪廓袋，所述薄膜輪廓袋具有特定的輪廓化部，所述輪廓化部匹配于已制成的設(shè)備。

因此例如可以考慮的是，在薄膜袋中構(gòu)成凹槽，所述凹槽復制壓縮機壁龕，所述薄膜袋在圖2a)中僅部分地通過其內(nèi)部區(qū)域14被示出。這通過如下方式實現(xiàn)：從根據(jù)圖2a)的狀態(tài)出發(fā)，側(cè)面區(qū)域，例如左上角被折疊，而根據(jù)圖2b)的半個側(cè)面相對于相鄰的薄膜區(qū)域通過封縫s封住并且隨后僅區(qū)域a被去除，所述半個側(cè)面以附圖標記a來表示。

因此可行的是，例如在薄膜袋的內(nèi)部區(qū)域中制造凹槽，即凹狀的凹部等。這確保：內(nèi)部區(qū)域14盡可能輪廓可靠地貼靠在內(nèi)部容器上，所述內(nèi)部容器插入到內(nèi)部區(qū)域14中。

相應(yīng)的措施顯然也能夠針對內(nèi)部區(qū)域的和/或外部區(qū)域的其它區(qū)域來實行。

圖3示出薄膜樣式，所述薄膜樣式例如由卷材構(gòu)成。該薄膜樣式具有之后的內(nèi)部區(qū)域14、之后的外部區(qū)域12和過渡區(qū)域19。

薄膜樣式由平坦的高阻隔薄膜構(gòu)成，所述高阻隔薄膜沿著以附圖標記100表示的面彼此封住，使得產(chǎn)生薄膜袋。

高阻隔薄膜能夠是單側(cè)或雙側(cè)能封住的薄膜。

從根據(jù)圖3的薄膜樣式中，能夠通過將根據(jù)圖3位于右側(cè)的薄膜側(cè)鋪到根據(jù)圖3位于左側(cè)的薄膜側(cè)上并且隨后除了下側(cè)以外環(huán)繞地封住來制造薄膜袋。在該薄膜袋上例如能夠固定有袋夾以易于操作。這些袋夾此外用作為用于薄膜袋操作的參考點。

以附圖標記120表示如下面，所述面在制造薄膜袋之后或在沿著縫s封住之后被去除，如關(guān)于圖2b)所詳細闡述的那樣。

如在那里所解釋的那樣，壓縮機壁龕例如能夠成型，角能夠被封住并且區(qū)域120能夠被去除。

以這種方式能夠制造如下薄膜輪廓袋，在所述薄膜輪廓袋中已經(jīng)加入突起的和/或回縮的輪廓，由此該薄膜輪廓袋或由其制造的真空體盡可能輪廓可靠地貼靠在內(nèi)部容器或冷藏和/或冷凍設(shè)備的外罩上。

區(qū)域14在袋底部向內(nèi)翻之后形成內(nèi)部區(qū)域，所述內(nèi)部區(qū)域貼靠在設(shè)備的內(nèi)部容器上而區(qū)域12形成外部區(qū)域，所述外部區(qū)域貼靠在設(shè)備的罩或殼體上。條帶19形成區(qū)域12和14之間的過渡區(qū)域。該過渡區(qū)域在設(shè)備中形成真空體的上部的邊緣區(qū)域。該過渡區(qū)域例如能夠設(shè)置在冷卻和/或冷凍箱的框架下方。由此，反翻進行為，使得僅自區(qū)域19起的區(qū)域向內(nèi)翻。