本技術(shù)具體涉及瓷舟，具體是一種高溫管式爐用雙層瓷舟。

背景技術(shù)：

1、在氣相硫化、磷化等實(shí)驗(yàn)中，通常采用瓷舟作為反應(yīng)容器，將硫源、磷源等物質(zhì)放置在需氣相處理物的上游。在試驗(yàn)中，反應(yīng)物與反應(yīng)氣體的接觸面積將影響著反應(yīng)的結(jié)果，而現(xiàn)有的瓷舟多為單層設(shè)計(jì)，在氣體流通的空間中，反應(yīng)氣體未能夠與瓷舟內(nèi)的反應(yīng)物充分接觸反應(yīng)，即流通至外面，進(jìn)而影響反應(yīng)物的試驗(yàn)結(jié)果。

技術(shù)實(shí)現(xiàn)思路

1、為此，本實(shí)用新型提出一種高溫管式爐用雙層瓷舟以解決上述背景技術(shù)中提出的問題。

2、為實(shí)現(xiàn)上述目的，本實(shí)用新型提供以下技術(shù)方案：一種高溫管式爐用雙層瓷舟，其包括：

3、下層瓷舟，其頂部設(shè)置有用于放置反應(yīng)物的反應(yīng)槽口一；

4、上層瓷舟，其設(shè)置在所述下層瓷舟上，所述上層瓷舟的頂部設(shè)置有反應(yīng)槽口二，所述反應(yīng)槽口內(nèi)固定設(shè)置有隔板，且所述隔板能夠?qū)⑺龇磻?yīng)槽口二分隔為煙腔和置物腔，其中，所述煙腔占所述反應(yīng)槽口二體積的1/3，所述置物腔占所述反應(yīng)槽口二體積的2/3，所述煙腔能夠與所述反應(yīng)槽口一、置物腔相連通；

5、以及頂蓋，其匹配壓蓋在所述上層瓷舟的反應(yīng)槽口二處，所述頂蓋的右端部設(shè)置有排氣孔，且所述排氣孔位于所述置物腔的上方。

6、進(jìn)一步，作為優(yōu)選，所述隔板的高度等于所述上層瓷舟高度的1/2。

7、進(jìn)一步，作為優(yōu)選，所述上層瓷舟的底面上設(shè)置有凸起并形成圈條，且所述圈條能夠匹配嵌入至所述反應(yīng)槽口一內(nèi)。

8、進(jìn)一步，作為優(yōu)選，所述上層瓷舟的底壁上且位于煙腔內(nèi)設(shè)置有多個(gè)均勻分布的煙孔，每個(gè)所述煙孔均位于所述圈條內(nèi)。

9、本實(shí)用新型采用以上技術(shù),與現(xiàn)有的技術(shù)相比具有以下有益效果：

10、1.上層瓷舟底部的三分之一區(qū)域具有孔洞，可以保證下層瓷舟所揮發(fā)的氣體通過煙孔并充滿上層瓷舟，中間有一隔板，隔板高度是上層瓷舟高度的二分之一，保證氣體可以進(jìn)入另一側(cè)與物質(zhì)反應(yīng)。

11、2.上層瓷舟的底面上設(shè)置圈條，圈條能夠嵌入至反應(yīng)槽口一內(nèi)，一方面，穩(wěn)固上層瓷舟和下層瓷舟的連接關(guān)系，另一方面，能夠阻止反應(yīng)氣體外泄，充分利用反應(yīng)氣體。

技術(shù)特征：

1.一種高溫管式爐用雙層瓷舟，其特征在于，其包括：

2.根據(jù)權(quán)利要求1所述的一種高溫管式爐用雙層瓷舟，其特征在于：所述隔板(6)的高度等于所述上層瓷舟(3)高度的1/2。

3.根據(jù)權(quán)利要求1所述的一種高溫管式爐用雙層瓷舟，其特征在于：所述上層瓷舟(3)的底面上設(shè)置有凸起并形成圈條(9)，且所述圈條(9)能夠匹配嵌入至所述反應(yīng)槽口一內(nèi)。

4.根據(jù)權(quán)利要求3所述的一種高溫管式爐用雙層瓷舟，其特征在于：所述上層瓷舟(3)的底壁上且位于煙腔(8)內(nèi)設(shè)置有多個(gè)均勻分布的煙孔(5)，每個(gè)所述煙孔(5)均位于所述圈條(9)內(nèi)。

技術(shù)總結(jié)
本技術(shù)公開了一種高溫管式爐用雙層瓷舟，其包括：下層瓷舟，其頂部設(shè)置有用于放置反應(yīng)物的反應(yīng)槽口一；上層瓷舟，其設(shè)置在所述下層瓷舟上，所述上層瓷舟的頂部設(shè)置有反應(yīng)槽口二，所述反應(yīng)槽口內(nèi)固定設(shè)置有隔板，且所述隔板能夠?qū)⑺龇磻?yīng)槽口二分隔為煙腔和置物腔，其中，所述煙腔占所述反應(yīng)槽口二體積的1/3，所述置物腔占所述反應(yīng)槽口二體積的2/3，所述煙腔能夠與所述反應(yīng)槽口一、置物腔相連通；以及頂蓋，其匹配壓蓋在所述上層瓷舟的反應(yīng)槽口二處。本技術(shù)裝置中，上層瓷舟的底面上設(shè)置圈條，圈條能夠嵌入至反應(yīng)槽口一內(nèi)，一方面，穩(wěn)固上層瓷舟和下層瓷舟的連接關(guān)系，另一方面，能夠阻止反應(yīng)氣體外泄，充分利用反應(yīng)氣體。

技術(shù)研發(fā)人員：王輝輝,崔霞,任駿杰
受保護(hù)的技術(shù)使用者：呂梁學(xué)院
技術(shù)研發(fā)日：20240423
技術(shù)公布日：2024/12/19