本實用新型涉及一種烤箱，尤其涉及一種用加熱板加熱的真空烤箱。

背景技術(shù)：

傳統(tǒng)的烤箱是通過向烤箱腔體內(nèi)吹熱風(fēng)來對工作物進行烘烤的，這種烤箱由于不是真空烤箱，因此存在的缺點是：溫度均勻性不好，烘烤的產(chǎn)品質(zhì)量不高。

技術(shù)實現(xiàn)要素：

本實用新型的目的是提供一種用加熱板加熱的真空烤箱，能保證烤箱溫度達到150℃時，溫度均勻度達到±5％℃，且氣密性好，可使得箱體內(nèi)抽真空度可達到1torr，可烘烤出質(zhì)量高的產(chǎn)品。

為實現(xiàn)上述目的，本實用新型提供一種用加熱板加熱的真空烤箱，包括外殼和置于外殼內(nèi)的箱體，所述箱體的正面設(shè)有密封箱門，所述箱體的內(nèi)腔沿著箱體的上下方向設(shè)有多層間隔設(shè)置的加熱板，所述箱體的后壁設(shè)有分布在各加熱板的上側(cè)的通孔，所述通孔在箱體的后壁外部連接有管體，所述管體的末端安裝有真空法蘭，其中一個通孔所連接的管體末端的真空法蘭連接有抽真空管路。

作為本實用新型的進一步改進，所述通孔從箱體的左側(cè)至右側(cè)分為第一列、第二列、第三列、第四列和第五列，其中，第一列和第五列通孔數(shù)量相同且一一對應(yīng)，第三列和第四列通孔數(shù)量相同且一一對應(yīng)，第三列和第四列通孔的數(shù)量少于第一列和第二列通孔的數(shù)量，第二列通孔數(shù)量少于第三列通孔數(shù)量。

作為本實用新型的更進一步改進，所述第一列和第五列通孔的數(shù)量均為六個且每個加熱板的上側(cè)均有第一列的一個通孔和第五列的一個通孔，第三列和 第四列通孔的數(shù)量均為三個，第三列通孔中的每相鄰的兩個通孔之間有兩塊加熱板，且位于最下層的加熱板的上側(cè)有第三列的一個通孔和第四列的一個通孔，第二列通孔的數(shù)量為一個且位于最下層的加熱板的上側(cè)。

作為本實用新型的更進一步改進，所述加熱板等間隔設(shè)置。

作為本實用新型的更進一步改進，所述真空法蘭為KF法蘭。

作為本實用新型的更進一步改進，所述外殼的底部設(shè)有滾輪和支撐腳。

與現(xiàn)有技術(shù)相比，本實用新型的用加熱板加熱的真空烤箱的有益效果如下：

(1)通過采用加熱板加熱烘烤，烘烤時工作物置于加熱板的表面，加熱板的溫度均勻度高，能保證烤箱溫度達到150℃時，溫度均勻度達到±5％℃，從而可烘烤出質(zhì)量高的產(chǎn)品。

(2)采用真空法蘭，可使得箱體內(nèi)抽真空度可達到1torr，從而可烘烤出質(zhì)量高的產(chǎn)品。

(3)真空法蘭采用KF法蘭，可保證氣密性，避免影響烤箱內(nèi)的溫度均勻性，保證產(chǎn)品烘烤質(zhì)量。

(4)加熱板等間隔設(shè)置，從而可使得烤箱內(nèi)溫度均勻度高，保證產(chǎn)品烘烤質(zhì)量。

通過以下的描述并結(jié)合附圖，本實用新型將變得更加清晰，這些附圖用于解釋本實用新型的實施例。

附圖說明

圖1為真空烤箱的立體圖。

圖2為箱體的立體圖。

圖3為箱體的主視圖。

具體實施方式

現(xiàn)在參考附圖描述本實用新型的實施例，附圖中類似的元件標(biāo)號代表類似 的元件。

請參考圖1-3，所述的用加熱板加熱的真空烤箱包括外殼1和置于外殼1內(nèi)的箱體2，所述箱體2的正面設(shè)有密封箱門3。所述箱體2的內(nèi)腔沿著箱體2的上下方向設(shè)有多層間隔設(shè)置的加熱板21，加熱板21能保證烤箱溫度達到150℃時，溫度均勻度達到±5％℃。所述箱體2的后壁設(shè)有分布在各加熱板的上側(cè)的通孔22，所述通孔22在箱體2的后壁外部連接有管體23，所述管體23的末端安裝有真空法蘭，其中一個通孔22所連接的管體23末端的真空法蘭連接有抽真空管路24。真空法蘭可使得箱體內(nèi)抽真空度可達到1torr。

具體而言，部分通孔22作為電源線、傳感器線的接線孔，所述通孔22從箱體2的左側(cè)至右側(cè)分為第一列、第二列、第三列、第四列和第五列，其中，第一列和第五列通孔數(shù)量相同且一一對應(yīng)，第三列和第四列通孔數(shù)量相同且一一對應(yīng)，第三列和第四列通孔的數(shù)量少于第一列和第二列通孔的數(shù)量，第二列通孔數(shù)量少于第三列通孔數(shù)量。所述第一列和第五列通孔的數(shù)量均為六個且每個加熱板21的上側(cè)均有第一列的一個通孔和第五列的一個通孔，第三列和第四列通孔的數(shù)量均為三個，第三列通孔中的每相鄰的兩個通孔之間有兩塊加熱板21，且位于最下層的加熱板21的上側(cè)有第三列的一個通孔和第四列的一個通孔，第二列通孔的數(shù)量為一個且位于最下層的加熱板21的上側(cè)。所述加熱板21等間隔設(shè)置。所述真空法蘭為KF法蘭，可保證氣密性。所述外殼1的底部設(shè)有滾輪11和支撐腳12，滾輪11方便移動，支撐腳12可保持穩(wěn)定。

使用時，將抽真空管路24連接至抽真空泵，對箱體2抽真空，將工作物置于加熱板21的表面，對工作物進行烘烤，由于加熱板21的溫度均勻度高，能保證烤箱溫度達到150℃時，溫度均勻度達到±5％℃。各加熱板21的溫度可獨立控制，也能夠保證烤箱內(nèi)溫度的均勻性。

以上結(jié)合最佳實施例對本實用新型進行了描述，但本實用新型并不局限于以上揭示的實施例，而應(yīng)當(dāng)涵蓋各種根據(jù)本實用新型的本質(zhì)進行的修改、等效組合。