技術(shù)總結(jié)
本發(fā)明公開一種雙相納米復(fù)合太陽能吸收涂層及制造方法，該涂層包括在基底上依次設(shè)有紅外高反射層、主吸收層、次吸收層和減反層，將基底用化學(xué)法清洗后置于真空爐中，然后抽真空，往爐中通入高流量氮氣，打開Ti靶，在基底沉積TiN的紅外高反射層；然后關(guān)閉Ti靶，打開AlTi合金靶，通入低流量的氧氣和氮氣，在低氧低氮環(huán)境中，在紅外高反射層上沉積雙相納米結(jié)構(gòu)主吸收層；增加氮氣流量，在低氧高氮環(huán)境中，主吸收層上沉積單相納米結(jié)構(gòu)的次吸收層；最后關(guān)閉氮氣，在高氧濃度條件下沉積減反層，關(guān)閉加熱器，自然冷卻即得到四層結(jié)構(gòu)的Ti?Al?O?N雙相納米復(fù)合太陽能吸收涂層，本發(fā)明制造的涂層吸收效率好，能量轉(zhuǎn)換效率高，具有較大推廣應(yīng)用價值。

技術(shù)研發(fā)人員：胡雪蛟;劉輝東;楊兵;章先濤;蔡耀;劉琰
受保護的技術(shù)使用者：武漢大學(xué)
文檔號碼：201610931796
技術(shù)研發(fā)日：2016.10.31
技術(shù)公布日：2017.03.15